【課題】硬質表面に付着した血液汚れを常温でしかも短時間で除去可能な、医療器具用の洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（ａ１）で表されるポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマーの１種以上 ０．５〜２０重量％
ＨＯ−（ＥＯ）ｘ−（ＰＯ）ｙ−（ＥＯ）ｚ−Ｈ （ａ１）
（ｂ）下記一般式（ｂ１）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルの１種以上 ０．５〜２０重量％
Ｒ¹−Ｏ−〔（ＥＯ）ｓ−（ＰＯ）ｔ〕−（ＥＯ）ｕ−Ｒ² （ｂ１）
（ｃ）アルカノールアミン類 １〜２０重量％、及び
（ｄ）アルカリ金属の水酸化物及びアルカリ金属の珪酸塩から選ばれる一種以上の無機アルカリ剤 １〜１５重量％
を含有し、（ａ）と（ｂ）の重量比（ｂ）／（ａ）が０．２〜５であり、（ｃ）と（ｄ）の重量比（ｄ）／（ｃ）が０．１５〜５である医療器具用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】濁り（白化）や粉ふきがなく透明性に優れると共に、発汗現象が起こりにくく、乾燥後の変形が小さく、歩留まりに優れた透明固形石鹸の提供。
【解決手段】本発明の透明固形石鹸は、式（１）で示される化合物（Ａ）を２〜２０質量％、脂肪酸塩（Ｂ）を３０〜８０質量％、水（Ｃ）を５〜２５質量％含有する。
【化１】


（式中、ｎは２〜６の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】重大な金属腐食を伴わずにマイクロエレクトロニクスのデバイスを洗浄するのに有用であり、ＩＬＤに適合する洗浄製剤を提供する。
【解決手段】（ａ）フッ化物イオンを提供する少なくとも１種のフッ化物化合物、（ｂ）アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物のアミンまたはアンモニウム化合物とのオリゴマー型またはポリマー型結合体である少なくとも１種の「褐変」アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物、および（ｃ）水を含有する、半水性洗浄製剤を提供する。かかる製剤は、（ｄ）少なくとも１種の極性、水混和性有機溶媒、（ｅ）ｐＨ７以上、好ましくはｐＨ約９.５ないし約１０.８の最終組成物を産生するのに十分な量の、少なくとも１種の金属イオン不含塩基、および、１種またはそれ以上の（ｆ）多価アルコール、および（ｇ）界面活性剤を含む他の任意成分も含み得る。 （もっと読む）

【課題】重大な金属腐食を伴わずにマイクロエレクトロニクスのデバイスを洗浄するのに有用であり、ＩＬＤに適合する洗浄製剤を提供する。
【解決手段】（ａ）アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物のアミンまたはアンモニウム化合物とのオリゴマー型またはポリマー型結合体である、少なくとも１種の「黄変」または「褐変」アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物、（ｂ）少なくとも１種の遊離アミン、および、（ｃ）少なくとも１種の有機溶媒または少なくとも１種の有機溶媒および水を含有する、フッ化物不含の有機溶媒をベースとする洗浄製剤を提供する。かかる製剤は、（ｄ）ｐＨ７以上、好ましくはｐＨ約９.５ないし約１０.８の最終生成物を産生するのに十分な量の、少なくとも１種の金属イオン不含塩基、および、（ｅ）多価アルコール、（ｆ）金属キレート化剤および（ｇ）界面活性剤を含む他の任意成分も含み得る。 （もっと読む）

【課題】油類によって汚染された土壌、特に重油等の石油系化合物、中でもＣ重油に汚染された土壌を効果的に洗浄することのできる、優れた土壌浄化剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ１）下記一般式（１）で表される化合物、及び、下記一般式（２）で表される化合物の少なくともいずれかと、（Ｂ）有機アミン化合物を含有することを特徴とする土壌浄化剤組成物である。
Ｒ^１−Ｏ−（ＡＯ）_ｎ−Ｈ （１）
Ｒ^２−ＣＯ−（ＡＯ）_ｎ−Ｏ−Ｒ^３ （２）
ただし、前記一般式（１）及び前記一般式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭素数８〜１６の直鎖又は分岐のアルキル基を示し、Ｒ^３は炭素数１〜８の直鎖又は分岐のアルキル基を示し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、ｎはＡＯの平均付加モル数であって、２〜８の数を示す。 （もっと読む）

【課題】人体への安全性や環境負荷低減の観点から疑問がある界面活性剤を使用することのない洗浄剤組成物であって、従来の界面活性剤を洗濯作用主剤とした合成洗剤と同等以上の洗濯性能、使い勝手が得られる、有機系キレート剤を洗濯作用主剤とする洗浄剤組成物及びそれを用いた洗濯方法を提供する。
【解決手段】易分解性であるアミノカルボン酸系の有機系キレート剤の塩（以下、有機系アルカリキレート剤）を必須成分とし、さらに再汚染防止剤を含有し、界面活性剤を含有しない無りんの洗浄剤組成物を溶解した洗濯液を用いて衣料を洗濯する。 （もっと読む）

本発明は、特定の結合基を介して結合された、フタロシアニンとモノアゾ色素との分子の組合せである化合物を含む、新たな組成物に関する。更なる態様は、織物材料のための改善されたシェーディング方法であり、また、織物をシェーディングするためのこれらのシェーディング組成物の使用である。 （もっと読む）

【課題】高硬度水下でのクレイ分散性と鉄沈着抑制能とを高レベルで両立できる、洗剤用添加剤に好適な、共重合体組成物とその製造方法を提供する。また、そのような共重合体組成物を含む洗剤組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の洗濯用洗剤または洗浄用組成物は、下記ｉ）およびｉｉ）を含む共重合体組成物を含む。
ｉ）重量平均分子量が約１０，０００〜約５０，０００であり、下記（ａ）〜（ｃ）を含む、共重合体、ａ）モノエチレン性不飽和ジカルボン酸（塩）由来の構造単位を３０〜６０ｍｏｌ％；ｂ）モノエチレン性不飽和モノカルボン酸（塩）由来の構造単位；ｃ）エステル結合もアミド結合も有さないスルホン酸（塩）基含有単量体由来の構造単位；および
ｉｉ）１２，０００ｐｐｍ以下の残存モノエチレン性不飽和ジカルボン酸（塩）単量体。 （もっと読む）

【課題】半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。
【解決手段】組成物が、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 （もっと読む）

２０〜５０ポリエチレンオキシド単位を含む内側ポリエチレンオキシドブロックと、１０〜５０ポリエチレンオキシド単位を含む外側ポリプロピレンオキシドブロックとを有する両親媒性水溶性アルコキシル化ポリアルキレンイミンポリマーを含む、洗濯洗剤及び洗浄組成物であって、特にこのようなアルコキシル化ポリアルキレンイミンに関して、ポリエチレンオキシド単位とポリプロピレンオキシド単位との比が、主鎖内に存在するポリアルキレンイミン単位の数の平方根に比例的に関係する、洗濯洗剤及び洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】安全性が高く、且つ優れた抗菌作用を示す抗菌剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）アミノポリカルボン酸系キレート剤及び／又はリン酸系キレート剤、
（Ｂ）カテキン類、
を含有する抗菌剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく、適度にコントロールされたエッチング性を付与することで、強固に付着した微小なパーティクルを基板表面から脱離させ、更に界面活性剤を用いて脱離したパーティクルを洗浄剤中に安定に分散させることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤を提供することにある。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５未満であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属を同じ洗浄ラインで洗浄処理することができ、水のすすぎが不必要で、防錆・防食を目的とした薬剤を別途配合することなく使用することができ、且つ、安全性・環境適合性の良い金属洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｇ）を含有するものとする；（ａ）炭素数１０〜１２のジカルボン酸 １〜２０重量％、（ｂ）アミノアルコール系アミン １〜１５重量％、（ｃ）脂環式アミンのエチレンオキサイド付加物 １〜２０重量％、（ｄ）金属イオン封鎖剤（キレート剤） ０．１〜５重量％、（ｅ）エーテル型非イオン界面活性剤 ０．１〜１０重量％、（ｆ）グリコールエーテル ５〜５０％、（ｇ）水 ５重量％以上。 （もっと読む）

【課題】マイクロエレクトロニクス基板洗浄のためのアンモニア不含洗浄組成物、特に高感度多孔性誘電体、低κまたは高κの誘電体並びに銅金属被覆を特徴とするマイクロエレクトロニクス基板の洗浄方法を提供すること。フォトレジストのストリッピング、プラズマ生成有機、有機金属および無機化合物由来の残渣の洗浄方法、および平坦化工程由来の残渣の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】非求核性、正荷電対イオンを含有する１種またはそれ以上の非アンモニア産生強塩基および１種またはそれ以上の腐食阻害溶媒化合物（該腐食阻害溶媒化合物は、金属と錯体形成できる少なくとも２つの部位を有する）を含有する洗浄組成物の使用により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

（Ａ）少なくとも１つの界面活性剤；並びに（Ｂ）（ｉ）界面活性特性を有する抗微生物剤；（ｉｉ）疎水性物質；及び（ｉｉｉ）極性溶媒を含む、抗微生物組成物を含む製剤を開示する。 （もっと読む）

布地を処理するための組成物。本発明の組成物は、布地が標準的な洗濯プロセス全体を行う必要なく、嗅覚認識及び／又は布地の外観などの布地の種々の特性を改善するために使用され得る。布地を処理するための方法もまた開示される。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造の間にウェハの化学機械平坦化（ＣＭＰ）後の半導体ウェハの洗浄に関し、金属、特に銅、相互接続を含むウェハの後ＣＭＰ洗浄用アルカリ薬品を提供する。
【解決手段】残留スラリーパーティクル、特に銅または他の金属パーティクルは金属を十分にエッチングする、表面に堆積物を放置する、十分な汚染物を与える、ことをせずに半導体表面から除去され、同時に金属を酸化および腐食から保護する。さらに、少なくとも１つの強キレート剤は溶液中で金属イオンを錯化するために存在し、誘電体からの金属除去を促進しかつウェハ上への再堆積を防止する。 （もっと読む）

本願は、香料原材料、香料系、並びにかかる香料原材料及び／又はかかる香料系を含む消費者製品に加えて、かかる香料系、及び消費者製品を製造並びに使用するプロセスに関する。本明細書に開示される送達系を含む香料組成物は、かかる香料原材料が特徴にバリエーションをもたらすことができ、またかかる組成物が所望の匂いプロファイルを提供することができるため、香料業界の選択肢を広げる。 （もっと読む）

【課題】洗浄性に優れ、被洗浄物の持込による洗浄液の劣化が少なく、さらに引火点がなく、人体や環境への影響が少ないウエハ又は板状物の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｅ）を含有することを特徴とするウエハ又は板状物の洗浄剤組成物である。
（ａ）下記一般式（１）で示されるアルキルポリグルコシド ５〜４０重量％
Ｒ−Ｏ−（Ｇ）ｎ−Ｈ ……（１）
（式中Ｒは炭素数１〜２２の直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｇは炭素数５〜６の還元糖を示し、ｎは１〜５である。）
（ｂ）金属イオン封鎖剤（キレート剤） １〜２０重量％
（ｃ）アルカリ剤 １〜３０重量％
（ｄ）エーテル型非イオン界面活性剤 １〜３０重量％
（ｅ）水 残部 （もっと読む）