【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用出来るだけでなく従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用出来るレジスト下層膜を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される有機ホウ素化合物及びその縮合物からなる群から選ばれる化合物（Ａ）一種以上と、下記一般式（２）で示されるケイ素化合物（Ｂ）一種以上とを含む混合物の縮合物及び／又は加水分解縮合物を含有するものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。
Ｒ^１_ｍ０Ｂ（ＯＨ）_ｍ１（ＯＲ）_{（３−ｍ０−ｍ１）} （１）
Ｒ^１０_ｍ１０Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｓｉ（ＯＲ^１３）_{（４−ｍ１０−ｍ１１−ｍ１２）} （２） （もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られるレジストパターンに適用できるだけでなく、ポジ現像で得られるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（２）で表される加水分解性化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、及びＲ^１_ｍ１Ｒ^２_ｍ２Ｒ^３_ｍ３Ｓｉ（ＯＲ）_{（４−ｍ１−ｍ２−ｍ３）}（１）Ｕ（ＯＲ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_ｍ５（２）（Ｂ）一般式（３）で表される加水分解性ケイ素化合物と一般式（４）で表される加水分解性ケイ素化合物とを含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、Ｒ^６_ｍ６Ｒ^７_ｍ７Ｒ^８_ｍ８Ｓｉ（ＯＲ^９）_{（４−ｍ６−ｍ７−ｍ８）}（３）Ｓｉ（ＯＲ^１０）_４（４）を含むケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】分散溶媒としてテトラヒドロフランを用いることがなく、安全な溶媒を用い、この溶媒を用いることでアルコキシ化反応効率が向上し、もって製造されたＭｏ吸着剤が、Ｍｏ吸着能力が高く、しかも安定性がよく、^９９ｍＴｃ溶出能力を向上させることができるようにする。
【解決手段】原料としてのジルコニウムのハロゲン化物とアルコールに分散溶媒としてのブチルエーテルを添加し、反応させ、アルコキシ化生成物を生成する第１工程のアルコキシ化工程と、反応生成したアルコキシ化生成物に水と更にブチルエーテルを添加して、加水分解及び脱水縮合して前駆生成物を生成する第２工程の加水分解・脱水縮合工程と、生成した前駆生成物を重合濃縮し、溶媒除去、熱処理する第３工程とを用いることによって、−Ｏ−Ｚｒ−Ｃｌの骨格構造であって、塩素の含有量が１６０ｍｇ（Ｃｌ）／ｇ以上の性状を示すＭｏ吸着剤を生成する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像によるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法、及び該プロセスで使用されるケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ−１）、下記一般式（Ａ−２−１）、及び下記一般式（Ａ−２−２）で表される反応性化合物及び／又はこれらの加水分解物、縮合物、加水分解縮合物の各々からなる群から選ばれる各々の１種以上の化合物、からなる混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｒ^２）_ｍ２（ＯＲ^３）_{（３−ｍ２）}Ｓｉ−Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_{（３−ｍ４）}（Ａ−１）Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｒ^１３_ｍ１３Ｓｉ（ＯＲ^１４）_{（４−ｍ１１−ｍ１２−ｍ１３）}（Ａ−２−１）Ｕ（ＯＲ^２１）_ｍ２１（ＯＲ^２２）_ｍ２２（Ｏ）_{ｍ２３／２}（Ａ−２−２）（Ｂ）有機溶剤を含む組成物によるケイ素含有膜上に、有機溶剤現像のフォトレジストでネガ型パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】表面が粗面化されてなり、表面への汚れの付着を抑制し得る帯電部材の提供。
【解決手段】支持体、弾性層および表面層を有する帯電部材であって、該表面層は、Ｓｉ−Ｏ−Ｍ結合を有し、かつ、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で示される構成単位から選ばれる少なくとも１つ、並びに下記一般式（３）で示される構成単位を有する高分子化合物を含み、該帯電部材は、その表面から該弾性層に至る亀裂を有し、該亀裂はその縁部が凸状に盛り上がり、それによって該表面が粗面にされている帯電部材。
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【課題】発光効率および耐久性が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子１０は、基板１１と、第１電極１３と、発光層１５と、第２電極１７と、粒子含有層１８を備えている。粒子含有層１８は、シロキサン系重合体、チタノキサン系重合体およびこれらの共重合体から選ばれる少なくとも一種の重合体、および、金属酸化物粒子を含有する組成物の硬化物である。粒子含有層１８は、基板１１と第１電極１３の間に形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】最も低エネルギー側の極大吸収波長がより長波長である高分子化合物の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物。


（式中、Ａｒ^１は、２価の複素環基を表す。Ａｒ^２は、金属原子を含む２価の基を表す。Ａ^１及びＡ^２は、同一又は相異なり、＝Ｃ（ＣＮ）_２で表される基又は＝Ａｒ^３＝Ｃ(ＣＮ）_２で表される基を表す。） （もっと読む）

【課題】保護膜等を形成する材料に必要とされる高い塗布性、放射線感度及びパターニング性、得られた硬化膜の透明性及び密着性を備え、かつ高屈折率を有するポジ型のポリシロキサン系の感放射線性組成物、及びその組成物から形成された硬化膜を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛及びスズからなる群より選ばれる少なくとも１つの元素とケイ素とを含む加水分解縮合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤を含有する感放射線性組成物である。［Ａ］成分の加水分解縮合体が、（Ｒ^１）_ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_４−ｎ で表される加水分解性化合物に由来する部分と、（Ｒ^３）_ｍ−Ｍ−（ＯＲ^４）_ｐ−ｍ で表される加水分解性化合物に由来する部分とを含むとよい。 （もっと読む）

【課題】 高価な成膜装置を使用することなく工程が少ないため生産性に優れ、現像によりパターン形成可能な感光性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、光塩基発生剤、および下記一般式（１）で表される金属アルコキシドもしくは金属キレート化合物を必須成分とし、光照射による硬化、現像することによりパターン形成することを特徴とする感光性組成物である。
Ｓｉ（ＯＲ^１）_ｘ（Ｒ^２）_４−ｘ （１）
［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基またはフェニル基；Ｒ^２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基からなる群より選ばれる１種以上の置換基を表す。ｘは（ＯＲ^１）の個数を表し、２〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

本発明は、ａ）少なくとも１つの無機相または有機金属相と、ｂ）有機ポリマー相とで構成されたナノ複合材料を製造するための方法に関する。前記方法は、金属または半金属Ｍを含む少なくとも１つの第１の重合性モノマー単位Ａと、共有化学結合を介して重合性単位Ａに結合された少なくとも１つの第２の重合性有機モノマー単位Ｂとを含む少なくとも１つのモノマーＭを、両重合性モノマー単位Ａおよび重合性単位Ｂが重合すると同時にＡとＢの結合が破壊される条件で重合させることを含む。重合されるモノマーＭは、第１のモノマーＭ１と、モノマーＭ１と異なる少なくとも１つの第２のモノマーＭ２とをモノマー単位ＡまたはＢの少なくとも一方に含む（実施形態１）。あるいは、重合されるモノマーは、少なくとも１つのモノマーＭに加えて、モノマー単位Ａを含まない従来のモノマーであり、モノマー単位Ｂと共重合可能な、モノマーＭと異なる少なくとも１つのモノマーＭ’を含む（実施形態２）。 （もっと読む）

【課題】 水系現像が可能で、良好なパターン形状が得られ、耐熱性、加水分解耐性、接着性等の諸物性と、感光性、難燃性、十分な機械強度、低そり及び柔軟性とを両立させることが可能であり、電子機器における電子部品の小型化、軽量化に十分に対応できる配線基板の製造に好適に用いることができる新規鎖状ホスファゼン化合物と、該ホスファゼン化合物を用いてなる感光性樹脂組成物と、その代表的な利用方法とを提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、側鎖に、アリール基、炭素−炭素二重結合及びカルボキシル基を有する鎖状ホスファゼン化合物を用いることにより、上記課題を解決し得る。 （もっと読む）

【課題】水酸基含有率の高いアルコキシドの加水分解物を用いたガスバリア性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】前記アルコキシドと水と反応触媒とからなる原料を、複数のスタティックミキサーと前記複数のスタティックミキサーを連設する配管とからなる所定構造の加水分解物製造装置に導入して前記アルコキシドの加水分解物を得て、これをポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有させ、ゾルゲル法によって重縮合すること特徴とする。効率的な加水分解反応の進行と、重縮合反応の抑制とによって、水酸基含有率の高いアルコキシドの加水分解物を製造することができ、これを用いて、ガスバリア性積層フィルムを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する光学材料に、脈理なく製造する方法。
【解決手段】（ａ）下記（１）式で表される化合物と
【化１】


（ｍは０〜４の整数、ｎは０〜２の整数）
（ｂ）硫黄と、
（ｃ）メルカプト基とスルフィド結合とを１分子あたりそれぞれ１個以上有する化合物とからなる光学材料用樹脂組成物を重合させる光学材料の製造方法において、脱気後に１０℃〜３０℃で１時間〜６時間にて光学材料用樹脂組成物を屈折率が０．００１（ｎ_Ｄ（２０℃））〜０．００２上昇させた後に注型重合することによって、光学材料の脈理を発生防止させることを見出した。 （もっと読む）

【課題】耐熱性だけでなく、透明性、接着性、シート成形性が良好な変性ポリアルミノシロキサン、該変性ポリアルミノシロキサンを含んでなる光半導体素子封止材料、及び該封止材料を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置を提供すること。
【解決手段】式（I）：


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立してアルキル基又はアルコキシ基、Ｘはメタクリロキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、ビニル基、又はメルカプト基を表わし、但し、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３のうち、少なくとも２つはアルコキシ基である）
で表わされるシランカップリング剤を、ポリアルミノシロキサンに反応させて得られる変性ポリアルミノシロキサン。 （もっと読む）

１分子あたり平均少なくとも２つのアルケニル基を有するボロシロキサンと、１分子あたり平均少なくとも２つのケイ素結合水素原子を有する有機ケイ素化合物と、ヒドロシリル化触媒とを含むボロシロキサン組成物；少なくとも１つのボロシロキサンの硬化生成物を含むボロシロキサン接着剤；ボロシロキサン接着剤をそれぞれ含む塗装基板及び積層基板。 （もっと読む）

【課題】有機無機複合体を容易に回収することが可能な新規の合成方法を提供する。
【解決手段】Ｍ−Ｏ−Ｍ（Ｍは珪素原子または金属原子をそれぞれ独立に示す）で表される結合を含む珪素および金属の酸化物からなるとともに少なくとも一部の珪素原子に結合している有機基をもつ有機無機複合体の合成方法であって、
１以上のアルコキシ基をもち有機基と共有結合で結合した珪素原子を有するオルガノアルコキシシランおよび金属原子を含む金属化合物を極性溶媒である第一溶媒に溶解して原料溶液を調製する調製工程と、
オルガノアルコキシシランと金属化合物とを加水分解するとともに脱水縮合させて有機無機複合体を合成する反応工程と、
反応工程後の溶液に該溶液と相溶しない第二溶媒を加えて有機無機複合体を第二溶媒に溶解させた後、第二溶媒と相溶しない溶液を除去する除去工程と、
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)の化合物と式(2)の化合物との加水分解縮合で得られる金属酸化物含有化合物、
Ｒ¹_m1Ｒ²_m2Ｒ³_m3Ｓｉ(ＯＲ)_(4-m1-m2-m3) (1)
(Ｒはアルキル基、Ｒ¹〜Ｒ³はＨ又は１価有機基、m1〜m3は０又は１。m1＋m2＋m3は０〜３。)
Ｕ(ＯＲ⁴)_m4(ＯＲ⁵)_m5 (2)
(Ｒ⁴、Ｒ⁵は有機基、m4、m5は０以上の整数、Ｕは周期律表のＩＩＩ〜Ｖ族の元素。)
(B)式(3)又は(4)の化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ (3)
(ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｓ、Ｘは水酸基又は有機酸基、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数、ａ＋ｂは水酸基又は有機酸基の価数。)
Ｍ_aＨ_bＡ (4)
(Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウム、ＡはＸ又は非求核性対向イオン、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数。)
(C)有機酸、
(D)有機溶剤
を含む熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物。
【効果】本発明組成物で形成された金属酸化物含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。 （もっと読む）

本発明は、クロロヒドロカルビルオキシホスホン酸数量体、有機ホスホン酸数量体、およびこのような数量体の調製のための方法を提供する。前記クロロヒドロカルビルオキシホスホン酸数量体は、下記の化学式によって表すことができる：
【化１】


（式中、Ｒ^１は、直鎖状または分岐状のヒドロカルビレン基、または酸素含有ヒドロカルビレン基であり、前記ヒドロカルビレン基は約２個〜約２０個の炭素原子、あるいは、少なくとも１個の脂環式環または芳香環を有するヒドロカルビレン基を有し、
Ｒ^２はアルキル基または芳香族基であって、
ｎは約２〜約２０の数である）。
（もっと読む）

【課題】本発明は、温度応答性を有すると共に生分解性を有する新規な共重合化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（３）：


（式中、Ｒ^１はＣ１〜３のアルキル基であり、Ｒ^２はＣ３〜５のアルキル基であり、Ｒ^１とＲ^２は異なっている。ｎ及びｍは同一又は異なって１〜３の整数である。ｘとｙは各ユニットのモル百分率であり、ｘ／ｙは99.1／0.1〜20／80であり、重量平均分子量は1,000〜1,000,000である。ｘ及びｙの各ユニットの配列は上記配列の順に限定されない。）
で表されるポリホスフェート。 （もっと読む）

【課題】燃料電池用プロトン伝導膜を製造するのに有用な、ホスホン酸基やスルホン酸基を有する不溶化された化学修飾フラーレンを提供する。
【解決手段】有機化合物が実質的に結合していない化学修飾フラーレンのホスホン酸基が、セリウムイオン又はマンガンイオンで架橋された金属イオン架橋ホスホン酸化フラーレンであり、該ホスホン酸基は部分構造Ｈ−Ｃ−Ｃ−ＰＯ（ＯＨ）_２の形で１〜１２個含まれる金属イオン架橋ホスホン酸化フラーレン。 （もっと読む）