【課題】布地の洗濯又は処置の用途に用いるための補助組成物であって、洗濯プロセス中に布地の洗浄及び布地柔軟化の両方が可能な洗濯洗剤組成物を提供する。
【解決手段】油中水型エマルションを含んでなる、（ｉ）モンモリロナイト粘土等の粘土と、（ｉｉ）乳化形態のシリコーンとの混合体を含み、前記油中水型エマルションが、シリコーンを含んでなる連続相と、水と漂白剤とを含んでなる不連続相とにより構成され、帯電ポリマー布地柔軟増強成分をさらに含んでなる、補助組成物。 （もっと読む）

【課題】光触媒及びアパタイト複合体並びにシクロデキストリンの効果により、優れた洗浄効果を発揮するとともに、二酸化ケイ素により水分の吸収による光触媒の効果低減と粉末団結を防ぐことができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】洗浄剤を、光触媒及びアパタイト及び二酸化ケイ素、若しくは光触媒とアパタイトの複合体粒子及び二酸化ケイ素、若しくは光触媒と二酸化ケイ素の複合体粒子と、シクロデキストリン粒子と、を含有する粉末とする。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する有機物汚染やパーティクル汚染を、銅配線の腐蝕を引き起こすことなく効果的に除去しうる洗浄剤及びそれを用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】１分子中にカルボキシル基を２つ有する有機酸と１分子中にカルボキシル基を３つ以上有する有機酸を洗浄剤成分として用い、更に特定のアミノポリカルボン酸を用いることにより、銅配線の腐蝕を引き起こすことなく、半導体デバイスの表面に存在する有機物汚染やパーティクル汚染を効果的に除去しうる効果を達成しうる。 （もっと読む）

Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物から酸化銅エッチ除去するための非常に水性の酸性洗浄組成物であって、その組成物は、Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物上の銅再析を防止するかもしくは実質的に除去する、組成物。上記組成物は、フォトレジスト後灰分、エッチ後Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物を洗浄するために特に有用である。本発明はまた、銅エッチ残渣を、フォトレジスト後灰分、エッチ後Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物から洗浄するためのプロセスを提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、エレクトロニクス材料等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができ、かつ、リンス時に洗浄剤成分が素早く除去できる水溶性洗浄剤組成物を提供する
【解決手段】
（Ａ）１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、
（Ｂ）式：Ｒ−（ＰＯ）_ｎ−（ＥＯ）_ｍ−ＯＨ
で表される非イオン性界面活性剤、
（Ｃ）式：Ｒ−（ＥＯ）_ｌ−ＯＨ
で表される非イオン性界面活性剤、及び
（Ｄ）有機酸
を含有する水溶性洗浄剤組成物であって、以下の（１）及び（２）の関係式を同時に満たす水溶性洗浄剤組成物。


［式中の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）は各々の成分の重量％を示す。］ （もっと読む）

アニオン性置換，窒素含有置換，及びアルコキシ置換を含有する汚れ放出ポリマーを包含する新しい布地ケア組成物が開示されている。特に、アニオン性置換基，窒素含有置換基，及びアルコキシ置換基を有する変成ポリサッカライドを含有する布地ケア組成物及びその形成方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】人体への影響が少なく、かつ、さびとの反応速度が速いさび除去剤を提供する。
【解決手段】蓚酸および蓚酸のアミン塩を、蓚酸の濃度として１質量％以上４０質量％以下含有し、その中和率が５０％以上９８％以下である、さび除去剤水溶液。 （もっと読む）

１１個、１６個、若しくは２１個の炭素原子を有し、少なくとも２つのアルデヒド基、若しくはヒドロキシルアルコール基、少なくとも３つの分枝、及び３つ以下の炭素−炭素二重結合を含む、非環式ポリアルデヒド並びにポリアルコール。 （もっと読む）

【課題】洗濯後の被洗物に柔軟性を付与しながら、洗濯時の再汚染を防止することが可能な、保存安定性に優れた衣料用液体洗浄剤組成物を目的とする。
【解決手段】本発明の衣料用液体洗浄剤組成物は、下記一般式（１）で示される非イオン性界面活性剤（Ａ）と、第３級アミン（Ｂ）と、水不溶性シリコーン化合物（Ｃ）と、ＳＯ_３基又はＳＯ_４基を有する陰イオン性界面活性剤（Ｄ）とを含有することを特徴とする。
［化１］


［式中、Ｒ^１は炭素数８〜２２の疎水基であり、Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基もしくは炭素数２〜６のアルケニル基であり、−Ｘ−は連結基を示し、ＥＯはエチレンオキサイド基を示し、ＰＯはプロピレンオキサイド基を示す。ｎ及びｍはこれらの基の平均付加モル数を表し、ｎは３〜２０の整数であり、ｍは０〜６の整数である。］ （もっと読む）

【課題】基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を選択的に除去できる組成物であって、上記組成物に対して同様に露出している可能性のある金属に破壊的化学作用を及ぼさない組成物を提供することを課題とする、また、極微量の酸化シリコンを呈し、一般的に絶縁体に対するエッチング速度の低い組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するのに適切な組成物であって、ａ）少なくとも約５０重量％の、テトラフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール及びアルキレングリコールエーテルからなる群より選択される溶媒；ｂ）約０．００５〜約０．８重量％のフッ素ソース；ｃ）上限約４９．９重量％の水；及び、ｄ）上限約２０重量％の腐食抑制剤を含むことを特徴とする組成物を含む。また、本発明は、基板からフォトレジスト及び／又はエッチング残渣を除去する方法であって、上記の組成物と基板を接触させることを含むことを特徴とする方法にも関する。 （もっと読む）

本開示は、少なくとも１つのカチオン性ポリマー及びアニオン性界面活性剤を含む安定した色の維持及び／又は再生のための組成物、並びにそれを提供するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】香料を基材表面にデリバリするのに好適な香料デリバリーシステムを提供する。
【解決手段】特定の種類の一級アミン化合物及び選択された種類の有益剤、例えばアルデヒド又はケトンの形態の香料を、液体又は粒状基質に別個に添加することにより形成される有益剤デリバリーシステムである。基材表面がこうしたデリバリーシステムの水溶液又は分散液で処理される場合、アミン化合物が存在しない場合より長い期間、有益剤がその効果を表面に提供するような方法で、有益剤は基材表面に間接的に暴露及び好ましくは付着される。こうした有益剤デリバリーシステムは、洗濯洗剤又は他の布地処理製品中に組み込むのに特に好適である。 （もっと読む）

【課題】
鉄粉等の金属粉、鉄錆、その他の金属酸化物、更には油脂等の重質の汚れが付着した車両の塗装面や作業着やウエス等の繊維類は通常の洗浄方法では全く取れないか、取るのに多大の苦労を要していたが、これらの汚れを塗装面や繊維その他の素地上に悪影響を与える事無く、極めて安全、簡便に除去出来る洗浄剤を提供する。
【解決手段】
チオカルボン酸及びチオカルボン酸塩の１種又は２種以上の化合物０．５〜６０重量％と酸化防止剤０．１〜６０重量％を有効成分として含有する組成物を金属粉汚れ除去剤として使用する事。 （もっと読む）

マイクロエマルション又はプロトマイクロエマルションで使用するための溶媒系であって、溶媒は、δｄが１５〜約１８、δｐが０〜約８、δＨが０〜約１２のハンセンパラメータを有し、含まれる溶媒の最終的なハンセンパラメータが、δｄが１５〜約１８、δｐが約２〜約８、δＨが約５〜約１２を有するように選択される。 （もっと読む）

【課題】医療機器の洗浄方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ¹は炭素数４〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示し、ｍは１〜５の整数を示す。）で表わされる塩基性アミノ酸誘導体又はその塩を含有する医療機器用洗浄剤組成物水溶液に医療機器を浸漬するか、該水溶液の水流中に医療機器を置くか、又は超音波振動を与えつつ該水溶液と医療機器を接触させる、医療機器の洗浄方法。 （もっと読む）

以下の構造を含む約１重量％〜約９０重量％の非対称ジヒドロカルビル第四級アンモニウム化合物を含む洗濯処理組成物であり、


式中、Ｒ_１はＣ_１２〜Ｃ_２２ヒドロカルビル鎖を含み、Ｒ_２は分枝状であり得るＣ_６〜Ｃ_１２ヒドロカルビル鎖を含み、Ｒ_１はヒドロカルビル鎖中にＲ_２よりも少なくとも２個多く炭素原子を有し、Ｒ_３及びＲ_４は各々Ｃ_１〜Ｃ_４ヒドロカルビル、Ｃ_１〜Ｃ_４ヒドロキシヒドロカルビル、ベンジル、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｘＨ（式中、ｘは約１〜約１０の値を有する）及びこれらの混合物からなる群から選択され、Ｘ⁻はアニオンであり、約１重量％〜９０重量％のアニオン性界面活性剤であり、洗濯処理組成物は、非水溶性凝集塊の最小限の形成もなしに、十分な柔軟化、静電気防止効果を提供する。
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本発明は、
（ｉ）アニオン性洗浄界面活性剤と、
（ｉｉ）０重量％〜１０重量％のゼオライトビルダーと、
（ｉｉｉ）０重量％〜１０重量％のホスフェートビルダーと、
（ｉｖ）０重量％〜１５重量％のケイ酸塩とを含む、粉末を調製するためのプロセスに関連し、
このプロセスは、
（ａ）揮発性化合物を含むスラリーを形成する工程と、
（ｂ）ノズルを通じて乾燥装置内にスラリーを噴霧する工程と、
（ｃ）スラリーを乾燥させて粉末を形成する工程とを含み、
スラリーは、
（Ｉ）スラリーがノズルに入る温度において、スラリーは揮発性成分の蒸気圧と同等以上の圧力にあり、スラリーは、揮発性化合物の蒸気圧が乾燥装置内の圧力を上回るような温度でノズルに入るか、又は
（ＩＩ）スラリーがノズルに入る際に、揮発性成分は超臨界状態であり、乾燥装置内の条件は、揮発性成分が乾燥装置に入る際に、揮発性成分の少なくとも一部が気体状であるようなものであるか、のいずれかの条件で、ノズルに入る。 （もっと読む）

【課題】ハンダ付けした部品の隙間に残存するフラックス残渣の洗浄に好適なフラックス用洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物からなる成分（Ａ）を７５．０〜９９．２重量％、アルカノールアミンである成分（Ｂ）を０．５〜１０．０重量％、及び、炭素数１〜６のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸及び／又はその塩である成分（Ｃ）を０．３〜５．０重量％含有するフラックス用洗浄剤組成物。下記式（Ｉ）において、Ｒ¹は炭素数１〜８の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、ｎは１〜４である。
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洗濯処理組成物であって、０．０１〜０．９９の置換度（ＤＳ）、及びブロック性度（ＤＢ）を有し、ＤＳ＋ＤＢが少なくとも１．００、又はＤＢ＋２ＤＳ−ＤＳ^２が少なくとも１．２０である、置換セルロース及び洗濯補助成分を含む組成物。 （もっと読む）

多量の低アルカリ含有量で因襲的なアルカリ清浄剤よりも優れた清浄力を有し、飲用水において、および例外的な硬水においてさえも、１ガロン当たり約１／４０オンスから約１／１０オンスに希釈された場合であってさえも増大されたスケール制御性を有する効果硬質表面、医療器具および他の金属成分（部品、道具、家庭用品、容器、機器）の清浄において使用するためのアルカリ濃縮洗浄組成物。本発明の組成物は、使用中においてその優れた清浄力およびスケール制御性を維持する。 （もっと読む）