【課題】脱水素化合物の製造方法において、酸化工程における水素転化率の低下を抑制できると共に、二酸化炭素の生成を抑制できる脱水素化合物の製造方法、及びそのための触媒充填方法を提供する。
【解決手段】脱水素触媒充填層と酸化触媒充填層を併有し、且つ、該酸化触媒充填層において混入している脱水素触媒の量を１．０重量％未満とした反応装置を用いる脱水素化合物の製造方法、並びに、脱水素触媒を充填した後、脱水素触媒の粉塵が鎮静化した後に酸化触媒を充填する触媒充填方法、及び、少なくとも脱水素触媒の充填を、酸化触媒充填部分又は形成された酸化触媒充填層と、脱水素触媒充填部分との間を縁切りした後に行う触媒充填方法、並びに、反応装置内にそれらの触媒充填方法によって脱水素触媒充填層と酸化触媒充填層とが形成された反応装置を用いる脱水素化合物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、不純物としてチオフェン系化合物を含む炭化水素供給原料中の芳香族化合物を水素化する改良された方法において、水素化反応器中でニッケル系触媒の存在下で実施する方法に関する。本改良は、チオフェン系化合物が分解し、実質的にニッケル触媒のバルクに吸収され、それによって実質的に触媒の寿命が延びる程十分に高い反応温度で水素化反応器をランの開始から運転することを含む。
（もっと読む）

【課題】本発明は、（１）光照射の代わりに交流電界印加で酸化チタンの触媒効果を発現させる、（２）触媒効果が発現するための閾値電界を低下させる、（３）キャリア（電子と正孔）の再結合を抑制して触媒効果を向上させる、ことができる電界印加型触媒デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化チタンとその内部に存在する導電相からなる複合粒子を含む多孔質触媒機能体と、該多孔質触媒機能体に交流電界を印加するための電極とを具備していることを特徴とする電界印加型触媒デバイス。導電相が針状、または／およびラメラ状であることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、１５０μmより小さい容積平均粒度を有する、コバルト及び亜鉛の共沈殿粒子を含む触媒に関する。本発明のもう１つの面は、そのような触媒をフィッシャートロプシュ方法において使用することである。本発明は、さらに、コバルトイオン及び亜鉛イオンを含む酸性溶液並びにアルカリ性溶液が接触され、沈殿物が分離されてなる、コバルト及び酸化亜鉛を含む触媒の調製方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、以下の工程
（Ｉ）微孔質材料、結合剤、ペースト剤および溶剤を含有する混合物を製造する
（ＩＩ）混合物を混合し、圧縮する
（ＩＩＩ）圧縮した混合物を成形して成形体を得る
（ＩＶ）成形体を乾燥する、および
（Ｖ）乾燥した成形体を焼成する
からなる、微孔質材料および少なくとも１種の珪素含有結合剤を含有する成形体を製造する方法に関する。結合剤として有機珪素化合物を使用する。本発明は更にこの方法により製造される成形体、特に有機合成、特にトリエチレンジアミン（ＴＥＤＡ）を製造する方法への触媒としてのその使用に関する。 （もっと読む）

（Ｉ）ミクロ孔材料と、結合剤と、ペースト化剤とを溶剤とを含有する混合物を製造する工程、（ＩＩ）混合物を混合及び緻密化する工程、（ＩＩＩ）緻密化した混合物を成形して成形体を得る工程、（ＩＶ）成形体を乾燥する工程及び（Ｖ）乾燥した成形体をか焼する工程を含む方法により製造可能である、ミクロ孔材料と結合剤としての少なくとも１つの有機ケイ素化合物とを含有する成形体を触媒として使用することにより特徴付けられる、不均一触媒の存在でメタノール及び／又はジメチルエーテルとアンモニアとの反応によりメチルアミン類を連続的に合成する方法。 （もっと読む）

サイクリックホスホン酸ジエステルが、ルイス酸の存在下でキラル1,3-ジオールと活性化ホスホン酸を反応させることにより生成される、1,3-ジオールからサイクリックホスホン酸ジエステルを合成する方法を説明する。 （もっと読む）

Ｍｏ−及びＶ−含有多金属酸化物材料を水熱製造するにあたり、多金属酸化物材料の元素構成成分の原料として、実質的に主に、酸化物、水和酸化物、酸素酸及び水酸化物よりなる群から選択される原料を使用し、かつ一部の原料が、その最大酸化数より低い酸化数で元素構成成分を含む製造方法。
（もっと読む）

本発明は、ＩＴＱ−３０として知られている層状微孔質の結晶性ゼオライト物質であって、合成されたときの無水状態において次のモル比で表される化学的組成を有する該ゼオライト物質に関する：x(M_1/nXO₂)：yYO₂：SiO₂：zR（式中、ｘは０を含む０．１未満の値を示し、ｙは０を含む０．１未満の値を示し、ｚは０．１未満の値を示し、ＭはＨ^＋、ＮＨ_４^＋、１種若しくは複数種の＋ｎ価の無機カチオン又はこれらの混合カチオンから選択されるカチオンを示し、Ｘは１種若しくは複数種の＋３の酸化状態の化学元素を示し、Ｙは１種若しくは複数種の＋４の酸化状態の化学元素を示し、Ｒは１種若しくは複数種の有機化合物を示す）。本発明は、該ゼオライト物質の製造法であって、加熱によって結晶化される反応混合物中へ１種若しくは複数種の有機添加剤を存在させることを含む該製造法並びに有機化合物の分離法と変換法における該ゼオライト物質の使用にも関する。 （もっと読む）

式［Ｍ（ＰＲ^３Ｒ^４Ｒ^５）_ｎＸ_ｍ］_ｐ（式中、Ｒ^１は、Ｈ、アルキル、アリールまたはアシルであり；Ｍは、ＶＩＩＩ族の遷移金属であり；Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、アルキル、アリール、アルコキシル、フェノキシルおよびこれらの組合せからなる群から選択され；Ｘは、ハロゲンまたは陰イオンであり；ｎは、１、２、３または４であり；ｍは、１または２であり；そして、ｐは少なくとも１である）の遷移金属触媒を利用する、コデイン、モルヒネまたはそれらの類似体の、ヒドロコドン、ヒドロモルホンまたはそれらの類似体への触媒的変換方法。 （もっと読む）

アルミノシリケートゼオライト、及びＵＺＭ−１５と称される置換態を合成した。これらのゼオライトは、少なくとも２つの炭素原子を有している少なくとも１つの有機基を有する有機アンモニウムカチオンをテンプレートとして用いることで調製される。このようなカチオンの例としては、ジエチルジメチルアンモニウムカチオンがある。上記テンプレートは、必要に応じてその他の有機アンモニウムカチオン、アルカリ金属及びアルカリ土類金属を含む。これらのＵＺＭ−１５物質は種々のプロセスによって脱アルミニウム化され、ＵＺＭ−１５ＨＳ組成物を生成する。上記ＵＺＭ−１５及びＵＺＭ−１５ＨＳ両組成物は、環状炭化水素の非環状炭化水素への転換及びオレフィンオリゴマー化などの種々のプロセスにおける触媒又は触媒担持体として有用である。 （もっと読む）

ＵＺＭ−８及びＵＺＭ−８ＨＳと称されるミクロ多孔アルミノシリケートゼオライト及びその置換型の族を調製した。これらのＵＺＭ−８組成物は、ジエチルジメチルアンモニウム又はエチルトリメチルアンモニウムカチオンなどの１つ又は複数の有機アンモニウムカチオン、そして必要に応じて構造規定剤としてのアルカリ及び／又はアルカリ土類カチオンを用いて調製された。上記ＵＺＭ−８組成物は以下の実験式、


で表され、独自のＸ線回折パターンを有している。ＵＺＭ−８ＨＳは上記ＵＺＭ−８ゼオライトに由来するものであり、ＵＺＭ−８組成物よりもそのアルミニウム含有量が少ない。これらのＵＺＭ−８ＨＳは以下の実験式、


によって表され、そして酸抽出及びＡＦＳ処理などの処理によって調製される。上記ＵＺＭ−８及びＵＺＭ−８ＨＳは両方とも種々の炭化水素転換プロセスにおいて有用である。 （もっと読む）

流動接触分解（ＦＣＣ）中におけるような、炭化水素を反応させるのに適する触媒組成物は少なくとも３０％の中程度の孔径のゼオライト、カオリン、リン化合物及び高密度の非反応性成分を有する摩耗抵抗性粒状物を含んでなる。非反応性成分の例はアルファ−アルミナである。該触媒はまた高表面積の反応性アルミナを含有することができる。 （もっと読む）

有機過酸化水素溶液または有機過酸化水素水溶液を、ハロゲン化物および強酸を含有する反応媒体を使用しながら、貴金属触媒の存在下で、水素および酸素を含有する非爆発性のガス状の混合物から直接合成により製造する際、反応を、反応のあいだステンレス鋼の表面と反応器を通過するガス状の混合物とが持続的に接触する箇所がない場合に、ステンレス鋼反応器中で反応器材料の腐蝕が生じることなく実施することができる。 （もっと読む）

固定床水素化処理システム、さらに、既存の仮定床水素化処理システムをアップグレードする方法は、コロイドまたは分子触媒を使用して１つまたは複数のスラリ相反応炉内の重油原料を予備的にアップグレードし、多孔質担持触媒を使用して１つまたは複数の固定床反応炉内のアップグレードされた原料をさらに水素化処理することを伴う。コロイドまたは分子触媒は、触媒前駆体組成物を重油原料の中に入れて緊密に混合し、原料の温度をコロイドまたは分子触媒をその場に形成するための前駆体組成物の分解温度よりも高くすることにより形成される。他の方法では大きすぎて固定床触媒の孔の中に拡散できないアスファルテンまたは他の炭化水素分子は、コロイドまたは分子触媒によりアップグレードすることができる。１つまたは複数のスラリ相反応炉を構築し、既存の固定床システムの１つまたは複数の固定床反応炉から上流に配置し、および／または１つまたは複数の既存の固定床反応炉から転換することができる。
（もっと読む）

本発明は、留出油沸点範囲原料ストリームをバルク金属水素化触媒の存在下に水素化することによる低硫黄留出油生成物の製造方法に関する。前記触媒は、ｉ）モリブデン、タングステンおよびそれらの混合物からなる群から選択される第ＶＩＢ族金属成分；ｉｉ）バナジウム，ニオブ、タンタルおよびそれらの混合物からなる群から選択される第Ｖ族金属成分；およびｉｉｉ）ニッケル、コバルト、鉄およびそれらの混合物からなる群から選択される第ＶＩＩＩ族金属成分を含み、前記金属成分は、酸化物として計算して、触媒の重量を基準として触媒の少なくとも５０重量％を構成し、金属成分間のモル比は、式（第ＶＩＢ族＋第Ｖ族）：（第ＶＩＩＩ族）によって表して、０．３５：１〜２：１の範囲である。 （もっと読む）

６価クロム酸化物系触媒と、クロム種に対して過剰モルの固体還元剤とを攪拌状態下で接触させ、３０〜１０００℃の範囲の温度に得られた混合物を付すこととを含む６価クロム酸化物系触媒の還元法。この方法は簡単であり、低コストであり、毒性のリスク無しに廃棄しうる永久還元クロム触媒を得ることができる。 （もっと読む）

水供給部（１０８）と、メタン化対象のガスを含んでいるガス供給部（１０１）とを使用するメタン化アセンブリであって、反応装置アセンブリ（１１４）と、ガス配送冷却アセンブリとを含み、反応装置アセンブリ（１１４）は、複数のメタン化反応装置（１１４Ａ、１１４Ｂ、１１４Ｃ）を有し、各メタン化反応装置は、反応装置アセンブリへ流入されたガスをメタン化する装置であり、ガス配送冷却アセンブリは、ガス供給部から各メタン化反応装置へガスを配送するとともに、供給部から供給された水と、次のメタン化反応装置に搬送される各メタン化反応装置から排出された排出物とを混合し、その混合物を次のメタン化反応装置に運ぶように適合されている。
（もっと読む）

本発明は、ＳｉＣｌ_４をＨＳｉＣｌ_３に接触脱ハロゲン水素化するための方法に関し、この場合、この方法は、ガス状Ｈ_２／ＳｉＣｌ_４を含有する出発材料混合物を、抵抗加熱器の少なくとも１個の加熱エレメントと直接接触させることを特徴とする。この加熱エレメントは、金属または金属合金から成り、かつ変換を実施するために加熱される。 （もっと読む）

本発明は、炭化水素供給原料のハイドロプロセッシングに適する硫黄含有触媒組成物であって、モリブデン、タングステン、及びそれらの混合物から選択されたVIB族金属成分、バナジウム、ニオブ、タンタル、及びそれらの混合物から選択されたV族金属成分、及びニッケル、コバルト、鉄、及びそれらの混合物から選択されたVIII族金属成分を含み、(酸化物として計算された)金属成分が、触媒の少なくとも50重量％を構成し、金属成分間のモル比が、以下の式：(VIB族+V族)：(VIII族)＝0.5〜2：1を満足する触媒に関する。この触媒は、良好な芳香族除去性とともに、硫黄除去において高い活性を示すことが見出された。 （もっと読む）