【課題】ゴム組成物のヒステリシスロスを大幅に低下させると共に、耐摩耗性を大幅に向上させることが可能な新規化合物を提供することにある。また、本発明の他の目的は、かかる化合物を含むゴム組成物及び該ゴム組成物を用いたタイヤ、更にかかる化合物を含むプライマー組成物、塗料組成物及び接着剤組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の有機ケイ素化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする。
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【課題】ゴム組成物のヒステリシスロスを大幅に低下させると共に、耐摩耗性を大幅に向上させることが可能な新規化合物、かかる化合物を含むゴム組成物及び該ゴム組成物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】分子内に、窒素原子及びケイ素原子を含む環状構造と、一つ以上の硫黄原子とを有し、且つ立体障害の小さな基が一つ以上ケイ素原子に結合している部位を有する有機ケイ素化合物と、天然ゴム及び／又はジエン系合成ゴムからなるゴム成分（Ａ）に対して、無機充填剤（Ｂ）と前記有機ケイ素化合物（Ｃ）とを配合してなるゴム組成物と、該ゴム組成物を用いたタイヤである。 （もっと読む）

本発明は、下記の一般式Iを有するオルガノシランに関する：

(HO)₂ R¹Si − Z − S_m − R²

(式中、R¹は、同一または異なるものであって、各々、1〜18個の炭素原子を有する線状または枝分れのアルキル、シクロアルキル或いはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
R²は、1〜30個の炭素原子を有する線状または枝分れのアルキル、シクロアルキルまたはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
Zは、1〜18個の炭素原子を含む二価の結合基を示し；そして、
mは、2よりも大きい数である)。 （もっと読む）

【課題】高い蒸気圧を持ち、ケイ素含有薄膜を製造する際の優れた材料となる新しいケイ素化合物を提供し、またそれを危険性の無い安価な原材料を使用して収率良く製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるジアザシラシクロペンテン誘導体を、ジイミン、すなわち１，４−ジアザ−１，３−ブタジエン誘導体にアルカリ金属及びオルトケイ酸テトラアルキルを反応させることにより製造し、それを用いてケイ素含有薄膜を製造する。
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化学式４のヌクレオシドホスホルアミデートおよびウイルス性疾患を治療するための薬剤としてのそれらの使用が本発明に開示される。これらの化合物は、ＲＮＡ依存性５ＲＮＡウイルス複製の阻害剤であり、ＨＣＶ ＮＳ５Ｂポリメラーゼの阻害剤として、ＨＣＶ複製の阻害剤として、および哺乳動物におけるＣ型肝炎感染の治療のために有用である。化学式４：（化学式４）ここでＰ^＊はキラルリン原子を表す、によって表される化合物を調製するためのプロセスもまた開示され、このプロセスは、ａ）イソプロピル−アラニン酸、（化学式Ａ）、ジ−Ｘ'−フェニルリン酸、（化学式Ｂ）、２'−デオキシ−２ｆ−フルオロ−２'−Ｃ−メチルウリジン、（化学式３）、および塩基を反応させて４を含む第１の混合物を得ること、ここで、Ｘは酸の共役塩基であり、ｎは０または１であり、およびＸ'はハロゲンであること、ｂ）第１の混合物を保護化合物と反応させて、４を含む第２の混合物を得ること；ならびにｃ）４を得るために、任意に、第２の混合物を結晶化、クロマトグラフィー、または抽出に供することを包含する。
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【課題】 ノルボルナン環を有するテトラカルボン酸二無水物において、エポキシ樹脂硬化剤及びポリイミド用素材として純度管理が可能で工業的に使用することができる、精製されたテトラカルボン酸二無水物のメソ体、ラセミ体を提供するとともに、その分離精製法を提供する。
【解決手段】
5-ノルボルネン-エンド-2,3-ジカルボン酸無水物のヒドロシリル化反応で得られる，メソ体とラセミ体が混合した5,5’-エキソ-(1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン-1,5-ジイル)ビスビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-エンド-ジカルボン酸無水物に対して、初めに良溶媒を用いてメソ体を結晶化させて取り出し、次いで良溶媒と貧溶媒の混合溶媒を用いてラセミ体を結晶として取り出す。このように、それぞれを分離して取り出すことによって、ポリイミド用素材として使用可能な融点幅を有するテトラカルボン酸二無水物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】簡便な工程にて高い収率で生成物を得ることができる有機ケイ素化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される有機ケイ素化合物を、一般式（２）で表される金属化合物と反応させて、一般式（３）で表される有機ケイ素化合物を得る。Ｒ^２_ｎＸ_ｍＳｉ−Ｒ^１−ＳｉＸ_ｍＲ^３_ｎ・・・・・（１）（式中、Ｒ^１はメチレン基、アルキレン基、アリーレン基を示し、Ｒ^２およびＲ^３は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、またはアリール基を示し、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を示し、ｍおよびｎは０〜３の整数を示し、ｍ＋ｎ＝３である。）Ｍ（ＯＲ^４）_ｒ・・・・・（２）（式中、Ｍは金属元素を示し、ｒは金属元素の価数を示し、Ｒ^４は同アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、またはアリール基を示す。）Ｒ^２_ｎ（ＯＲ^４）_ｍＳｉ−Ｒ^１−Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｍＲ^２_ｎ・・・・・（３） （もっと読む）

【課題】優れたオレフィンの重合活性および共重合性を有し、コモノマー含量の高いポリマーを製造することができるオレフィン重合用触媒の活性成分となる新規遷移金属化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物（Ａ）。
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本発明の対象は、有機ケイ素化合物含有排水から有機ケイ素化合物を分離する方法であり、本方法では、第一工程で排水を少なくとも１０℃に加熱し、第二工程で排水を少なくとも１０℃で少なくとも３０分保持し、第三工程で、形成された有機ケイ素化合物含有液滴を分離する相分離要素に排水を通す。 （もっと読む）

【課題】 少量の硬化触媒あるいは無触媒でも十分な硬化性を示すシリコーン系樹脂を簡便かつ好適に得られるシラン化合物、及び該シラン化合物から得られるシリコーン系樹脂を提供すること。
【解決手段】 分子内に架橋可能な反応性珪素基及び第１級アミノ基を有するアミノシラン化合物と、置換アクリルアミド化合物とを反応させることにより合成される、分子内に架橋可能な反応性珪素基、置換アミド基及び第２級アミノ基を有することを特徴とするシラン化合物、並びに該シラン化合物から誘導される、分子内に、架橋可能な反応性珪素基、置換アミド基及び置換尿素基を少なくとも有する硬化性シリコーン系樹脂。 （もっと読む）

【課題】コンタクトレンズ材などとして有用な共重合体に使用される新規シリコーン化合物およびそれを用いた表面水濡れ性向上添加剤を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるシリコーンモノマー及び該シリコーンモノマーを特定割合で含む表面水濡れ性向上添加剤。


(Ｒ：−ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₂ＯＨ)ＣＨ₂−。ｍ：1〜４、ｎ：０〜３) （もっと読む）

【課題】より加水分解に対して安定で容易に製造可能なシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ³は水素原子又はメチル基であり、Ａは下記一般式（２）


（Ｒ⁴は炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であり、ｍは２〜３０の整数。）で示されるシロキシ基等であり、嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。 （もっと読む）

【課題】 劣化しない防汚塗料組成物の提供。
【解決手段】 一般式（Ｉ）：
【化１】


［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキルまたはハロゲン基を表すが、これらは場合によりアルキル、アラルキル、アリール、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノまたはアミノアルキル基を包含する群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されていてもよく、
Ｒ^７は、水素、アルキル基または−ＣＯＯＲ^９（ここで、Ｒ^９はアルキル基を表す）を表し、
Ｒ^８は、水素、アルキル基または−ＣＨ_２−ＣＯ_２−（ＳｉＲ^４Ｒ^５Ｏ）_ｎ−ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｒ^３を表し、そして
ｎは３から１２を表す］
で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体を含んでなる防汚塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】不均一系触媒である金属酸化物担持酸化ルテニウム触媒を用いた反応系で、高収率のアルキル基置換化合物を得ることのできる製造方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環またはヘテロ環を有するケトン化合物とビニルシラン化合物を酸化ジルコニウム又は酸化ジルコニウムを含む複合酸化物に担持したルテニウム触媒の存在下反応させる例えば、下記反応式(B3)に示したような方法によりアルキル基置換化合物を製造する。
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【課題】基板との密着性に優れ、誘電率、硬度等の諸特性に優れ、誘電率の経時変化が小さく、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した多孔質膜、およびその多孔質膜を製造する組成物を提供する。
【解決手段】多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物（Ｘ）を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】残留触媒の量や着色を劇的に減少させた、高品質の硫黄含有有機シリコン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】式（ＲＯ）_３−ｍＲ_ｍＳｉ−Ａｌｋ−Ｓ_ｎ−Ａｌｋ−ＳｉＲ_ｍ（ＯＲ）_３−ｍを持つ硫黄含有有機シリコン化合物を生産する方法であって（式中、Ｒは独立に、１〜１２炭素原子を持つ１価の炭化水素を表し、Ａｌｋは、１〜１８炭素原子を持つ２価の炭化水素を表し、ｍは、０、１、もしくは２を表す整数であり、ｎは、２〜８の値を有する整数である）、式Ｍ_２Ｓ_ｎもしくはＭＨＳ（式中、Ｈは水素、Ｍはアンモニウムもしくはアルカリ金属、ｎは１〜８）を持つスルフィド化合物（Ａ）を、式（ＲＯ）_３−ｍＲ_ｍＳｉ−Ａｌｋ−Ｘ（式中、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、もしくはＩ、ｍは、０、１、もしくは２）を持つシラン化合物（Ｂ）および硫黄（Ｃ）と、相間移動触媒の存在下に加熱し反応させ、水相が緩衝剤もしくは塩基性化合物を含有し、生成混合物を形成するステップ（Ｉ）、該生成混合物を８０〜１００℃へと加熱するステップ（ＩＩ）、ならびに、該生成混合物から前記有機シリコン化合物を分離するステップ（ＩＩＩ）を含む方法とする。 （もっと読む）

【解決手段】Ｃ_p−Ｏ−Ｃ_q（但し、ｐ、ｑは炭素数を表わし、２≦ｐ≦６、２≦ｑ≦６であり、各炭素鎖には酸素原子と共役する不飽和結合を含まない）結合を含有する炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状の酸素含有炭化水素鎖で結合された２個以上のケイ素原子を含有し、かつ該２個以上のケイ素原子はいずれも１個以上の水素原子又は炭素数１〜４のアルコキシ基を有するプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物。
【効果】従来、疎水性を向上させようとした場合には成膜速度に犠牲を払ってきたが、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物によれば、膜の疎水性と誘電率特性を確保した上で、成膜速度の低下を抑制することができる。
また、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜の成膜方法を多層配線絶縁膜の成長方法として利用することにより、配線信号遅延の少ない半導体集積回路を安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】新規メルカプトシランカップリング剤、例えば、タイヤの製造を意図するゴム組成物において補強用無機充填剤とジエンエラストマーをカップリングさせるのに特に使用し得るメルカプトシランカップリング剤を提供する。
【解決手段】本発明は、下記の一般式Iを有するブロックトメルカプトシランに関する：
(HO)_２ R^１ − Si − Z − S − C (= O) − A
(式中、R^１は、１〜１８個の炭素原子を有する、線状または枝分れであるアルキル、シクロアルキルまたはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
Aは、水素；または、１〜１８個の炭素原子を有する、線状または枝分れであるアルキル、シクロアルキルまたはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
Zは、１〜１８個の炭素原子を含む二価の結合基を示す)。 （もっと読む）

【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性にも優れた光硬化可能なフッ素化合物の提供。
【解決手段】環状シロキサン構造を備えた含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレートであって、例えば、下記式で表される化合物である。


(Ｒｆは下記式（４）で表されるパーフルオロポリエーテル残基であり、


式（４）中、ｊ、ｋ、ｌ及びｍはＲｆの分子量が２００〜６０００となる範囲において、０〜５０の整数であり、XはＦもしくはトリフルオロメチル基である。） （もっと読む）

【課題】脂肪族アミノ基を有し、蒸留精製が可能で、発生するアルコール量を削減することができる有機ケイ素化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜１０の置換又は非置換の脂肪族１価炭化水素基であって、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成してもよく、各々同一又は異なっていてもよい。また、Ｒ¹及びＲ²はヘテロ原子を含んでもよい。Ｒ³及びＲ⁴は炭素数１〜１０の置換又は非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）で示されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物。
【効果】アミノ基を有する有機ケイ素化合物を用いることにより、高分子材料の紫外線領域を含んだ透明性を保持しながら、高い機械的特性や耐熱性を付与することができる。 （もっと読む）