【課題】超小型エレクトロニクス基板の洗浄のため（特にＣＭＰ後の洗浄のため、またはバイア形成後の洗浄のため）の洗浄溶液を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄溶液は、第４級アンモニウムヒドロキシド、有機アミン、腐食防止剤、必要に応じて有機酸、および水を含むものを提供することにより上記課題を解決する。好ましい洗浄溶液は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、モノエタノールアミン、没食子酸、アスコルビン酸、および水を含み、この洗浄溶液のアルカリ度は、溶液１グラムあたり０．０７３ミリ当量塩基より大きい。 （もっと読む）

【課題】インクとの置換性に優れ、液滴吐出装置のインクの流路における汚れ、液滴吐出ヘッドの目詰まりを好適に解消できる洗浄液、このような洗浄液を用いた液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄液は、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられる、顔料が分散媒に分散したインクの液滴吐出装置を洗浄するための洗浄液であって、液性媒体と、分散剤と含み、前記液性媒体は、前記インクに含まれる前記分散媒を構成する成分である液体を含むことを特徴とする。洗浄液の分散剤は、前記インクに含まれる分散剤を構成する成分の少なくとも一部を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】空間のＶＯＣ、殺虫剤等の汚染物や空気汚染物が付着・吸着した物体表面や廃棄食品の堆肥化工場、養鶏場、生ゴム工場等の臭気等に噴霧し、化学包接作用で捕接し粒径を増大させ沈降させると共に粒子内で化学反応により解毒することにより清浄化する。
【解決手段】極限粘度法で求めた平均分子量が５×１０^６ 以上で、直鎖状のポリ(メタ)アクリルアミドの０．０００１〜０．０１重量％の水溶液あるいは水分散液（Ａ）とポリ（ポリメチレンビグアナイド）塩酸塩（Ｂ）と、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の化合物（Ｃ）とを含んでなる清浄化剤、これを用いた汚染気体又は汚染物体等の清浄化方法に関する。 （もっと読む）

化学機械研磨（ＣＭＰ）後残渣および汚染物質をその上に有するマイクロエレクトロニクスデバイスから前記残渣および汚染物質を洗浄するための洗浄組成物および方法。この洗浄組成物は、新規な腐食防止剤を含む。この組成物は、ｌｏｗ−ｋ誘電体材料または銅配線材料を損傷することなく、マイクロエレクトロニクスデバイス表面からＣＭＰ後残渣および汚染物質を非常に有効に洗浄する。 （もっと読む）

本明細書中で開示されるのは、炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む組成物である。更に開示されるのは、５００ｒｐｍより大きい速度で溶液を少なくとも２時間混合するステップを含む、洗浄目的で乳濁液を調製する方法であり、溶液は炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む。更に本明細書中で開示されるのは、印刷機のローラ、プレート、又はブランケットの洗浄混合物での洗浄方法であり、その方法はローラ又はブランケットを洗浄混合物と接触させるステップを含み、洗浄混合物は炭化水素溶媒と、芳香族溶媒と、メチル化されたシロキサンと、界面活性物質とを含む。 （もっと読む）

本発明は、効果的に過酸水溶液を生成するペルヒドロラーゼ酵素、過酸化水素源及びエステルの基質を含む安定な組成物を提供する。生成された過酸の溶液は病原体又は毒性のある化学物質により汚染された広い範囲の材料と装置の汚染除去及び/又は消毒に適している。一の好ましい実施態様では、この安定な組成物はアシル基転移酵素、過炭酸ナトリウムとプロピレングルコールジアセテートを含み、30日以上安定である。水に加えたとき、この組成物は活性化され、過酢酸対酢酸の高い比率をもつ水溶液を生成する。
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【課題】インクジェットプリンター内の流路やインクジェットヘッド等の部材への腐食を起すことなく、洗浄性に優れたインクジェットプリンター用メンテナンス液を提供すること。
【解決手段】少なくとも一般式（１）〜（３）で表されるグリコールエーテル類またはグリコールエステル類を少なくとも1種以上含有し、さらに、溶存酸素量が４５ｍｇ／ｌ〜１０ｍｇ／ｌであることを特徴とするインクジェットプリンター用のメンテナンス液。 一般式（１） Ｒ₁ＣＯ（ＯＲ₂）_XＯＲ₃ 一般式（２） Ｒ₄ＣＯ（ＯＲ₅）_YＯＣＯＲ₆ 一般式（３） Ｒ₇（ＯＲ₈）_ZＯＲ₉ （式中、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₈、それぞれ独立してエチレン基又はプロピレン基、Ｒ₁、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₆はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ₇、Ｒ₉はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｘ、Ｙ、Ｚそれぞれ独立して１〜４の整数を表す。） （もっと読む）

本発明は、半導体ウェハの処理のための、特に半導体ウェハの洗浄および化学機械研磨のための組成物中での、過酸から選択された少なくとも１種の酸化剤の使用に関する。本発明はまた、組成物の使用およびそのための組成物に関する。本発明の酸化剤の使用は、基板の腐食を制限／回避しながら良好な効果をもたらす。 （もっと読む）

【課題】
環状オレフィン系重合体を含有する組成物に対し優れた溶解性を有し、かつ乾燥性にも優れるシンナー組成物、及びこのシンナー組成物を用いて環状オレフィン系重合体含有組成物が付着した被洗浄物を洗浄する工程を有する半導体装置又は平面表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
２種のアルコールエーテルと２種のアルコールエステルを含有してなることを特徴とする環状オレフィン系重合体含有組成物除去用シンナー組成物、及びこのシンナー組成物を用いて環状オレフィン系重合体含有組成物が付着した被洗浄物を洗浄する工程を有する半導体装置又は平面表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】現在一般的にドライクリーニングに使用されている石油系溶剤の代替物であり、かつ洗浄剤として界面活性剤を含まなくても石油系溶剤と界面活性剤とを含有する石油系洗浄剤組成物と同等以上の洗浄力を有する、ドライクリーニングに使用するための組成物を提供すること。
【解決手段】下記式（I）で表される少なくとも一種の脂肪酸エステルを含有するドライクリーニング用組成物であって、
R¹-O-(R³O)ｍ-COR²（I）
（式中、R¹は炭素数が1〜8のアルキル基、R²は炭素数が5〜21のアルキル基、R³は炭素数が2〜4のアルキル基、ｍは0〜5の数である。）
該脂肪酸エステル中の
（１）R²COの炭素数が６〜１２である脂肪酸エステルの含有量が５０質量％以上であり、かつ
（２）R²COの炭素数が１６〜２２である脂肪酸エステルの含有量が４５質量％以下である前記ドライクリーニング用組成物。 （もっと読む）

【課題】リンス槽における被処理物への洗浄剤の再付着を出来るだけ防止し、清浄なフッ素系リンス剤の蒸気相を合理的な手段で形成することで、洗浄剤と相溶性を示すフッ素系溶剤の系と同等のリンス・乾燥特性を得る。
【解決手段】炭化水素系で洗浄する工程、洗浄剤と難溶性であって洗浄剤よりも高い比重を有するフッ素系のリンス剤でリンスする工程、及びリンスされた被処理物をリンス剤の蒸気に接触させて更に被処理物をリンスすると共に乾燥させる工程を含み、リンス槽（１１）から洗浄剤と該リンス剤の混合物をオーバーフローさせて貯留した貯留槽（１８）中で洗浄剤とリンス剤の混合物を各々の比重差によって洗浄剤相を上部にリンス剤相を下部に相分離させる工程を更に含む、被処理物の洗浄乾燥方法。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、湿気硬化型ホットメルト組成物の供給装置内部に固着した湿気硬化型ホットメルト組成物及びその硬化物を、効率よく実用上十分なレベルにまで除去することの可能な洗浄剤、及びそれを用いた洗浄方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、下記一般式（I）で示される化合物（Ａ）を含有してなることを特徴とする洗浄剤に関するものであり、かかる洗浄剤及びそれを用いた洗浄方法を適用することによって、前記課題を解決することができる。
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【課題】レジストアッシング工程後の残留物を効果的に除去すると同時に、ウエハ上に留めたい緻密構造を侵食したり潜在的に劣化させることがない化学配合物を提供する。
【解決手段】フッ化物源を１〜２１重量％と、有機アミンを２０〜５５重量％と、含窒素成分（例えば含窒素カルボン酸またはイミン）を０．５〜４０重量％と、水を２３〜５０重量％と、金属キレート剤を０〜２１重量％とを含む半導体ウエハ洗浄配合物。 （もっと読む）

本発明は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）の結晶点を低下させるためのジメチルスルホキシド添加剤としての、少なくとも１種類のジオールおよび／または少なくとも１種類のトリオールの使用に関する。ＤＭＳＯ配合物は、上記添加剤と共に、塗料剥離組成物、表面洗浄組成物、落書き洗浄組成物、マイクロエレクトロニクス分野における表面洗浄組成物、例えばフォトレジスト剥離剤、ＤＭＳＯ系農薬組成物として、または上記組成物の成分として、ポリマーを溶解させる溶媒として、または美容術もしくは薬学の分野で有用な組成物の成分として使用される。 （もっと読む）

【課題】衣服の上から噴霧しても染みにならないエアゾール組成物を提供する。
【解決手段】衣服の上から噴霧しても染みにならないエアゾール組成物であって、３０℃における蒸気圧が２．０×１０〜２．０×１０-5ｍｍＨｇの活性物質と、１ａｔｍでの沸点が７０〜１００℃の第１物質と、１ａｔｍでの沸点が１０１〜２３５℃の第２物質と、１ａｔｍでの沸点が−０．５〜−１９５．８℃の第３物質のそれぞれを配合したことを特徴とするものとしている。 （もっと読む）

【課題】洗浄液として洗浄性の高い炭化水素類等を用いて洗浄した後に、リンス液としてハイドロフルオロカーボン類やハイドロフルオロエーテル類を用いて洗浄液をすすぎ乾燥させる処理を、長時間連続して良好な状態で継続する。
【解決手段】リンス液の一部を被再生液として抜き出して冷却し、冷却後の該被再生液を上層液と下層液に比重分離し、得られる下層液をリンス液として再利用する。 （もっと読む）

ＩＣ（集積回路）、液晶ディスプレイおよびフラットパネルディスプレイの製造において使用される半導体ウエハからのイオン性残留物、粒状残留物および水分を含むがこれらに限定されない一般的な混入物または残留物を除去する方法である。該方法は、所定のエステルまたは特定の共溶媒と組合された所定のエステルを使用することを含む。洗浄方法は、種々の洗浄プロセスまたはプロセスステップにおいて利用でき、そして経済的および性能的な利点を与える。 （もっと読む）

プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するための洗浄組成物および方法。組成物は、チタン含有、銅含有、タングステン含有、および／またはコバルト含有のエッチング後残留物を含む残留材料の、マイクロ電子デバイスからの非常に有効な洗浄を達成するが、同時に、マイクロ電子デバイス上に同様に存在する層間誘電体、金属相互接続材料、および／またはキャッピング層に損傷を与えない。さらに、組成物は、窒化チタン層をその上に有するマイクロ電子デバイスからそれを除去するためにも有用であり得る。 （もっと読む）

【課題】洗浄除去性、保管性、および加工基材への非侵食性が優れ、経済的な濃縮型の接着剤用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】少なくともアルカリ金属水酸化物とアルカリ金属リン酸塩を含有するアルカリ剤（ａ）と、少なくとも非イオン界面活性剤を含有する界面活性剤（ｂ）とを、親水性有機溶媒と水とからなる水性媒体（ｃ）中に含有してなり、曇点が２５℃を超えることを特徴とする接着剤用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】顔料分散型着色樹脂組成物およびその固化物の溶解性および除去性に優れ、しかも顔料分散型着色樹脂組成物と接触しても凝集物を発生しない顔料分散型着色樹脂組成物用洗浄液の提供。
【解決手段】（ａ）比誘電率が２４．０以上の極性有機溶剤と、（ｂ）比誘電率が２４．０未満のケトン系溶剤と、（ｃ）モノカルボン酸とモノアルコ−ルからなる比誘電率が２４．０未満のエステル系溶剤とを含有することを特徴とする顔料分散型着色樹脂組成物用洗浄液。 （もっと読む）