【課題】高純度なフェニル含有シランを製造すること、及びフェニル含有シランを原料に用いて絶縁性の優れた絶縁膜を得ること。
【解決手段】 モノハロゲン化ベンゼンを０．０１ｗｔｐｐｍ以上３００ｗｔｐｐｍ以下含むことを特徴とする一般式（１）の絶縁膜用フェニル含有シランを含むガスをチャンバー内に導入し、該ガスに高周波を印加して該ガスの少なくとも一部をプラズマ化して反応または分解し、該チャンバー内の基材表面に炭素と珪素を含む絶縁膜を形成する。
（Ｃ_６Ｈ_５）_ｍ（ＣＨ_３）_ｎＳｉＨ_{４−ｍ−ｎ} ・・・（１）
（式中、ｍは１〜２の整数、ｎは０〜３の整数、ｍ＋ｎは１〜４の整数である。） （もっと読む）

【課題】光エレクトロニクス材料として有用な新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるシルセスキオキサン骨格をポリマー主鎖中に有する高分子化合物を提供する。
化１


式（１）において、Ｘ及びＹは独立して水素原子、または炭素数１〜４０の１価有機基を示す。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）
Ｒ¹ＭｇＸ （１）
（式中、Ｒ¹は炭素数３〜１０の第２級アルキル基、Ｘはハロゲン原子である。）
で示されるグリニャール試薬とトリクロロシランとを反応させてトリ（第２級アルキル）シラン化合物を製造するに際し、反応系中に水酸基を有する化合物を添加することを特徴とする下記一般式（２）
ＨＳｉＲ¹₃ （２）
（式中、Ｒ¹は上記と同様である。）
で示されるトリ（第２級アルキル）シラン化合物の製造方法。
【効果】 本発明によると、シリル化剤、還元剤、クロロシランタイプのシリル化剤であるトリオルガノクロロシラン化合物の原料等として有用なトリ（第２級アルキル）シラン化合物を、工業的に実施可能な第２級アルキルグリニャール試薬とトリクロロシランとの反応を用いて収率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造における成膜原料として有用なトリメチルシランに含まれる不純物である含塩素化合物を簡便に高収率で除去する精製方法を提供する。
【解決手段】不純物を含むトリメチルシランをｐＨ２からｐＨ４の吸収溶液に接触させることによりトリメチルシラン中の含塩素化合物を吸収除去する。 （もっと読む）

【課題】 安定性に優れ、薄膜製造用原料として有用なシロキサン化合物含有組成物を提供すること。
【解決手段】 −ＨＳｉＲＯ−（Ｒは、水素原子、炭素数１〜８の炭化水素基、炭素数１〜８のアルコキシ基又はフェノキシ基を表す）を有するシロキサン化合物１００質量部に対し、下記一般式（１）又は（２）で表されるフェノール化合物の少なくとも１種類を安定剤成分として０．０００１〜１質量部含有してなる組成物。
【化１】
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ａ) それぞれ少なくとも１つの[−ＨＳｉＲ−Ｏ−]単位（ここで、Ｒ＝Ｃ₁−Ｃ₁₈直鎖、分枝もしくは環式アルキル、Ｃ₁−Ｃ₁₈直鎖、分枝もしくは環式アルコキシ、または置換されたもしくは非置換のアリール）を有する１つまたはそれ以上のオルガノヒドロシロキサン化合物；およびｂ) 式(１)Ｒ⁴Ｒ⁵Ｒ³Ｏ−ＨＲ²Ｒ¹に示した抗酸化化合物
【化１】


（ここで、抗酸化化合物は、フェノール系化合物であり、約１ppm〜約５０００ppmの濃度で存在し、そしてＲ¹〜Ｒ⁵は、それぞれ独立してＨ、ＯＨ、Ｃ₁−Ｃ₁₈直鎖、分枝もしくは環式アルキル、Ｃ₁−Ｃ₁₈直鎖、分枝もしくは環式アルコキシまたは置換されたもしくは非置換のアリールである）を含んでなるオルガノヒドロシロキサン組成物を提供する。
本発明の組成物は、安定性を示し、オルガノヒドロシロキサン生成物の貯蔵寿命が著しく延長され、化学プロセスまたは半導体製造においてこれらの生成物を取り扱う際に、より大きな柔軟性が得られる。シロキサンが安定化された結果、化学供給ラインまたはバルブ中で生成物の重合が完了する(すなわち凝固する)可能性が回避され、これにより装置のメインテナンスとコストが減り、機械が製造外にある時間が減少する。
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【課題】 超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を効率良く中和できる、オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】 トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を、塩化ナトリウム、塩化カリルム等のアルカリ金属のハロゲン化物またはアルカリ土類金属のハロゲン化物で中和し、生成した中和塩およびハロゲン化水素を分離することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】新規な有機金属化合物及びこれを用いた有機エレクトロルミネセントデバイスを提供する。
【解決手段】２個の互いに結合する遷移金属と、ニ座配位子と、硫黄または酸素を含有したピリジンまたはピリミジン基とを含む有機金属化合物。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造における成膜原料として有用なトリメチルシランの精製方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも酸化銅（II）および酸化亜鉛を混合固化させた活性炭を用いてトリメチルシラン中のシラン、メチルシラン、ジメチルシランを吸着除去する。 （もっと読む）

カルバメート官能性シリカが開示されている。開示された官能性シリカの製造法および同じ官能性シリカを含有する塗料も提供される。 （もっと読む）

官能性フルオロモノマーをオルガノボラン開始剤で重合し、官能性フルオロポリマーと、アリル系プロトン、Ｓｉ−Ｈ基およびオレフィン基を有するモノマーから製造される官能性ポリマーを含む共重合体とを得る。 （もっと読む）

多面シルセスキオキサンは、燃焼した有機材料から誘導されるシリカ源と水酸化第４アンモニウム化合物との反応によって経済的に製造される。得られるアニオンとクロロシランとの反応は、蟻酸のような有機酸の反応量を含有する有機溶媒中において、化学量論的方法で行うことが出来る。得られる官能化シルセスキオキサンの官能基は、合成イオン交換樹脂の存在下にジ−又はポリシロキサンとの反応によって他の官能基で置換することが出来る。 （もっと読む）