【課題】スキンローション、制汗剤、ヘアケア製品のようなパーソナルケア組成物において、滑らかさ及び／又は無機成分の視覚マスキングを高め、副生物や触媒残渣などの不純物を含まないフェニルトリメチコーンの使用方法。
【解決手段】アラルキルアルキルシロキサンの使用方法は、パーソナルケア組成物の一成分として、そのパーソナルケア組成物の輝き、滑らかさ及び無機成分の視覚マスキングのような特性の１以上を高めるのに有効オな量で環状のアラルキルシロキサンを添加することからなる。 （もっと読む）

【課題】低い光損失と共に高い屈折率値を有する改善されたゾル−ゲル組成物およびその調製法を提供すること。
【手段】本明細書では、光パターン化可能ゾル−ゲル前駆体およびその調製法が記載される。ゾル−ゲル前駆体は、熱的に安定であり、高い屈折率および低い光損失値を有する組成物を形成する。該前駆体を使用して、通信波長の領域の光導波路用途に理想的に適したゾル−ゲル組成物を形成することができる。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）


［Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は一般式（２）


（Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基であり、Ｒ⁶は水素原子又はメチル基である。］
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。
【効果】本発明により提供される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物は加水分解速度が遅く、またアルキルメタクリレートと共重合させたポリマーは殺生物剤を微量添加、もしくは無添加で表面への水中生物の付着抑制を図ることができるため、船底塗料などの加水分解性自己研磨型ポリマーの原料として有用である。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物の製造法および金属酸化物コーティング法の提供。
【解決手段】次式Ｉの化合物を加水分解して金属酸化物を製造する。


式中、ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｓｎ等であり、ＸはＯ_1/2又はＯＲであり、Ｒはアルキルであり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は各々独立にＨ、アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル等である。式Ｉの１種以上の化合物で基材を被覆してから上記化合物を加水分解すること及び／又は上記化合物を約５０〜約４５０℃に加熱することによって、１種以上の金属酸化物を含有する物品を製造する。 （もっと読む）

【課題】高純度のアルコキシシランを簡便な方法で得ることができるアルコキシシランの製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの製造方法は、アルコールＡおよびハロゲン化ケイ素化合物Ｃを第３級アミンＢの存在下で反応させてアルコキシシランを得る工程と、アルコキシシランを含有する第１液相と、副生する液体のアミンハロゲン酸塩を含有する第２液相とを相分離させた後、該第２液相を除去する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンを重合に対し安定化させるための方法、及び組成物を提供する。
【解決手段】有効量の遊離基スカベンジャー重合抑制剤をそのようなシクロテトラシロキサンに供給することを含む安定化方法、及び電子材料の製造においてケイ素酸化物の前駆物質として化学気相成長法で使用される重合に対し安定化させた、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのようなシクロテトラシロキサンの組成物であって、そのようなシクロテトラシロキサンと遊離基スカベンジャー重合抑制剤とを含むシクロテトラシロキサンの組成物である。 （もっと読む）

【課題】広い電位窓を有し、電気化学的安定性が高く、また、シリコーン等の有機材料にも親和性の高いイオン液体を提供すること
【解決手段】トリエチル（ヘプタメチルトリシロキサニルプロピル）アンモニウム塩、ビス（ヘプタメチルトリシロキサニルプロピル）エチルメチルアンモニウム塩、N−メチル−N−（ペンタメチルジシロキサニルプロピル）ピロリジニウム塩、N−メチル−N−（ヘプタメチルトリシロキサニルプロピル）ピロリジニウム塩、N−メチル−N−（トリメチルシリルメチル）ピロリジニウム塩等の特定の構造を有する第４級アンモニウム塩をイオン液体として使用する。 （もっと読む）

【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性に優れ、さらに、光硬化可能なフッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される、含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。


［式（１）中、ａは１〜４、ｂは０〜３、ｃは１〜４、ｅは２〜８の整数、dは０又は１、Ｒ^１はポリアルコキシアルキレン、Ｒ^２は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基等、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル残基、Ｚは２価の有機基を表す。］ （もっと読む）

【課題】汚れが付き難い、目立ち難い、及び、拭き取り易いという３つの要求のバランスが取れた表面を与える表面処理剤を提供することを目的とする。
【解決手段】下記式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル残基含有ポリオルガノシロキサン及びそれを含む表面処理剤である。



［式（１）中、Ｒｆは２価のパーフルオロポリエーテル残基、ＱはＲｆ基とＺとを連結する２価の基、Ｚはシロキサン結合を３個以上有する３〜１１価のポリオルガノシロキサン残基、Ｒは炭素数８〜４０の１価の有機基、ｎは１〜８の整数、Ａは下記式（２）に示した基であり、ｋは１〜９の整数、但し、ｎ＋ｋ＝（Ｚの価数−１）である。



（式（２）中、Ｒ’は炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｂは２〜１０の整数である。）］ （もっと読む）

本発明は、とりわけ光学発光ダイオード(OLED)における電子輸送材料としての有用性を有する式(I)、(II)または(III)の化合物を提供する。この化合物の態様は、OLEDにおける電子輸送層として組み込まれたとき、電子輸送材料がアルミニウムキノレートである対応のデバイスよりも、所定の電圧に対して高い電流密度を示す。
【化１】

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【課題】高い蒸気圧及び高い熱安定性を持ち、チタン含有薄膜を製造するための優れた原料となる新規なチタン錯体、該錯体を用いた薄膜の製法を提供する。
【解決手段】一般式（１）


（式中、Ｒ^１及びＲ^４は各々独立に炭素数１から１６のアルキル基を示す。Ｒ^２及びＲ^３は各々独立に水素原子又は炭素数１から３のアルキル基を示す。Ｒ^５はフッ素原子で置換されていても良い炭素数１から１６のアルキル基を示す。）で表されるチタン錯体を製造し、それを用いてチタン含有薄膜を製造する。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（１）Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（Ｒ¹）［Ｃ（Ｏ）Ｏ］_w（Ｏ）_x−（Ｒ²）_y−Ｓｉ（Ｒ³）_z（ＯＲ⁴）_3-z（１）で示される不飽和有機珪素化合物（Ｓ）を製造するかまたは取り扱う際に重合を阻止する方法であり、この場合Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ請求項１に記載された意味を有し、この場合、前記の製造または取扱いの少なくとも１つの工程は、工業用装置（Ａ）中で実施され、この装置の有機珪素化合物（Ｓ）と接触する表面は、少なくとも７０％が鉄不含の材料からなり、この場合、材料が鉄１質量％未満を含有する場合には、この材料は、鉄不含と呼ばれ、この場合工業用装置（Ａ）は、少なくとも２００ ｌの充填容量を有するバッチ法のための装置であるか、または少なくとも１５ ｌ／ｈの通過量を有する連続的方法のための装置である。 （もっと読む）

【課題】グリニャール反応のみを用いた合成過程と比較して、反応時間を短縮することができ、かつ、簡便な工程にて高い収率で生成物を得ることができる有機ケイ素化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】代表的製造方法は、例えば、クロロメチルジイソプロポキシシラン（化合物５）を、テトラヒドロフラン中マグネシウムと反応させて、メチル（ジイソプロポキシ）シリルメチルマグネシウムクロライド（化合物３）を含む反応液を得、これにメチルトリメトキシシラン（化合物４）を滴下して最終化合物４，４−ジメトキシ−２，２−ジイソプロポキシ−２，４−ジシラペンタン（化合物１）を得る方法や、ジメチル（ｔ−ブトキシ）シリルメチルマグネシウムクロライド（化合物３）とビニルトリメトキシシランを反応させて５−（ｔ−ブトキシ）−（化合物１）を得、更にエタノールと反応濃縮を繰り返して２，４，４−トリエトキシ−（化合物１）を得る方法がある。 （もっと読む）

【課題】トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１）のトリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物。


（Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜６のアルキル基であり、同一でも異なっていてもよい。ｎは０，１又は２である。） （もっと読む）

【課題】
機械強度等の基本的性能を充分なものとしながら耐熱性や耐溶剤性等の特性が顕著に向上されたものであり、高温環境下においても各種物性の低下が低い硬化物を形成できる硬化性組成物として、特に、パワーモジュール用絶縁材料、アセンブリ用接着剤、航空／宇宙産業用接着剤等に好適に使用することができるシロキサン化合物、及び、このようなシロキサン化合物を含有する硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
イミド結合及びシロキサン結合を有するシロキサン化合物（Ｉ）であって、上記シロキサン化合物（Ｉ）は、分子骨格中及び分子末端にイミド結合を有することを特徴とするシロキサン化合物（Ｉ）である。 （もっと読む）

【課題】簡便に調製できて回収が容易なイミダゾリウム塩の形態を開発すること。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子または置換されていてもよいアルキル基または置換されていてもよいアリール基を表す。また、Ｒ^１とＲ^２とが互いに結合して、それらの結合炭素原子とともに環構造を形成していてもよい。Ｒ^４は置換されていてもよいアルキレン基を表し、Ｒ^５は炭素数１〜８のアルキレン基を表し、Ｒ^６およびＲ^７はそれぞれ同一または相異なって、炭素数１〜４のアルキル基を表す。ｎは０、１または２である。）
で示されるイミダゾリウム塩、および、これと粒子状酸化物とを作用させて得られるイミダゾリウム塩が固定化された粒子状酸化物。 （もっと読む）

【課題】アルコキシシリル基を有するポルフィリン化合物とゾル−ゲル法を用いてポルフィリン間を強固に固定化したその重縮合物を提供する。
【解決手段】アルコキシシリル基を有するポルフィリン化合物とその合成中間体のそれぞれ物質、製造方法に関する。アルコキシシリル基を有するポルフィリン化合物の製造方法は、アルコキシシリル基を有するベンズアルデヒド化合物とピロールを脱水縮合反応させることによる。重縮合物の製造方法は、ポルフィリン化合物を酸と水或いは塩基と水の存在下に脱水縮合させる。この重縮合物は、色素増感太陽電池、非線形光学材料、触媒、センサーなどの機能性材料への応用が期待できる。 （もっと読む）

【課題】
完全縮合型ＰＯＳＳの骨格の再配列により、不完全縮合ＰＯＳＳ誘導体を得る新規な製造方法の提供。
【解決手段】
一般式（１）



[式中、Ｐｈはフェニル基を表す。]
で示される完全縮合オクタフェニルオクタシルセスキオキサンを、水−アルコール溶媒中、アルカリの共存下、加水分解反応させることを特徴とする不完全縮合ＰＯＳＳ誘導体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】炭素またはハロゲンの汚染を起こさず、熱的安全性と揮発性が改善されるだけでなく、より低い温度でも容易にスズ及びスズ酸化物、またスズを含む物質を製造するための新規なスズ先駆物質を提供する。
【解決手段】新規なスズアミノアルコキシド錯体及びその製造方法に関するものであって、下記で表示されるスズアミノアルコキシド錯体でスズ及びスズ酸化物薄膜のための先駆物質及びナノの大きさのスズ及びスズ酸化物粒子製造のための先駆物質製造のための先駆物質として有用なスズアミノアルコキシド錯体及びその製造方法に関する。Ｓｎ［Ｏ‐Ａ‐ＮＲ^１Ｒ^２］_２前記化学式において、Ａはハロゲン置換または非置換の線形または分枝形の（Ｃ２‐Ｃ１０）アルキレン基であり；Ｒ^１及びＲ^２は互いに独立した、ハロゲン置換または非置換の線形または分枝形の（Ｃ１‐Ｃ７）アルキル基である。 （もっと読む）

【課題】反応性ケイ素基を有する化合物を含有する硬化性組成物において、硬化物の弾性率および伸びの低下を抑えつつ、硬化物表面の膨れ発生を改善できるようにする。
【解決手段】油脂または油脂誘導体に、反応性ケイ基を導入してなる化合物（Ａ）と、硬化促進剤（Ｘ）を含むことを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）