本発明は、¹⁸Fのために適切な又は¹⁸Fによりすでに放射性ラベルされた新規化合物、そのような化合物の製造方法、及びそのような化合物の診断イメージングのためへの使用に関する。そのようなラベルされた化合物は、式II（式中、F, R¹, R², B^1,2、Y^1,2、Z^1,2及びEは明細書及び請求項において定義されるような意味を有する）により特徴づけられる。
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有機シラン化合物とジハロ有機化合物の間の閉環反応を促進する溶媒を使用した、環式有機シランを調製する方法が開示されている。該閉環反応は、４、５又は６員の環式有機シランを生成し得る。該方法は、ジハロ有機化合物、少なくとも２つの官能基を有する有機シラン、溶媒及びマグネシウム（Ｍｇ）を含有する混合物を必要とする。有機シラン中の２つの官能基は、ハロゲン、アルコキシ又はこれらの組合せを含み得る。Ｍｇの存在下、該混合物中では、ジハロ有機化合物からグリニャール中間体が生成される。該溶媒は、グリニャール中間体の分子内又は自己カップリング反応に有利に作用する。分子内又は自己カップリング反応は、グリニャール中間体の閉環反応を促進し、環式有機シランを生成する。 （もっと読む）

【課題】混合物上の塩化物塩を他の有機ケイ素前駆体材料と沈殿させる可能性が実質的に無い有機ケイ素前駆体組成物を提供する。
【解決手段】ジエトキシメチルシランを含む別の組成物と混合した場合に収率好ましからざる塩化物塩沈殿を与えないジエトキシメチルシランを含む有機ケイ素組成物、溶解残留塩化物の濃度、および溶解残留塩化物捕集剤の濃度を与える。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一なゲルマニウムドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびゲルマニウム化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を生成せしめるゲルマニウム原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたゲルマニウム原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるゲルマニウム含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】４００℃のような低温条件での成膜でも高い成膜速度が得られ、安定した成膜が可能であり、かつ段差被覆性に優れるＭＯＣＶＤ法用原料及び該原料を用いたシリコン含有膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＭＯＣＶＤ法用原料は、次の式（１）で示される有機シリコン化合物を用いたことを特徴とする。
【化４】


但し、式中のＲ¹はメチル基又はエチル基であり、Ｒ²は水素、メチル基又はエチル基であり、Ｒ³は水素又はメチル基であり、Ｒ⁴は炭素数１〜４の直鎖又は分岐状アルキル基である。 （もっと読む）

本願は、アルコキシシランに残存するハロゲン化物含有量を低減するための方法を開示する。前記方法は、残存するハロゲン化物含有量を有するアルコキシシランを、活性炭と接触させて、その後にアルコキシシランを分離する工程を含む。結果として得られる物質は、他の化合物の調製のための中間体として有用であり、電子工学的用途における使用のためにも有用である。 （もっと読む）

【課題】シリコーンにフィラーを高充填することを可能とするシランカップリング剤（ウェッター）として作用する新規な有機ケイ素化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１）
【化１】


[式中、Ｒ^１は水素原子、または非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、Ｒ^２〜Ｒ^４はおのおの、同一または異種の非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、Ｒ^５は独立に水素原子、または非置換もしくは置換の１価炭化水素基であり、Ｒ^６は同一または異種の非置換もしくは置換の１価有機基であり、ｍは０〜４の整数であり、ｎは２〜２０の整数である。]で表される有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性や耐候性に優れることが期待されるアダマンタン骨格を有するポリマーであって、硬すぎることは無く、操作性にも優れるポリマーを与えるようなアダマンタン化合物を提供すること。
【解決手段】 例えば、１，３−ビス（アリルオキシ）アダマンタンとジヘキシルシランをヒドロシリル化触媒の存在下反応させることによって得られる１，３−ビス｛３−（ジヘキシルシリル）プロポキシ｝アダマンタンのような下記式（１）で示されるケイ素含有アダマンタン化合物。該化合物は、１，４−ジエチニルベンゼンなどの不飽和結合含有化合物とヒドロシリル化することにより耐熱性ポリマーを与える。
【化１】
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一般式（１）：Ｓｉ₂（ＮＭｅ₂）₅Ｙであって、ＹがＨ、Ｃｌ又はアミノ基からなる群より選択される式を有したペンタキス（ジメチルアミノ）ジシラン、その製造方法及びＳｉＮ又はＳｉＯＮからなるゲート誘電体膜又はエッチストップ誘電体膜を製造するためのその使用。 （もっと読む）

【課題】半導体材料ガスであるオルガノシランの製造において、オルガノシラン中のＣｌ濃度の増大を抑制することを目的としている
【解決手段】半導体材料ガスであるオルガノシランの製造において、内部表面をＣｌ成分で汚染された鉄合金製の製造装置、または保存容器の内部表面に、次亜リン酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、トリエチルシラン、トリイソプロピルシラン、トリメチルシラン、または水素等の還元性物質を含む表面処理剤を接触させる表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】トリ（第２級アルキル）シラン化合物の製造方法の提供。
【解決手段】Ｒ¹ＭｇＸ （１）
（式中、Ｒ¹は炭素数３〜１０の２級炭化水素基又は環状炭化水素基、Ｘはハロゲン原子である。）で示されるグリニャール試薬とトリクロロシランとを銅化合物の存在下、反応させる。
【効果】シリル化剤、還元剤、クロロシランタイプのシリル化剤であるトリ（第２級アルキル）クロロシラン化合物の原料等として有用なトリ（第２級アルキル）シラン化合物を、工業的に実施可能な第２級アルキルグリニャール試薬とトリクロロシランとの反応を用いて収率よく安全に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】電子材料の製造でケイ素酸化物用の化学気相成長プロセスで用いられるシクロテトラシロキサンを重合に対し安定化させる方法とその組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の方法は、例えば１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンに、有効量の中性乃至弱酸性の重合防止剤を供給することを含み、本発明の組成物は、そのようなシクロテトラシロキサンと中性乃至弱酸性の重合防止剤を含む。方法にも組成物にも、遊離基スカベンジャーを含ませることもできる。 （もっと読む）

【課題】金属シリコン及びメタノール及び高級アルコールを原料とし、テトラアルコキシシランの共生成の少ない、トリアルコキシシランの直接合成方法の提供。
【解決手段】トリアルコキシシランの直接合成方法であって、任意に溶媒において、直接合成方法における触媒的に有効な量の触媒、及び直接合成方法における触媒の活性化に有効な量の触媒プロモータの存在下で、シリコンとアルコールを直接反応させることを特徴とし、前記プロモータが、少なくとも１つのリン−酸素結合を有する有機若しくは無機の化合物であることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】新規なシラン化合物、及びその製造方法、並びに親水性、耐久性に優れた表面改質剤を提供する。
【解決手段】構造式（１）であわされるシラン化合物。


前記構造式（１）において、Ｒ¹は、アルキル基を表す。Ｒ²は、直鎖又は分岐のアルキレン基を表す。Ｘは、酸素原子、及びＮＲ³のいずれかを表す。Ｒ³は、水素原子、及びアルキル基のいずれかを表す。Ｙは、アニオン性官能基、及びその塩を表す。ｎの値は、１〜６を表す。ｍの値は、０〜１を表す。 （もっと読む）

【課題】安全かつ簡便な条件下でジオルガノシランをオンデマンドで製造する方法の提供。具体的には１つ以上のＳｉＨ結合を含んでなるシロキサンの不均化によるジオルガノシランの簡便な調製方法の提供。
【解決手段】ルイス酸触媒の存在下、ＳｉＨ結合を含んでなるシロキサンを不均化反応させ、ケイ素原子における水素とシロキサン結合の置換を行わせる。この急速な反応により、最終的にジオルガノシラン及び高分子量シロキサンを含んでなる混合生成物が得られる。 （もっと読む）

下基式（Ｉ）：


（式中、Ｒ_１は加水分解性基であり、Ｒ_２は水素であり、Ｒ_３は直鎖状または分枝状の２価のヒドロカルビル橋かけ基である）で表わされるモノマーを準備する工程であって、前記モノマーを対応する出発物質のヒドロシリル化によって生成される工程と、該モノマーを単独重合または共重合させてポリマーを生成させる工程とを含む、半導体オプトエレクトロニクス用ポリマーの製造方法。
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【課題】 ＳｉＨ基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 １分子中に少なくとも３個のＳｉＨ基を有する鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる。 （もっと読む）

【課題】安全性の面で問題がなく、高い界面活性能を有し、かつ、分子量制御が容易で溶媒不溶性成分の生成も少ない界面活性剤の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される含フッ素有機ケイ素化合物。


〔式中、Ｒｆはパーフルオロアルキル基、Ｑはポリエーテル基、Ｒは水素原子又はアルキル基、Ｘ、Ｙは２価の連結基である。ｐは３以上の整数で、ｎは０＜ｎ＜３の数である。〕 フッ素含有率：７〜３５質量％、ポリエーテル基含有率：１５〜５５質量％。 （もっと読む）

【課題】オルガニルハイドロジェンシランの改善された製造方法を提供する。
【解決手段】オルガニルハイドロジェンシランの製造方法において、反応式（１）の均化反応を、完全に有機的に置換されたアンモニウム単位又はホスホニウム単位を少なくとも１つ有する触媒の存在下に実施する。 （もっと読む）

【課題】 洗濯処理の際に生じる洗浄残りの汚れの問題を効果的に解消する方法を提供する。
【解決手段】 光触媒（ａ）を珪素原子及び／又はフッ素原子を含有する変性剤化合物（ｂ）を用いて変性処理された変性光触媒（Ａ）を、洗濯処理後の洗濯物に残存した汚れ成分に付着させ、光照射をすることにより該汚れ成分を分解させることを特徴とする洗濯仕上げ方法。 （もっと読む）