【課題】遺伝子導入活性が高く、また細胞外へ排出され易い遺伝子導入剤を提供する。
【解決手段】分岐鎖を有するポリマー材料よりなる遺伝子導入剤において、該分岐鎖は、カチオン性ポリマーブロックとアニオン性ポリマーブロックとを有しており、該カチオン性ポリマーブロックの重合度がアニオン性ポリマーブロックの重合度よりも大きく、複数の分岐鎖が多価陽イオンを介して架橋されていることを特徴とする遺伝子導入剤。好ましくはＮ，Ｎ−ジアルキル−ジチオカルバミルメチル分子団を同一分子内に３個以上有する化合物をイニファターとし、これにビニル系モノマーを光照射リビング重合させた分岐型重合体よりなるホモポリマーに対し、４−ビニル安息香酸などの酸性官能基を有したアニオン性モノマーをブロック重合させ、カルシウムイオン又はマグネシウムイオンで架橋させたものである。 （もっと読む）

【課題】柔軟性を有しながら、耐熱性、耐摩耗性およびトナー非粘着性、耐油性を兼ね備えた含フッ素多元セグメント化ポリマーからなるチューブを提供する。
【解決手段】エラストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントＡと非エラストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントＢを有する含フッ素多元セグメント化ポリマーであって、該エラストマー性含フッ素ポリマー鎖セグメントＡがポリマー全体に柔軟性を与えうるものであり、セグメントＡの構成単位の９０モル％以上がパーハロオレフィン単位である含フッ素多元セグメント化ポリマーからなるチューブ。 （もっと読む）

【課題】解像度、電気絶縁性、熱衝撃性、密着性等に優れ、半導体素子の層間絶縁膜や表面保護膜などに適した感光性樹脂成分の原料として有用な、新規なヒドロキシスチレン系ＡＢＡ型トリブロック共重合体とその簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】ヒドロキシスチレン系繰り返し単位（ａ１）を含むセグメントＡとビニルエーテル系繰り返し単位（ｂ）を含むセグメントＢとからなり、セグメントＡとセグメントＢの連結部位が、次の一般式（３）


（ａはセグメントＡとの結合部位を表し、ｂはセグメントＢとの結合部位を表す）で表されるヒドロキシスチレン系ＡＢＡ型トリブロック共重合体とその製造方法である。両末端にチオール基を有するポリビニルエーテルを連鎖移動剤とし、ヒドロキシスチレン系単量体とラジカル重合することによって製造することができる。 （もっと読む）

【課題】溶媒を含まない状態でも室温で十分なイオン伝導性を有する新規デンドリマー及びその製造方法、並びにこのデンドリマーを用いるイオン伝導性ポリマー電解質の提供。
【解決手段】特定の繰り返し単位を含む付加系ポリマー鎖を有する、数平均分子量が５，０００〜２０，０００，０００の範囲にあるデンドリマー及びその製造方法、並びに前記デンドリマーと正に荷電したイオン種とからなる複合体を含有してなるイオン伝導性ポリマー電解質。 （もっと読む）

【課題】血清タンパクの吸着が抑制される遺伝子導入剤を提供する。
【解決手段】芳香環を核とし、それから放射状に伸延したカチオン性の複数の分岐鎖を有する分岐型重合体を有する遺伝子導入剤であって、複数の該カチオン性分岐型重合体同士が非イオン性架橋鎖を介して架橋した架橋ポリマーよりなることを特徴とする遺伝子導入剤。非イオン性架橋鎖は、非イオン性分岐鎖を有した分岐型重合体であってもよい。この遺伝子導入剤は、その構造上の利点により、ＤＮＡなどの核酸を高密度に凝縮することができる。すなわち、この遺伝子導入剤は、カチオン性分岐型重合体が複数個架橋したものであるため、１個のカチオン性分岐型重合体よりなる遺伝子導入剤に比べてＤＮＡなどの核酸をより広いネットワークで包蔵することができ、優れた遺伝子導入活性を示すようになる。 （もっと読む）

【課題】 生産性に優れたカルボキシル基含有（メタ）アクリル系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 遷移金属錯体触媒を用いた制御ラジカル重合により製造した、カルボキシル基を含有する（メタ）アクリル系重合体の製造方法において、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチルエステル単量体単位を含む共重合体の重合を行った後、重合終了後の溶液に有機カルボン酸または有機スルホン酸を加えて１００℃〜１８０℃に加熱することにより、触媒を失活させる反応とｔ−ブチルエステル基をカルボキシル基に変換する反応を合わせて行うことを特徴とする、（メタ）アクリル系重合体の製造方法である。 （もっと読む）

（１）Ｔｇ＜０℃の中心ブロックＢと、主モノマーがＭＭＡで且つ（メタ）アクリル酸および／または式（Ｉ）の無水物基（ここで、Ｒ₁およびＲ₂はＨまたはメチル基を表す）に由来する単位を有するＴｇ＞０℃の少なくとも２つのリジッドな側部ブロックＡ、Ａ’とから成る少なくとも一種のブロック共重合体：１０〜４０％と、（２）少なくとも一種のＰＭＭＡ：９０〜６０％とを含む組成物（全成で100％）と、この組成物の投光装置の透明保護部品の製造での使用と、投光装置。

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【課題】分散性能と光沢性を両立したポリマー化合物、それを含む液体組成物及びインクジェット用インクを提供する。
【解決手段】疎水セグメントと、疎水性ユニット及び親水性ユニットを含む親水セグメントとでブロックポリマー化合物を構成する。前記親水セグメントは、疎水性ユニット及び親水性ユニットを有するランダム共重合構造もしくはグラジエント共重合構造とすることができる。このブロックポリマー化合物は、水性溶媒中でミセル状態を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、ＥＵＶリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超ＬＳＩなどの半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を得ること。
【解決手段】コアシェル型ハイパーブランチポリマーにおけるシェル部に、オニウム塩構造を有するモノマーから誘導される繰り返し単位を含有するようにした。 （もっと読む）

【課題】各種ポリオレフィンとの相溶性に優れ、光透過性、および長期に渡る防曇性に優れるフィルム用防曇剤を提供する。
【解決手段】（１）炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種以上のオレフィンに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするオレフィン連鎖からなる重合体セグメント、（２）水溶性（メタ）アクリル酸系モノマーに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするモノマー連鎖からなる重合体セグメントからなるグラフト型ブロックポリマー（Ａ）からなるフィルム用防曇剤。 （もっと読む）

式（Ｉ）Ｑ−Ｏ−［Ａ−Ｂ］_ｚ−［Ａ−Ｂ’］_ｚ’−Ａ−Ｑ’のポリマー。
（式中、
Ａ＝−（Ｘ）_ａ−Ｏ−Ａ’−（Ｘ’）_ｂ−であり、
ここで、Ａ’＝パーフルオロポリエーテル鎖であり；Ｘ、Ｘ’＝−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−であり；ａ、ｂ＝０．１であり、但しＡがＱ−Ｏ−に連結されている場合ａ＝１であり、ＡがＱ’に連結されている場合ｂ＝０であり、Ｂは式−［（ＣＲ_１Ｒ_２−ＣＲ_３Ｒ_４）_ｊ（ＣＲ_５Ｒ_６−ＣＲ_７Ｒ_８）_ｊ’］− （Ｉａ）のラジカル経路により単独重合可能なオレフィンに由来し、ここで、ｊは１〜３０の整数であり、ｊ’は０〜２９の整数であり、但し、（ｊ＋ｊ’）が２より大きく且つ３０より小さいことを条件とし、Ｒ_１〜Ｒ_８は、ハロゲン、Ｈ、Ｃ_１〜Ｃ_６（パー）ハロアルキル、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_６オキシ（パー）フルオロアルキルであり、Ｂ’＝Ｂであり、しかし、Ｒ_１〜Ｒ_８の中で少なくとも１つは、Ｂ中のＲ_１〜Ｒ_８とは異なる意味を有し、ｚ、ｚ’は、式（Ｉ）のポリマーの数平均分子量が５００〜１５０，０００の間にあるような値であり、Ｑ、Ｑ’＝Ｃ_１〜Ｃ_３（パー）フルオロアルキルまたは官能性末端基−（ＣＦＷ）−Ｄ_ｑ−Ｔ_ｋであり、Ｗ＝Ｆ、ＣＦ_３であり、ｋおよびｑは整数であり、ｋは１〜４、好ましくは１または２の範囲であり、ｑは整数であり、０または１に等しく、但し、Ｑ、Ｑ’の少なくとも１つが官能性末端基であることを条件とする） （もっと読む）

【課題】ジアリルジアルキルアンモニウム誘導体のブロックコポリマーの提供。
【解決手段】本発明は、疎水性ブロックと親水性ブロックを含む新規な両親媒性ブロックコポリマーであって、親水性ブロックがジアリルジアルキルアンモニウム塩から形成され、疎水性ブロックがポリオレフィンを含むブロックコポリマーを含む。更に、両親媒性ブロックコポリマーの簡便な製造方法を開示する。両親媒性ブロックコポリマーは、プラスチック表面の湿潤性及び印刷適性を向上させるために使用し得る。両親媒性ブロックコポリマーはまた、熱可塑性物質と溶融ブレンドされて、帯電防止仕上げされたポリマー物質を形成し得る。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性、引張強度等の機械的特性に優れる樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】樹脂組成物（Ｃ）は、ポリオレフィン（Ａ）１〜９８．９重量％と、オレフィン系ブロックポリマー（Ｇ）０．１〜５０重量％と、芳香族ビニル化合物（ｍ１）およびシアン化ビニル化合物（ｍ２）から選ばれる１種以上を含んでなるビニルモノマーから得られるビニル重合体（Ｂ）１〜９８．９重量％とからなり（但し、（Ａ）、（Ｇ）および（Ｂ）の合計量を１００重量％とする。）、前記オレフィン系ブロックポリマー（Ｇ）が、ポリオレフィン成分であるブロック（ａ）と、溶解度パラメータが１８〜２５Ｊ／ｍの範囲にあるビニルモノマーの重合体残基であるブロック（ｂ）を構成単位とし、前記ブロック（ａ）とブロック（ｂ）とが互いに共有結合で結ばれている。 （もっと読む）

本発明の目的は、ジアリルアミンを使用する高分子鎖を含む化合物の調製方法を提供することである。本発明は、また、ジアリルアミンから誘導される単位を含む、構造化構造を持つ高分子鎖からなる化合物を網羅する。 （もっと読む）

【課題】優れた製品品質を備えた高ＭＦＲのポリプロピレン系ブロック共重合体を高い生産性で製造する方法を提供。
【解決手段】反応熱を主として液化プロピレンの気化熱により除去する気相重合法プロセスによって、下記の重合体成分（ａ）及び重合体成分（ｂ）を１０：９０〜８４：１６び質量比で含むポリプロピレン系ブロック共重合体を製造する方法であって、チタン、マグネシウム及びハロゲンを必須成分として含有する固体成分（Ａ１）と、ビニルシラン化合物（Ａ２）と、アルコキシ基を有する有機ケイ素化合物、及び／又は、少なくとも二つのエーテル結合を有する化合物（Ａ３）とを接触処理してなる固体触媒成分（Ａ）を用いるものとする。重合体成分（ａ）：コモノマー単位の含量が５質量％以下、かつ２３０℃、２１．１８Ｎで測定したＭＦＲが５０ｇ／１０分以上のもの 重合体成分（ｂ）：プロピレン単位の含量が２０質量％以上８０質量％以下であるもの （もっと読む）

【課題】本発明は、電極を保護する能力に優れた、より実用的な電極保護膜を提供することを目的とする。
【解決手段】構成単位（Ｉ）を有する重合体を含有することを特徴とする電極保護膜、又は、構成単位（Ｉ）を有する重合体を含むアーム部と、分岐鎖を有する有機基を含むコア部とを有するスターポリマーを含有することを特徴とする電極保護膜である。 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン鎖と極性ポリマー鎖とからなる新規なオレフィン系ブロック・グラフト共重合体を工業的に有利な方法で製造する方法を提供する。
【解決手段】工程（１）〜（３）を順次実施するオレフィン系ブロック・グラフト共重合体の製造方法。
（１）主鎖末端および／または側鎖に炭素−炭素不飽和結合または周期律表第１３族元素を含む基を有するポリオレフィンを、酸素原子または窒素原子を含む官能基（Ａ）を有するポリオレフィンに変換する工程。
（２）酸素原子または窒素原子を含む官能基（Ａ）を有するポリオレフィンにラジカル重合開始能を有する基を付与することにより、マクロ開始剤に変換する工程。
（３）マクロ開始剤の存在下、炭素−炭素不飽和結合を少なくとも１つ有する有機化合物から選ばれる１種以上のラジカル重合性単量体を重合してポリオレフィン鎖に極性ポリマー鎖を付与する工程。 （もっと読む）

【課題】両親媒性ブロック共重合体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の方法は、（1）（a）4-ビニルピリジン、（b）トリチオカーボネートRAFT剤および乳化剤を含む第一の水性重合媒体を調製する工程、、このときこの乳化剤は現場調製される；（2）第一の遊離基開始剤の存在下で第一の水性重合媒体中で4-ビニルピリジンを重合させる工程；（3）ポリ(4-ビニルピリジン)をプロトン化する工程；（4）プロトン化したポリ(4-ビニルピリジン) RAFTマクロ開始剤とエチレン性不飽和を含む単量体とを含んでいて、しかし界面活性剤を含んでいない第二の水性重合媒体を調製する工程；および（5）プロトン化したポリ(4-ビニルピリジン) RAFTマクロ開始剤とエチレン性不飽和を含む単量体を、第二の遊離基開始剤の存在下および１００℃未満の温度で第二の水性媒体中で重合させる工程を含む。 （もっと読む）

重合方法及び結果として得られるポリマー組成物であって、該方法は、好ましくは擬似ブロック分子構造を含む分岐ポリマーの形成を特徴とする条件下、金属化合物又は複合体と共触媒とを含む、少なくとも１種の付加重合触媒の存在下で、１以上の付加重合性モノマーと重合性シャトリング剤とを重合するステップを含む。
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超低汚損スルホベタインおよびカルボキシベタイン材料、スルホベタインおよびカルボキシベタイン材料で被覆した超低汚損表面および表面を作製する方法、および超低汚損表面を有する装置。１つの実施形態において、本発明は、スルホベタインまたはカルボキシベタイン材料の単分子層を含む表面を有する基材を提供する。この基材は、前記表面が約１ｎｍ^２より大きな欠陥を有さず、約３０ｎｇ／ｃｍ^２未満のフィブリノゲン吸着を有する。別の実施形態において、本発明は、低汚損表面を作製するための方法を提供する。この方法は、（ａ）基材表面にラジカル開始剤を末端に持つ単分子層を形成すること；および（ｂ）ラジカル開始剤を末端に持つ単分子層上で、スルホベタインまたはカルボキシベタインであるモノマーを重合することを含む。
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