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Fターム[4H003AB39]の内容

洗浄性組成物 (67,184) | 陰イオン性界面活性剤 (6,220) | 陰イオン性界面活性剤(一般) (6,218) | リン酸系化合物(一般) (163) | モノオルトリン酸 (134) | 酸素含有基を持つもの (50)

Fターム[4H003AB39]に分類される特許

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【課題】鉛を含む高融点はんだを実装した電子部品を洗浄する際、水すすぎにて鉛崩壊現象を抑制することができ、すすぎ剤を使用した場合と同等の洗浄性を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1):


(式中、Rは炭素鎖8〜72の直鎖若しくは分岐鎖の不飽和または飽和のアルキル基又はアルキレン基を、nは2〜4を示す。)で表わされ、かつ、非水溶性のポリカルボン酸系化合物、(B)リン酸エステル系界面活性剤、及び、(C)有機溶剤を含むはんだ付けフラックス用洗浄剤組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】泡立ちが良く、且つ、低刺激性で肌に優しい洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄剤組成物は、下記成分(A)を1〜15重量%、下記成分(B)を25〜50重量%含有する。
成分(A):アルキルリン酸又はその塩、N−アシルアミノ酸又はその塩、及びN−アシル−N−カルボキシアルキルグリシン又はその塩から選択される1以上のアニオン性界面活性剤
成分(B):下記式(1)で表されるデカグリセリンモノアルキルエーテル
1O−(C362)n−H (1)
(式中、R1は炭素数14〜18のヒドロキシル基を有していてもよい直鎖状又は分岐鎖状脂肪族炭化水素基を示す。nはグリセリンの重合度を示し、10である) (もっと読む)


【課題】毛髪洗浄後のしっとり感とまとまり感を髪に付与できる毛髪洗浄剤用の組成物を提供することである。
【解決手段】成分(A)一般式(1)に示す化合物と、成分(B)ジヒドロキシル化合物とを含有することを特徴とする組成物。
【化1】
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【課題】安定性に優れた非水組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式(1)で示される成分(a)多鎖多親水基型化合物と成分(b)油性成分又は非水溶媒とを含有し、かつ実質的に水分を含有しないことを特徴とする非水組成物。
【化1】
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【課題】 本発明の目的は、アミラーゼ、セルラーゼおよびペクチナーゼから選ばれる少なくとも1種の酵素と、浸透性・湿潤性に優れかつ酵素の活性を阻害しないアニオン界面活性剤とを含み、作業環境性、浸透性、湿潤性、洗浄性に優れた洗浄剤組成物および洗浄方法を提供することである。
【解決手段】 本発明は、アミラーゼ、セルラーゼおよびペクチナーゼから選ばれる少なくとも1種の酵素(A)と、炭素数8〜18の脂肪族アミンのアルキレンオキサイド付加物をアニオン化したアニオン界面活性剤(B)とを含む、洗浄剤組成物である。 (もっと読む)


【課題】洗浄性及び起泡性に優れる液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される非イオン性界面活性剤(A)及びアニオン性界面活性剤(B)を含有してなる液体洗浄剤組成物。
【化1】


式中、Rは炭素数8〜24のアルキル基又はアルケニル基;AO及びAOは、それぞれ独立にオキシエチレン基及び/又はオキシプロピレン基;m+nは0.5〜100の数であり、m及びnのいずれか一方は0でない。 (もっと読む)


【課題】殺カリシウイルス効果に優れ、さらに取り扱い上の安全性も高い殺カリシウイルス剤組成物及び、その使用方法を提供する。
【解決手段】1,4−ビス(3,3’−(1−デシルピリジニウム)メチルオキシ)ブタンジブロマイドと、エチレンジアミン四酢酸塩を有効成分とした殺カリシウイルス剤、及び、1,4−ビス(3,3’−(1−デシルピリジニウム)メチルオキシ)ブタンジブロマイドをエチレンジアミン四酢酸塩存在下でカリシウイルスと接触させることを特徴とする殺カリシウイルス方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】 洗浄性と再汚染防止性に優れ、洗濯物に帯電防止性を付与することができ、また洗濯物を消臭することのできるドライクリーニング用洗浄剤組成物及びそれを用いたドライクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 テルペン系溶剤を5容量%以上含む溶剤を洗浄用溶剤として用いるドライクリーニングにおいて、該洗浄用溶剤に添加されるドライクリーニング用洗浄剤組成物であって、リン酸エステル化合物及びアルカノールアミンを含有するドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】低起泡性で泡切れ性にも優れ、かつ優れたパーティクルの除去性及びリンス性を実現する電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】式(1)で表されるアニオン性界面活性剤を含有する電子材料用洗浄剤で、0.2重量%水溶液の20℃におけるロス・マイルス試験による起泡力が50mm以下で、泡の安定度が5mm以下である電子材料用洗浄剤。


[R1及びR2は炭素数1〜6のアルキル基で、R1とR2の炭素数の合計は2〜7;R3は炭素数1〜3のアルキレン基;R4は炭素数2〜4のアルキレン基;X-は−COO-、−OCH2COO-、−OSO3-、−SO3-又は−OPO2(OR5-であって、R5は水素原子又はR1(C=O)a−N(R2)−R3−(OR4b−で表される基;M+はカチオン;aは0又は1;bは平均値であって0〜10を表す。] (もっと読む)


【課題】 低起泡性で泡切れ性にも優れ、かつ優れたパーティクルの除去性及びリンス性を実現する電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有するアニオン成分と、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、炭素数0〜25のアンモニウムカチオン、特定のアミン又はアミジン化合物にプロトンが付加したカチオンからなる群から選ばれる1種以上のカチオン成分からなるアニオン性界面活性剤(A)を含有する電子材料用洗浄剤であって、(A)の0.2重量%水溶液の20℃におけるロス・マイルス試験により測定される起泡力が50mm以下であり、泡の安定度が5mm以下であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路等に用いられる、銅配線が施された半導体素子または表示素子の配線工程におけるドライエッチング後に残存するエッチング残渣を短時間で完全に除去でき、かつ銅配線素材や絶縁膜材料等を酸化または腐食しない洗浄液を提供する。
【解決手段】基板上に銅配線1、シリコン窒化膜2およびシリコン酸化膜3を堆積し、その上にレジストを塗布し、現像後、続いてドライエッチングを行い、残存したレジストを除去し、その後にエッチング残渣4を洗浄する洗浄液であって、該洗浄液中の硝酸濃度が0.005〜5重量%、硫酸濃度が0.001〜10重量%であり、かつ、硫酸/硝酸重量比が、1〜100およびフッ素化合物の濃度が0.005〜10重量%であり、塩基性化合物を添加してpHが3〜7に調整された水の濃度が80重量%以上であることを特徴とする洗浄液。 (もっと読む)


【課題】泡の持続性に優れ、連続的に形状の揃ったより多くの泡を発生することができ、また、大きなリングを使用しても割れにくいシャボン玉液組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるアニオン界面活性剤(A)、下記一般式(2)で表される非イオン界面活性剤(B)、及び両性界面活性剤(C)を含有することを特徴とするシャボン玉組成物である。
−O−(EO)−X・・・・(1)
(式中、Rは分岐型の炭素数8〜15であるアルキル基を表し、EOはオキシエチレン基を表し、nは0〜10の整数であり、Xはアニオン性親水基を表す。)
−O−(AO)−H・・・・(2)
(式中、Rは分岐型の炭素数8〜15であるアルキル基を表し、AOは炭素数が2〜4のオキシアルキレン基を表し、nは1〜25の整数を表す。AOの付加形態はランダム付加、ブロック付加又はこれらの混合付加である。) (もっと読む)


【課題】肌に対して刺激が少なく、汎用性の高い、特に弱酸性領域及び硬水中での良好な泡立ちを持った洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるリン酸モノエステル(A)、一般式(3)で表されるリン酸モノエステル(C)をAとCの合計100重量部に対してAを5〜60重量部、Cを40〜95重量部の割合で含有する洗浄剤組成物:


(式中、R1及びR3は、それぞれ炭素数8〜18の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示し、X1、X3、Y1及びY3は、それぞれ水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミン又はアンモニウムを示し、エチレンオキシド平均付加モル数Nは1〜2の数を示す)。 (もっと読む)


本発明は、洗浄組成物、及び多様な基材の洗浄のために該洗浄組成物を使用する方法、及びこのような洗浄組成物を製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】皮膚および毛髪に対し低刺激であって、起泡力が高く、泡質が良好で、泡持ちが良く、使用感、使用性の優れた洗浄料を提供する。
【解決手段】(a)特定のポリアルキルグルコシド誘導体〔例えば、ポリ(ラウリルグルコシドヒドロキシプロピルスルホン酸ナトリウム)、ポリ(ラウリルグルコシドヒドロキシプロピルリン酸ナトリウム)など〕を0.1〜30質量%と、(b)モノエステル化率が70%以上の特定のポリグリセリンモノ脂肪酸エステルを3〜50質量%含有する洗浄料。 (もっと読む)


【課題】洗浄時において微細化したパーティクルの再付着防止性や指紋などの有機物の洗浄性に優れ、効率的な高度洗浄を可能にする半導体基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】一般式(1)のノニオン性界面活性剤および一般式(2)のノニオン性界面活性剤から選ばれる1種以上のノニオン性界面活性剤(A)、アニオン性界面活性剤(B)並びに水(C)を含有してなる半導体基板用洗浄剤。


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【課題】低粘度で流動性に優れた界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)リン酸エステル又はその塩と、(B)グリセロールのアルキレンオキシド付加物とを含有する界面活性剤組成物。 (もっと読む)


【課題】浴室、洗面所などで発生する黒カビに対して効果を示し、生体に対して安全、かつ衣服などの生地を傷めず、安価である防カビ剤、カビ用洗浄剤、防カビ効果を有する樹脂、及びカビ発生抑制方法を提供する。
【解決手段】防カビ作用の有効成分としてシステインを用いる。システインを、防カビ剤、カビ用洗浄剤、樹脂等に配合し、カビ発生箇所に施与することでカビの繁殖を防ぎ、又は抑制することができる。このシステインの配合された防カビ剤、カビ用洗浄剤、又は樹脂等は、クラドスポリウム(Cladosporium)属、アルタナリア(Alternaria)属、又はオウレオバシディウム(Aureobasidium)属に属するカビに対して好ましく用いられる。 (もっと読む)


本発明は、表面上の汚れをクリーニングするために適当なクリーニング組成物に関する。本発明は、また、第1成分として本発明のクリーニング組成物と、第2成分として吸収剤とを含んでなる、表面、ことに汚れた表面をクリーニングするキットに関する。
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本発明は、(i)リン酸、二リン酸またはポリリン酸のエステル;(ii)下記一般式(I):



(式中、基R1、R2、R3、R4およびR5は、各々同じかまたは異なり、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアシル基である)で表されるベンゾトリアゾール誘導体;(iii)一般式:R6−PO−(OH)2 (II)(式中、基R6はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアリールアルキル基である)で表されるホスホン酸;ならびに(iv)酸源を含有する、腐食しやすい金属または合金の表面の洗浄用酸性組成物に関する。本発明は、さらに使用溶液および洗浄方法に関する。
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