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Fターム[4H003EB20]の内容

Fターム[4H003EB20]に分類される特許

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界面活性剤組成物であって、配列番号1記載のアミノ酸配列を有するスブチリシン異型、及び以下から選択される少なくとも1の追加成分、i)過炭酸塩、過硫酸塩及び有機過酸から選択される漂白剤、ii)アミノカルボナート、又はiii)スルホン化されたポリマー、又はiv)有機リン酸又はその塩、及びこれらの混合物を含む前記界面活性剤組成物が提供される。また、配列番号1記載のアミノ酸配列を有するスブチリシン異型を含み、水溶性又は水分散可能なパッケージに少なくとも部分的に包まれている界面活性剤組成物も提供される。当該組成物は、アルカリ性pHで配合されるときでも、タンパク質性の染みにおいて良好な性能を呈する。そのような染みを含む表面からタンパク質性の染みを除去する方法も提供される。 (もっと読む)


【解決手段】用量形態洗剤製品を製造する方法が、(a)水溶性の合成プラスチックフィルムを、ポーチを規定する型穴状に形成することによって、開口ポーチを与える工程と、(b)粒子状の第1洗剤組成物をポーチ内に入れる工程と、(c)粒子状の第1洗剤組成物の上面に凹部を形成する工程と、(d)該凹部内に、予め成形され、形状を保持し、粒子状の第1洗剤成分から露出するように配置される少なくともほぼ平らな表面を有する第2保形洗剤成分を入れる工程と、(e)水溶性フィルムをポーチの口を覆い、予め成形した洗剤製品の露出面と接触するように水溶性フィルムで密閉する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】成形作業の繰り返しにより汚染された金型に対して優れた洗浄効果を発揮する金型洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】成形材料を用い繰り返し成形を行う加熱成形用金型の洗浄剤組成物である。そして、上記洗浄剤組成物は、母材となる合成ゴムおよび合成樹脂の少なくとも一方と、アルカリ金属塩およびアルカリ金属水酸化物の少なくとも一方と、水を含有する。 (もっと読む)


【課題】平板表示装置に用いられる基板上に存在する有機物または無機物などのパーティクルを除去するとともに平板表示装置に用いられる銅を含む配線、アルミニウムを含む配線を腐食させない洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】組成物の総重量に対し、(a)アミン化合物0.05〜5重量%;(b)アゾール系化合物、アルカノールアミン塩及び還元剤よりなる群から選ばれる1種または2種以上を含む添加剤0.01〜10重量%;及び(c)残量の水を含む。 (もっと読む)


制御雰囲気鑞付けアルミニウム熱交換器を含む自動車冷却系の急速洗浄および保護のための方法および処理システムを開示する。該方法および処理システムは、任意にコンディショニング(不動態化)段階を含みうる。該処理システムは3つの異なる部分からなりうる。それは、(1)洗浄剤または洗浄液、(2)コンディショナーまたはコンディショナー溶液、および(3)相溶性CABアルミニウム保護熱媒液である。
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【課題】本発明は、洗浄特性が著しく向上しており、現像装置に悪影響を及ぼすことなく、平版印刷版原版の現像装置内の付着堆積物を、非常に効率よく除去することができる現像装置用洗浄組成物を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版の現像装置用洗浄組成物であって、(a)酸化剤および(b)活性化剤を含むことを特徴とする洗浄組成物。 (もっと読む)


【課題】界面活性剤でない活性物質含有デリバリー粒子、この粒子を含む洗浄組成物、及び前述の粒子及び洗浄組成物を製造する方法及び使用する方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤でない活性物質を含有するデリバリー粒子であって、a)次を含む第1のコーティング1)界面活性剤でない活性物質成分が、前記コーティングに十分均一に分散し、20%以下の界面活性剤でない活性物質粒子の相対標準偏差を与える成分、2)50ミクロン未満の中央粒径を有する固体のコーティング補助成分、及び3)結合剤成分が約4Pa・s未満の粘度を有する成分、b)少なくとも150ミクロンの中央粒径及び1〜約2の分布範囲を有するコア物質であって、このコア物質の少なくとも一部が前記コーティングによってコーティングされているコア物質、を含む界面活性剤でない活性物質を含有するデリバリー粒子。 (もっと読む)


【課題】 モリブデン又はモリブデン合金の防食剤を提供する。
【解決手段】 N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンは、モリブデン、モリブデン合金の腐食を抑制する。特に、銅とモリブデンが接触している場合の腐食を抑制できる。エチレンアミン類と併用することで、さらに防食効果は高まる。エチレンアミン類の量がN,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンに対し、重量比で20倍以下であるであることが好ましい。 (もっと読む)


N−アルキルピロリドン及びヒドロキシルアミン、及びヒドロキシルアミン誘導体を含まず、回転式粘度計で測定して、50℃で、動的せん断粘度が1〜10mPasである液体組成物であって、該液体組成物の全質量に対して、
(A)溶解したテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(B)の存在下に、遠UV吸収発色団を含む、厚さが30nmのポリマー性バリア反射防止層について、50℃で一定の除去速度を示す、40〜99.95質量%の、少なくとも1種の極性有機溶媒、
(B)0.05〜<0.5質量%の、水酸化第4級アンモニウム、及び
(C)<5質量%の水、
を含む液体組成物;その製造方法、電気装置を製造する方法、及びパターン化Through Silicon Viasによる、及び/又はメッキ及びバンピングによる3D Stacked Integrated Circuits及び3D Wafer Level Packingsの製造で、ネガティブトーン及びポジティブトーンフォトレジスト、及びエッチング後の残留物を除去するために、この液体組成物を使用する方法。 (もっと読む)


本発明は、酸又は塩基の存在下にて、基材に共有結合可能な官能基を有する活性物質、光への曝露に応じて酸又は塩基を生成可能な光触媒、及び賦形剤を含む、組成物を含む。本明細書にはまた、これらの組成物で基材を処理するための方法も包含される。本方法は、官能基を有する少なくとも1つの活性物質を基材に塗布する工程、光触媒を基材に適用する工程、並びに光触媒及び少なくとも1つの活性物質を光に曝露して、基材上の官能基と成分群との間に共有結合を形成する工程を含む。本明細書に記載の組成物及び方法は、コンシューマケア及びパーソナルケア製品適用に有用である。 (もっと読む)


【課題】 研磨工程由来の有機残渣除去性能及び金属残渣除去性能が高く、かつ銅配線の腐食抑制性能に優れた銅配線半導体用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 特定の環状アミン(A)、水酸基を2〜5個含むポリフェノール系還元剤(B)、4級アンモニウム化合物(C)、アスコルビン酸および水を必須成分とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】殺カリシウイルス効果に優れ、さらに取り扱い上の安全性も高い殺カリシウイルス剤組成物及び、その使用方法を提供する。
【解決手段】1,4−ビス(3,3’−(1−デシルピリジニウム)メチルオキシ)ブタンジブロマイドと、エチレンジアミン四酢酸塩を有効成分とした殺カリシウイルス剤、及び、1,4−ビス(3,3’−(1−デシルピリジニウム)メチルオキシ)ブタンジブロマイドをエチレンジアミン四酢酸塩存在下でカリシウイルスと接触させることを特徴とする殺カリシウイルス方法を用いる。 (もっと読む)


カルバミドおよび/またはその少なくとも1種の誘導体を含む洗浄剤。
本発明は、洗浄剤などとして、カルバミドおよび/または少なくとも1種の誘導体が、5〜99.9%重量含まれる薬剤の使用に関し、例えば閉じた系用の洗浄剤として、特に食器洗浄機用合成洗剤、洗濯機用の洗濯合成洗剤、食品加工業での装置および医療装置を衛生化および/または消毒するための洗浄用の薬剤として、手で洗う食器洗浄合成洗剤や衛生的なクリーナーやハンドクリーナーとして使用される。 (もっと読む)


本発明は、a)約8個〜約16個の炭素原子を含有する脂肪酸石鹸約1%〜約20%と、b)合成界面活性剤約2%〜約20%と、c)水と、を含む洗浄料組成物に関し、この組成物は、約9NTU以下の濁度をもたらす所定の量以下の濃度で金属イオンを含む。
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【課題】洗浄性、優れた抗菌、抗黴性、消臭性を有し、しかも良好な防錆性を示すことにより、エバポレーターのような駆動部の機能を妨げることなく、長期間にわたって安定した効果を持続し得るカーエアコン用洗浄剤を提供する。
【解決手段】洗浄剤全量に基づき、(A)ジ長鎖アルキルジ短鎖アルキルアンモニウムカルボン酸塩0.1〜5質量%、(B)植物抽出エキス0.5〜5.0質量%、(C)ハロゲン原子を有しない有機系防錆剤0.1〜5.0質量%、(D)ハロゲン原子を有しない非イオン性界面活性剤1.0〜10.0質量%、残部アルコール性有機溶剤からなる溶液に対し、噴射剤として窒素ガスを圧入し、噴射圧0.6〜0.9MPaに調整したカーエアコンディショナー用洗浄剤とする。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶等の製造工程における銅、アルミニウム及びこれらからなる合金等の腐食性金属の酸化等による腐食防止を特徴とするビアリール化合物を用いた防食剤及び当該化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物の提供を課題とする。
【解決手段】
本願発明者らは、上記課題を達成するために研究を重ねた結果、ビアリール化合物から、銅等の腐食しやすい金属に対し、高い防食効果を発揮しつつ、廃液からの回収も可能な防食剤、及び同化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物を見出した。 (もっと読む)


【課題】ディーゼル燃料中に安定的に分散し、ポリマー系物質由来の付着物、水溶性の付着物、及び非水溶性の付着物を同時に洗浄除去することができ、かつ、被洗浄物に悪影響を与えることのないディーゼル燃料添加剤組成物、及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】当該ディーゼル燃料添加剤組成物は、(a)一般式(1)の50〜80%(質量%)のポリオキシアルキレンアルキルアミン、(b)5〜20%のグリコールモノアルキルエーテル、(c)5〜15%のグリコールジアルキルエーテル、(d)5〜15%のヘテロ環状化合物、(e)1〜5%の水からなる。
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【課題】低k誘電体材料又は銅相互接続材料を損なわずに、マイクロ電子デバイスの表面からのCMP後の残渣及び汚染物質材料を効果的に洗浄を達成すること。
【解決手段】化学的機械的研磨(CMP)後の残渣及び汚染物質を、自身上に前記残渣及び汚染物質を有するマイクロ電子デバイスから洗浄する洗浄組成物及びプロセス。洗浄組成物は新規の腐食防止剤を含む。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面を、銅配線の腐食を引き起こすことなく、有機物汚染、パーティクル汚染を、短時間で除去することができ、基板表面を高清浄化しうる洗浄剤及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】表面に銅配線が施された半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、特定のトリアゾール化合物またはテトラゾール化合物を腐食防止剤化合物として含有する半導体基板表面用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】洗浄力の向上が図られた液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩(A)と、アミンオキシド型界面活性剤(B)と、一般式(C−1)[式中、Rは水素原子又はメチル基であり;Rは水素原子、炭素数1〜11のアルキル基又はフェニル基であり;Rは水素原子又はメチル基であり、Rは水素原子又は−CH−CH(NH)COOHである。]で表される化合物(C)とを含有することを特徴とする液体洗浄剤組成物。
[化1]
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