【課題】洗浄時には豊かな泡立ちと泡持続性を示すが、すすぎ時には瞬時に泡が消え、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）炭素数８〜２２の炭化水素基と、硫酸エステル基又はスルホン酸基とを有する陰イオン界面活性剤１〜４０質量％、（ｂ）炭素数８〜２２の脂肪酸又はその塩、及び（ｃ）炭素数３〜１２の有機ジアミンを含有し、（ｂ）／（ｃ）の質量比が０．１〜８である手洗い用食器洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、基板への残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるフェノール系化合物（Ａ）またはこの塩を０．０１〜１０重量％と水を必須成分として含有し、１重量％水溶液の２５℃における表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．０１重量％未満である電子材料用洗浄剤。


［式中、Ｘ^１〜Ｘ^５はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表す。］ （もっと読む）

【課題】アルカリ金属の水酸化物を実質的に使用せずに、高いスケール付着抑制効果と熱変性油に対する高い洗浄性を有する、硬質物品の自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリアクリル酸又はその塩及びアクリル酸とマレイン酸のコポリマー又はその塩から選ばれるポリマー、（ｂ）メタ珪酸塩及びオルソ珪酸塩から選ばれる珪酸塩、並びに（ｃ）炭酸塩を、特定条件で含有する、硬質物品の自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い磁気ディスク基板用洗浄剤、および磁気ディスク基板の洗浄方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】 分子内に１個以上のアミノ基および１個以上のスルホン酸基を有する化合物（A）またはその塩、ならびに水を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも第１剤と第２剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記第１剤がアミン化合物を含有し、前記第２剤が酸化剤を含有し、さらに炭酸アルキレンを組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】２６〜４０質量％の水酸化ナトリウムとエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩を含有する洗浄剤組成物において、常温、つまり−５〜４０℃において長期間結晶析出、あるいは凍結することのない安定で且つ高濃縮化した硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分として水酸化ナトリウムを２６〜４０質量％、（Ｂ）成分としてエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩、（Ｃ）成分としてトリエチレンテトラアミン六酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミン二コハク酸およびこれらの塩から選択される少なくとも１種の可溶化剤、および（Ｄ）成分として水を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】イオン性分との相溶性に優れた水溶性パウチを提供する。
【解決手段】液体組成物を収容する水溶性パウチであって、前記水溶性パウチが、ビニルアルコール及びカルボン酸のコポリマーを含むフィルムから作製されており、前記パウチ中に含まれる該液体組成物が、カルボキシレート類、ホスホネート類、及びこれらの混合物から成る群から選択される少なくとも１つの溶解したイオン性成分、前記液体組成物の５重量％〜１５重量％の水を含み、且つ前記パウチが、真空成形・水平型・製袋−充填−密封プロセスを使用して加工される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を清浄するために使用される、洗浄剤組成物に関し、より具体的には、フラットパネル・ディスプレイの分野に適用される、高濃度の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）０．１〜２０重量部の量のアルカリ金属ヒドロキシル化合物；（Ｂ）０．１〜３０重量部の量の、以下の式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤：


式中、Ｒ₁は水素またはメチルであり；Ｒ₂は水素またはメチルであり；ｎは０〜１０の整数であり；および、ｍは４〜２０の整数である；（Ｃ）０．１〜１０重量部の量のアニオン性界面活性剤；（Ｄ）０．１〜２０重量部の量のキレート剤；（Ｅ）０．１〜２０重量部の量の添加剤；および（Ｆ）洗浄剤組成物１００重量部に対する、残部の量の水を含む、洗浄剤組成物が開示される。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】ケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの酸洗作業において、安全面、効率面で問題のある手作業による酸洗方法に替えて、タンク洗浄装置を用いて無人化、自動化による酸洗方法、及びこの自動酸洗方法に好適な高い洗浄効果を得ることができる酸洗浄剤を提供する。
【解決手段】硝酸、フッ酸、硫酸、有機酸、多価アルコール、粘性助剤、錯化合物、消泡剤を含有した構成をもつ酸洗浄剤、及びこの酸洗剤を使用してタンク洗浄装置を用いて行うケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの自動酸洗方法。 （もっと読む）

【課題】動物用シャンプーを少ない工程にて安全に製造する技術を提供する。
【解決手段】動物用シャンプーは、オキシアルキレングリコール、洗浄剤、および溶剤を含んでおり、オキシアルキレングリコールは、１，２−アルキレングリコールの水酸基にアルキレンオキシドが付加および付加重合の少なくとも一方によって結合されており、水酸基に結合されたアルキレンオキシドのモル数の平均値が０．５〜５である。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】低浴比の濯ぎ条件下でも、衣料に優れた柔軟性をもたらす衣料の処理方法の提供。
【解決手段】下記工程１〜工程３からなる衣料の処理方法。
工程１：下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、アミン又はその酸塩、及び陰イオン性界面活性剤を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比＝１．６〜２０の洗浄剤組成物を用いて、浴比３〜１５の条件下で衣料を洗浄する工程
工程２：工程１で使用した洗浄水を衣料から脱水する工程
工程３：工程２で得られた衣料を、柔軟剤組成物と浴比３〜２０の条件下で接触させる工程
（Ａ）：式Ｒ^１−Ｘ−〔（ＥＯ）_ｎ／（ＰＯ）_ｍ〕−Ｒ^２の非イオン性界面活性剤
（Ｒ^１は炭化水素基、Ｘは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−、Ｒ^１−Ｘ−の炭素数は８〜２２、ｎは５〜２５、ｍは０〜５、Ｒ^２はＨ又は炭素数１〜３の炭化水素基）
（Ｂ）：式Ｒ^３−Ｏ−〔（ＥＯ）_ｎ１／（ＰＯ）_ｍ１〕−Ｈの非イオン性化合物
（Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素基、ｎ１は５〜２５、ｍ１は０〜５） （もっと読む）

【課題】金属表面を酸洗する際、腐食抑制効果が強く、しかも抑制剤濃度が変化しても腐食抑制率の変化が小さい金属の酸洗浄用腐食抑制剤、および洗浄方法を提供する。
【解決手段】第一アミノ基及び／又は第二アミノ基を有するポリアルキレンポリアミン（Ａ）のＣ_３−Ｃ_１５アシル化誘導体（α）を含み、該アシル化誘導体（α）の含有量が、酸液１Ｌに対して０．１〜５００００ｍｇである金属の酸洗浄用腐食抑制剤。および該洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物で浸漬することにより洗浄する。 （もっと読む）

【課題】繊維製品に付着したグラム陰性菌を効果的に除菌できる組成物および除菌方法の提供。
【解決手段】亜鉛化合物、下記式の化合物、過酸化物、過酸前駆体を含有する組成物。
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【課題】酵素をより高濃度に溶解することができる界面活性剤含有組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物及びその塩から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ａ）、界面活性剤（Ｂ）及び水（Ｃ）を含有し、界面活性剤含有組成物に対して、（Ａ）の含有量が０．１〜３０重量％、（Ｂ）の含有量が３５〜７５重量％、（Ｃ）の含有量が１０〜６５重量％である界面活性剤含有組成物。


［式中、Ｘはイミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】広範な抗細菌及び真菌活性を有し、紫外線等による変色、着色を抑制した水溶性の抗菌性組成物を提供する。
【解決手段】酸化銀、銀塩、又は銀錯体（ただし、２Ｈ−ピラン−２−オン−４，６−ジカルボン酸及びその誘導体の銀塩及び銀錯体を含まない）のいずれか1種以上の化合物とクレアチニンとを配合してなる抗菌性組成物であって、前記化合物中の銀（Ａ）とクレアチニン（Ｂ）とのモル比（Ｂ）／（Ａ）が、２〜８０である。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水に、洗浄剤と、塩基性化合物と、酸性有機化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された洗浄組成物であって、さらに高分子化合物を含有させた洗浄組成物。 （もっと読む）