【課題】人又は環境的な毒性を示さず、水混合性で生物分解性である剥離用組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、極性アミン、有機又は無機アミン、及び没食子酸、そのエステル又は類似物である腐食抑制剤の混合物を含む水性剥離用組成物を提供する。その剥離用組成物は、プラズマ処理で発生した有機、金属−有機物質、無機塩類、酸化物、水酸化物又は有機ホトレジストと組み合わされた複合物又は有機ホトレジストを除く複合物からホトレジスト、残留物を、低温で実質的な量の金属イオンを再析出させることなく剥離するのに有効である。 （もっと読む）

【課題】レジスト被膜の除去性を低下させないで、長期間に渡る剥離液の繰返し再使用が可能であるばかりか、導電性高分子の表面抵抗や導電性高分子と基材との密着性も悪化さず、さらに、経済性や安全性にも優れており、廃棄物が少なくできるため環境にも悪影響を及ぼさない導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去方法を提供。
【解決手段】レジスト被膜を除去後の剥離液を、細孔径２〜５ｎｍであって、分画分子量が１０００〜４０００のセラミックフィルターを用いて膜濾過することにより、レジスト被膜を該剥離液から取り除き、導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去に再使用する。 （もっと読む）

【課題】プリント配線基板等の回路形成時に使用する各種機器に蓄積する汚れを、効率よく除去することができるアルカリ洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分として、下記の一般式（１）
Ｒ^１Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ−Ｈ （１）（式中、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表わし、ｎは１〜５の数を表わす。）で表わされる化合物、（Ｂ）成分として、下記の一般式（２）
【化１】


（式中、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ^３は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表わし、ｍは１〜５の数を表わす。）で表わされる化合物、及び（Ｃ）成分としてアルカリ剤を含有することを特徴とするアルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニクス洗浄用組成物であって、ａ）当該組成物の約８０重量％〜約９９重量％の少なくとも１つの有機スルホンと；ｂ）当該組成物の約０．５重量％〜約１９重量％の水と；ｃ）当該組成物の約０．５重量％〜約１０重量％のテトラフルオロホウ酸塩イオンを提供する少なくとも１つの成分とからなり、ｄ）任意で、少なくとも１つの多価アルコールを含む、組成物は、Ｓｉ系反射防止コーティングと低ｋ誘電体の両方を有するマイクロエレクトロニクス基板またはデバイスからエッチング／アッシング残渣を洗浄する際に特に有用である。 （もっと読む）

【課題】従来の銅配線半導体用洗浄剤は、銅配線に付着する研磨剤由来の有機残渣を除去する効果が不十分であるばかりか、金属配線材料（銅、タングステン等）が腐食するという問題がある。
【解決手段】有機アミン（Ａ）、下記（Ｉ）〜（ＩＶ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の多価水酸基含有化合物（Ｂ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが２〜１４であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤。
（Ｉ）分子量が１，０００未満の多価水酸基含有炭化水素
（ＩＩ）エーテル基、エステル基、ホルミル基、スルホ基、スルホニル基、ホスホノ基、チオール基、ニトロ基及びアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する分子量が１，０００未満の多価水酸基含有炭化水素
（ＩＩＩ）上記（Ｉ）、（ＩＩ）を脱水縮合した分子構造を有する多価水酸基含有化合物
（ＩＶ）糖類
（Ｖ）変性されていてもよいポリビニルアルコール （もっと読む）

【課題】液晶パネルの洗浄性を格段に向上させる、液晶洗浄助剤、液晶洗浄剤、および液晶パネルの洗浄方法を提供。
【解決手段】本発明の液晶洗浄剤は、洗浄助剤として、一般式（Ｉ）および／または（ＩＩ）で表されるエステル化合物を１種以上含有する。


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本発明は、ペルフルオロブチルエーテルを含有する共沸または共沸系の混合物または組成物に関する。本発明は、より詳細には、少なくとも１つのアルキルノナフルオロブチルエーテルおよび生分解性化合物を含む組成物に関し、これは溶媒または冷却剤として使用できる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄力に加え、抱水性に優れたドライクリーニング用洗浄剤組成物の提供をする。
【解決手段】 スチレン化フェノール、スチレン化アルキルフェノール、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステル及びスチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。
【解決手段】本発明によるフォトレジスト剥離組成物は、スルホン系化合物８０〜９８．５質量％、ラクトン系化合物１〜１０質量％、及びアルキルスルホン酸０．１〜５質量％を含む。 （もっと読む）

【課題】優れた防食性を有するレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）又は（Ｂ）で表される化合物。
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【課題】本発明は、硬化が進行したウレタン樹脂に対して洗浄力が高く、ナフタレン臭や芳香族特有の臭気がないため良好な作業環境を維持でき、かつ引火点が高く安全なウレタン洗浄液を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のウレタン洗浄液組成物は、ウレタン洗浄液組成物１００重量％中に、酢酸エステルを５０〜８０重量％、飽和炭化水素を５０〜２０重量％含有し、蒸留性状における５％留出温度が１７０℃以上、９５％留出温度が３５０℃以下であることを特徴とする。また、前記ウレタン洗浄液組成物は、前記飽和炭化水素が炭素数１２〜１９であることが好ましく、前記酢酸エステルが分子内にエーテル結合を有し、且つ炭素数５〜１０であることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】金属（特にアルミニウムおよびモリブデン）の腐食を抑えつつ、優れた洗浄性を有するポリイミド用剥離剤を提供する。
【解決の手段】水、アルカリ剤［Ｂ］、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤［Ｃ］、多価アルコール［Ｄ］、下記一般式（１）で表わされるシラン系化合物［Ａ］を含有し、前記［Ｃ］成分の含有量が３０〜９５重量％であるポリイミド用剥離剤。
[（Ｘ_２Ｎ−（ＣＨ_２）_ｌ−）_ｍＮＨ_２−ｍ−（ＣＨ_２）_ｋ−]_ｎＳｉ（ＯＲ）_４−ｎ （１）
［但し、式中ｋ、ｌは１〜４の整数、ｍは０〜２の整数、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒは水素又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｘは水素又は炭素１〜４のアルキル基である。］ （もっと読む）

【課題】半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。
【解決手段】組成物が、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 （もっと読む）

【課題】ＣＩＰ洗浄において、泡立ちを抑え、効率良く残存フレーバーを除去でき、洗浄後にＣＩＰ用洗浄剤組成物由来の基剤臭が殆ど残存しない、保存安定性に優れた１剤型のＣＩＰ用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】エステル化合物、シリコーン化合物、及び２５℃でのＳＰ値が６〜９である炭化水素からなる群より選ばれる１種以上の溶剤（Ａ）、（Ｃ）成分以外の界面活性剤（Ｂ）、一般式（１）で表される特定のモノグリセリルエーテル系化合物（Ｃ）、炭素数１０〜１８の脂肪族アルコール（Ｄ）、並びに一般式（２）で表される特定のモノグリコールエーテル系化合物（Ｅ）を、それぞれ特定の範囲で含有するＣＩＰ用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率化可能とする硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を使用した、光学材料用組成物用の洗浄剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
（Ａ）ラクタムを有する化合物、又は（Ａ）ラクタムを有する化合物に（Ｂ）芳香環を有する化合物がアルキルベンゼンを添加した洗浄剤および洗浄方法を採用することにより、作業環境が良く、アルカリスクラバーのような特殊な排気装置を設ける必要がなくなった。 （もっと読む）

【課題】印刷用インキの洗浄性に優れると共に、社会的な環境問題や労働衛生問題を解消し、非引火性で安全性を向上し取り扱いやすく、またゴム、樹脂などの耐溶剤性に優れる、可溶化型で容易に水すすぎが可能な印刷インキ用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される非イオン性界面活性剤４０〜９０重量％、植物油１〜１５重量％、及び水を含有してなることを特徴とする可溶化型印刷インキ用洗浄剤組成物である。
Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ ・・・（１）
（式中、Ｒは炭素数８〜２０の炭化水素基、（ＡＯ）は炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示す。ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示し、４〜２０である。） （もっと読む）

本発明は、洗浄剤であって、マイクロエマルションまたは流体ナノ相系を含み、かつ以下の構成要素：ａ）４ｇ／Ｌ未満の水に対する溶解度を有する少なくとも１つの水不溶性物質と、ｂ）少なくとも１つの両親媒性物質、ＮＰ−ＭＣＡ、であって、界面活性剤構造を有しておらず、それ自体は構造形成性ではなく、水または油に対するその溶解度は４ｇ／Ｌ〜１，０００ｇ／Ｌであり、かつ油−水界面に優先的には蓄積しない少なくとも１つの両親媒性物質、ＮＰ−ＭＣＡ（ただしこのＮＰ−ＭＣＡは、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２−（ｎ−ブチル）−２−エチル−１，３−プロパンジオールから、および／または１，２−ジオールからは選択されない）と、ｃ）少なくとも１つのアニオン性、カチオン性、両性および／または非イオン性の界面活性剤と、ｄ）水および／またはヒドロキシ官能性を有する水溶性の溶剤と、任意に、補助物質と、を含むことを特徴とする洗浄剤に関する。 （もっと読む）

【課題】廃棄され、処分に困っている雑多な不純物を含む廃食用油の再生処理方法及びそれにより得られる再生油の利用方法の提供。
【解決手段】廃食用油をろ過して異物を除去しクリーンな廃食用油とし、これにメタノール及び苛性アルカリを加えてエステル化し、そのエステル化油を水洗後、層分離し、上層部分を吸着処理する。得られた再生油は切削油、研磨油、浸透油、保温油、ディーゼルエンジン油、油除去用液体洗浄液に利用する。 （もっと読む）

本発明は、洗浄性能を改善する目的で、特に材料の処理のため、より特定的にはテキスタイル繊維上の塗料汚れを洗浄するためにカルボン酸ジエステルを使用することに関する。本発明に従えば、配合物は、式（Ｉ）Ｒ¹−ＯＯＣ−Ａ−ＣＯＯ−Ｒ²（ここで、基Ｒ¹及びＲ²は同一であっても異なっていてもよく、直鎖状又は分岐鎖状で環状又は非環状のＣ₁〜Ｃ₂₀アルキル、アリール、アルキルアリール又はアリールアルキル基を表わし、基Ａは直鎖状又は分岐鎖状二価アルキレン基を表わす）の少なくとも１種のジカルボン酸ジエステルと、少なくとも１種のノニオン性ポリアルコキシル化テルペン界面活性剤とを含む。 （もっと読む）

【課題】超小型エレクトロニクス基板の洗浄のため（特にＣＭＰ後の洗浄のため、またはバイア形成後の洗浄のため）の洗浄溶液を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄溶液は、第４級アンモニウムヒドロキシド、有機アミン、腐食防止剤、必要に応じて有機酸、および水を含むものを提供することにより上記課題を解決する。好ましい洗浄溶液は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、モノエタノールアミン、没食子酸、アスコルビン酸、および水を含み、この洗浄溶液のアルカリ度は、溶液１グラムあたり０．０７３ミリ当量塩基より大きい。 （もっと読む）