【課題】酸化処理対象物を広範囲に渡って略均一に高周波誘導加熱を行うことが可能な酸化処理装置および酸化処理方法を提案する。
【解決手段】酸化処理装置１は、連結および分解が可能な複数の中空導電体２と中空導電体２の中空部３が連接してなる冷却剤流路５とを有して酸化処理対象物ＰＢを囲むコイル６と、冷却剤流路５に冷却剤を流通する冷却装置７と、コイル６に交流電力を印加する交流電源８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、放電電極の広い範囲から分散して放電するため、放電電極での劣化を抑制することができ、結果として活性種が安定して発生するようにすることを目的とするものである。
【解決手段】本体ケース６と、本体ケース６内に設けられた平板形状の絶縁性基板１６と、絶縁性基板１６の一方面に対向して配置された棒形状の放電電極１７と、絶縁性基板１６に接する対向電極１９と、放電電極１７と対向電極１９とに電圧を印加する電源２０とを設け、絶縁性基板１６は孔部２１を有し、この孔部２１の内面と絶縁性基板１６の一方面表面とに水分を吸着する吸着手段１８を備え、放電電極１７の先端は、孔部２１の内方略中央に位置する構成とした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極２と、中心電極２と所定の空隙部５を介して配置された筒状の周辺電極３とを有する放電容器１と、中心電極２及び周辺電極３との間に連設された複数の仕切部１６と、中心電極２表面若しくは周辺電極３表面の少なくとも一方に設けられた誘電体４と、放電容器１の一端側に設けられ、空隙部５に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、放電容器１の他端側に設けられ、空隙部５から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、中心電極２と周辺電極３との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、中心電極を回転中心として放電容器を回転せしめる回転手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】放熱性能に優れた放電型光触媒反応装置を提供する。
【解決手段】一実施形態にかかる放電型光触媒反応装置は、主面の外周部分に外周パターンを有する基板と、前記基板に接続され、前記基板の電圧によって放電する端子を有する放電部と、前記放電により活性化する光触媒を有する触媒部と、前記基板の外周を保持するとともに、前記外周パターンが形成された前記基板の外周部分に面接触する接触片を有する内ケースと、を備える。 （もっと読む）

【課題】反射板の変形を防止し、なおかつ筐体内温度を適正な温度に維持する。
【解決手段】水冷ジャケット３１に収めた紫外線ランプ３０と、前記紫外線ランプ３０の光を反射する主反射板３２とを筐体２２に収め、前記紫外線ランプ３０の直射光、及び前記主反射板３２の反射光を照射する紫外線照射器７において、前記主反射板３２の熱を回収して前記筐体２２の外に排出する熱回収機構としての水冷機構３３と、前記筐体２２内の雰囲気の熱を前記水冷機構３３に伝熱して当該水冷機構３３に回収するヒートシンク３４と、を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】電極と誘電体の間における接合強度や誘電体の絶縁耐力に優れ、十分な気流発生効果を発揮することができる気流発生装置を提供する。
【解決手段】気流発生装置１１は、第１の誘電層３１および第２の誘電層３２の異なる２つの誘電層を積層して構成され、第１の誘電層３１および第２の誘電層３２の少なくとも一方が可撓性材料からなる誘電体と、第１の誘電層３１の表面に設けられた第１の電極２３と、第２の誘電層３２の、第１の誘電層側とは異なる側の表面に設けられた第２の電極２４とを備える。そして、第１の電極２３と第２の電極２４との間に電圧を印加して、第１の誘電層３１の表面に接する気体の一部をプラズマ化することにより気流を発生させる。 （もっと読む）

【課題】イオン交換膜を用いた比較的大きな力を発生するアクチュエーターを提供する。
【解決手段】第１の可動部と、第２の可動部と、絶縁膜と、を含み、前記第１の可動部は、第１のイオン交換膜と、前記第１のイオン交換膜の一方の面である第１の面に形成された第１の電極と、前記第１のイオン交換膜の前記一方の面に対向する他の一方の面である第２の面に形成された第２の電極と、を有し、前記第２の可動部は、第２のイオン交換膜と、前記第２のイオン交換膜の一方の面である第３の面に形成された第３の電極と、前記第２のイオン交換膜の前記一方の面に対向する他の一方の面である第４の面に形成された第４の電極と、を有し、前記絶縁膜の一方の面である第５の面が前記第２の面に接し、前記絶縁膜の前記一方の面に対向する他の一方の面である第６の面が前記第３の面に接することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス上で液滴を駆動する装置及び方法を提供する。
【解決手段】マトリクス上にある１つ以上の液滴４を操作するための、複数の配列素子から構成されるアクティブマトリクス液滴駆動装置であって、各配列素子は対応する配列素子回路を備え、配列素子回路は上面基板電極２８および駆動電極３８Ａ及び３８Ｂを含んでおり、それらの間に液滴が配置され、所定の時間変化電圧波形Ｖ_１またはＶ_１の逆論理である時間変化電圧波形Ｖ_２のいずれか一方を前記駆動電極に選択的に印加することによって配列素子にデータを書き込むように構成され、かつ、前記Ｖ_２と所定のオフセット電圧の和で表される時間変化電圧波形を上面基板電極に印加する回路を有する、アクティブマトリクス液滴駆動装置、及びこの装置を用いる液滴駆動方法。 （もっと読む）

【課題】処理対象のガス成分を含むガスに対して電圧を与えて大気圧中でプラズマ発生させるとき、ガスを効率よく処理するプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置は、電力が給電される棒状電極と、内部空間を備え、前記棒状電極が前記内部空間内に設けられる金属製の筒状筐体と、を有する。前記棒状電極の第１の端部には、前記筒状筐体の一方の端部の第１の端面に対向し、前記第１の端部を保護するように電極側誘電体バリア層が設けられ、前記筒状筐体の前記第１の端面には前記ガスを供給する供給口が設けられ、前記筒状筐体の前記第１の端面には前記供給口の周りを覆うように筐体側誘電体バリア層が設けられる。前記棒状電極の前記第１の端部における周上エッジ部分を、前記筒状筐体の前記第１の端面上に前記長手方向に平行に投影したとき、前記周上エッジ部分は前記筐体側誘電体バリア層上あるいは前記供給口上の領域に投影される。 （もっと読む）

【課題】より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設した第２電極１３と、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材１９と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】誘電体バリア放電方式の放電部の耐久性を向上させる。
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体バリア放電方式のプラズマ源の近傍に、コロナ放電方式のプラズマ源を設置し、コロナ放電によって生成されるプラズマを補助プラズマとして用いて、誘電体バリア放電によって生成される主プラズマの放電維持電圧を低下させる。 （もっと読む）

【課題】窒素酸化物ガス等の分解すべきガスをプラズマ生成領域に効率よく流入、流出させて、ガスを効率よく分解するガス分解装置およびガス分解方法を提供する。
【解決手段】分解すべきガスが一方向に流れるダクトと、前記ダクト内に、前記ガスの流れ方向に沿うように並列配置された複数の細管と、を有する装置を用いて、ガス分解を行う際、前記ダクトに前記ガスを流す。このとき、前記複数の細管のそれぞれの内壁の、前記ガスの流れ方向の異なる位置に設けられた一対の電極間に交流電圧を印加してプラズマを生成する。このプラズマの生成により、前記ガスの流れの下流方向に前記ガスを吸引する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置２０は、第１絶縁被覆線１を経糸（縦糸）、第２絶縁被覆線２を緯糸（横糸）として平織（経糸２本、緯糸２本を最小単位として、経糸と緯糸とを交互に上下に交差させる織り方）で織り合せた平織構造（ファブリック構造）からなるプラズマ生成部８を備える。第１絶縁被覆線１と第２絶縁被覆線２間に交流電圧（電源３）を印加することで、第１絶縁被覆線１と第２絶縁被覆線２間に生じる微小な隙間においてプラズマＰを生成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理が効率よく行われるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０００においては、アノード１０６０及びカソード１０６２が流路１０１８の途中にある。カソード１０６２は、それぞれ、アノード１０６０より流路１０１８の上流側及び下流側にある。アノード１０６０及びカソード１０６２は、流体通過面を横切り、流体通過面の一部のみを占める。アノード１０６０とカソード１０６２とは流路の軸方向に間隔を置いて対向する。アノード１０６０はパルス電源１００４の正極に電気的に接続され、カソード１０６２はパルス電源の負極に電気的に接続される。アノード被覆は、絶縁体からなり、導電体からなるアノード本体を被覆する。凹構造がアノード被覆の表面に形成される。凹構造の群はアノードの表面に分布する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理が効率よく行われ、電極の絶縁が容易になり、内壁に沿う沿面放電が抑制されるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０００は、流路１０１８を持つチャンバ１０１０が絶縁体からなる。流路１０１８の軸方向に非平行な方向に延在する溝１０３６が流路１０１８を囲む内壁１０３４に刻まれる。第２の電極１０１４及び第３の電極１０１６は、それぞれ、第１の電極１０１２より流路１０１８の上流側及び下流側にある。第１の電極１０１２と第２の電極１０１４とは流路１０１８の軸方向に間隔を置いて対向する。第１の電極１０１２と第３の電極１０１６とは流路１０１８の軸方向に間隔を置いて対向する。第１の電極１０１２はパルス電源１００４の第１の極に電気的に接続され、第２の電極１０１４及び第３の電極１０１６はパルス電源１００４の第２の極に電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】高温ガスの流量及び温度の制御範囲を拡大できるようにする。
【解決手段】高温ガスを生成するためのプラズマガス生成装置であって、内管２の先端に設けられ中心に陰極開口７を有する陰極３と、陰極３の後方に接触配置されて陰極３に電子を供給する浮遊電極４と、内管２と浮遊電極４との間を介して陰極開口７に陰極ガス５を導く陰極ガス流路６と、陰極３及び内管２の外側に設けられ陰極開口７の下流に陽極開口１１を有する陽極８と、内管２と陽極８との間を介して陽極開口１１に陽極ガス９を供給する陽極ガス流路１０と、陽極８の外側に設けた外側部材１２と、外側部材１２と陽極８との間を介して希釈ガス供給装置１３からの希釈ガス１４を供給する希釈ガス流路１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマトーチを利用した微粒子の生成に関する技術において、トーチ全体の大きさを小さくでき、エネルギー効率が高く、さらに原料材料を均一に加熱することができる、微粒子生成装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る微粒子生成装置１００は、直流プラズマトーチ５０と、直流プラズマトーチ５０から離隔して対向配置された対向電極１０と、材料気化反応室３５を側面側から囲繞する壁面部１１とを、備える。直流プラズマトーチ５０は、リング状の磁石３と、円筒形状であり、磁石３が円筒の空洞内部に配置され、磁石と所定の距離だけ離隔している移行型プラズマ用電極１と、直流プラズマトーチ５０の略中央部に設けられた原料材料通路部２５とを、備えている。 （もっと読む）

【課題】被処理物を均一にプラズマ処理することのできる表面処理装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置１００は、内筒１０、外筒２０、電極３０、被処理物供給部４０、ガス導入部５０および回転駆動機構６０を有している。外筒２０は内筒１０に対して軸回転可能に設けられ内筒１０を収容する。被処理物供給部４０は外筒２０と内筒１０との間の反応空間Ｖに被処理物を供給する。ガス導入部５０は、反応空間Ｖにガスを供給する。電極３０は内筒１０および外筒２０の周面に互いに対向してそれぞれ設けられたプラズマ発生用の電極であり印加電極３２および接地電極３４を含む。そして、回転駆動機構６０は内筒１０と外筒２０とを相対的に軸回転させる。 （もっと読む）

【課題】珪素粒子の欠陥密度を可及的に低減すること。
【解決手段】珪素粒子１を積載する第一の電極２と、水素プラズマの発生領域を挟んで第一の電極２に対向して配設されている第二の電極４と、第一の電極２の温度が第二の電極４の温度よりも高くなるように温度制御して第一の電極２と第二の電極４との間に原料ガスの対流を起こす温度制御手段（ヒーター３、冷却管６）と、を備え、原料ガスの対流によって第一の電極２に積載されている珪素粒子１を水素プラズマ中に浮遊させて水素プラズマに曝露する。 （もっと読む）

【課題】大型化することなく、流入口と流出口とでの圧力差を十分に確保することができる気体搬送装置を実現する。
【解決手段】積層体１０は、それぞれに櫛歯電極９１０Ａ〜９１０Ｄ、９２０Ａ〜９２０Ｄが形成された絶縁体層９３Ａ〜９３Ｄからなる中間積層体を備える。絶縁体層９３Ａ〜９３Ｄの櫛歯電極形成領域には、スルーホールＴＨが配列形成される。中間積層体の積層方向の両面には、配列形成されたスルーホールＴＨを所定パターンで連通する連通溝が形成された絶縁体層９２，９４が配設される。さらに外層には、気体の流入口および流出口となるスルーホールＴＨを備えた絶縁体層９１，９５が配設される。櫛歯電極９１０Ａ〜９１０Ｄ、９２０Ａ〜９２０Ｄには、８相のパルス電圧信号Ｖ１〜Ｖ８を印加する。このパルス電圧信号により、気体はスルーホールＴＨと連通溝からなる搬送経路中で搬送される。 （もっと読む）