【課題】 水系媒体中に砥粒を分散させた研磨スラリーの存在下での被研磨面の研磨を行う場合、研磨スラリーに対する研磨パッドの濡れ性を改善することにより、研磨スラリーの供給量の均一化および研磨スラリーの保持量を向上させ、平坦性、面内均一性、時間当たりの研磨量の均一化を図ることができる研磨パッドを供給することにある。
【解決手段】 特定の構造を有するジオ−ルとポリイソシアネートとを反応させて得られる、側鎖にエチレンオキサイドの繰り返し単位を有し、かつ主鎖の末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーと鎖伸長剤とを含んでなる研磨パッド用ウレタン組成物、及び前記研磨パッド用ウレタン組成物を用いて形成され、表面にエチレンオキサイドの繰り返し単位を有する親水性研磨パッドに関する。 （もっと読む）

本発明は、アルコキシシラン基を含有する、新規な低粘性ポリウレタンプレポリマー、その製造方法および接着剤、シーラント、プライマーまたはコーティングのためのバインダーとしてのその利用に関する。 （もっと読む）

生物由来の油、油誘導体、及び変性油を、高度に官能化されたエステル、エステルポリオール、アミド、及びアミドポリオールに転化する方法。生成物は、ポリウレタン及びポリエステルのフィルム及び発泡体を製造するのに用いることができる。

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ポリイソシアネート、ポリオール、イソシアネート基とヒドロキシル基との付加反応のための、金属に基づいた触媒、チオール官能性化合物、およびカルボン酸を含んでいるコーティング組成物であって、該カルボン酸のカルボニル基がπ電子系と共役しているコーティング組成物 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れ、初期および耐久時の光ディスクの反りを抑制可能な硬化物層を形成し得る光硬化型組成物、および初期および耐久時における反りを抑制可能な、機械的精度および耐湿性や耐熱性等の耐久性に優れた光ディスクを提供すること。
【解決手段】重量平均分子量が１０００〜３０００であるポリエーテル骨格含有ウレタン（メタ）アクリレート化合物（成分Ａ）を含有することを特徴とする光ディスク用光硬化型組成物。上記光硬化型組成物を硬化させてなる硬化物層を有することを特徴とする光ディスク。 （もっと読む）

【課題】室温から高温までの広い温度範囲で３次元加工時の変形に追従し、柔軟性や破断伸度、応力解放時の弾性回復による低収縮率を同時に兼ね備え、各種基材に対応可能な意匠性ないし保護被膜や、注型重合法による成型品、立体造形物の形成に有用な活性エネルギー線硬化樹脂積層体を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線硬化した樹脂層を２層以上含有する積層体において、２３℃における破断伸度が８０％以上であり、かつ８０℃における５０％伸張時の強度が５ＭＰａ以上であって、さらに８０℃における破断伸度が８０％以上であるか；少なくとも、２３℃における破断伸度が８０％以上である第１の樹脂層と、８０℃における５０％伸張時の強度が５ＭＰａ以上であり、かつ８０℃における破断伸度が８０％以上である第２の樹脂層とを含有する；活性エネルギー線硬化樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】ＮＯｘや紫外線等による軟質ポリウレタンフォーム自体の変色や移染変色性を抑えることができ、衣料用途、特に衣料用パッド材としてブラジャーパッドや肩パッド等に好適であって、しかも安価で、かつ生産性の良好な軟質ポリウレタンフォームを提供する。
【解決手段】ポリオールとポリイソシアネートを水、触媒及び酸化防止剤の存在下に反応させて得られる軟質ポリウレタンフォームにおいて、前記酸化防止剤として、活性水素基を有するリン系酸化防止剤を添加した。活性水素基を有するリン系酸化防止剤としては、トリス（ジプロピレングリコール）フォスファイト、ヘプタキス（ジプロピレングリコール）フォスファイト、ジブチルピロリン酸プロピレンオキサイド付加物等を挙げる。 （もっと読む）

【課題】反応性希釈剤中のポリウレタン（メタ）アクリレート粒子からなる非水系透明分散物が開示される。さらに本発明は、そのような分散物を製造する方法、そのような分散物の接着剤、鋳込ガラス又は耐衝撃性改良剤としての使用、及び該分散物から作られる成形品に関する。
【解決手段】反応性希釈剤中で、ポリイソシアネートを、少なくとも一種のポリオール及び求核性官能基を有する（メタ）アクリル酸エステルと反応させることにより得られる。本発明の分散物は、ポリウレタン（メタ）アクリレート粒子が４０ｎｍ未満の平均直径を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 引裂強度及び伸び率に優れた塗膜及びシームレス管状体を形成しうるポリアミドイミド樹脂系耐熱性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）酸無水物基及びカルボキシル基を有する３価以上のポリカルボン酸無水物を必須成分とする有するポリカルボン酸成分、（ｂ）一般式（Ｉ）で表されるジイソシアネート、（ｃ）一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジイシソアネート及び（ｄ）（ｂ）成分及び（ｃ）成分以外の芳香族ポリイソシアネートを塩基性極性溶媒中で反応させて得られるポリアミドイミド樹脂系耐熱性樹脂組成物。
【化１】


【化２】


［式中、Ｒはアルキレン基、Ｘはアルキレン基又はアリーレン基、ｍ及びｎは１〜２０の整数、Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。］ （もっと読む）

本発明は、硫黄含有ポリ尿素ウレタン、およびこのようなポリ尿素ウレタンを調製する方法に関する。１つの実施形態において、この硫黄含有ポリ尿素ウレタンは、少なくとも部分的に硬化した場合に、少なくとも１．５７の屈折率、少なくとも３２のアッベ数および１．３グラム／ｃｍ^３未満の密度を有するように適合される。本発明によるポリマー材料は充分な屈折率および良好な衝撃耐性／強度を有し、ガラスの代替物として適切である。 （もっと読む）

【課題】 優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度及び高屈折率を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び低屈折率層との密着性に優れた塗膜（被膜）を形成し得る放射線硬化性組成物、及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 （Ｂ）下記式（２）で示される化合物、
【化１４】


［式（２）中、Ｒ^１は、それぞれ独立に、（メタ）アクリロイル基を有する一価の有機基であり、Ｒ^２は、それぞれ独立に、（メタ）アクリロイル基を有する二価の有機基であり、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜３の整数である。］
（Ｃ）光重合開始剤、及び
（Ｅ）溶剤
を含有する放射線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 ポリウレタン系ソフトコートにおける塗膜硬度と塗膜の復元性を改善した塗料組成物を提供する。
【解決手段】 以下に示すポリエステルポリオール（ａ）を主成分とする主剤（Ａ）及びアロファネート変性ポリイソシアネート（ｂ）を主成分とする硬化剤（Ｂ）からなる二液硬化型ポリウレタン塗料組成物により解決する。ポリエステルポリオール（ａ）： 多塩基酸成分が、非芳香族ポリカルボン酸／芳香族ポリカルボン酸＝８０／２０〜４０／６０（モル比）。アロファネート変性ポリイソシアネート（ｂ）： 数平均分子量３２〜４００のモノオール（ｂ１）と脂肪族ジイソシアネート（ｂ２）から得られるアロファネート変性ポリイソシアネート。 （もっと読む）

【課題】 実用レベルの光学特性を満足し、しかも、耐衝撃性などの機械物性に優れる光学用ポリウレタン樹脂を提供すること。
【解決手段】 脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネートおよびそれらの変性体からなる群から選択される少なくとも１種の非芳香族ポリイソシアネートを含むポリイソシアネート成分と、フェノール性水酸基が０．５モル％以下である芳香環含有ポリオールを含むポリオール成分とを反応させて、光学用ポリウレタン樹脂を得る。この光学用ポリウレタン樹脂は、成形型注入後の成形時のポットライフが長く、そのため、透明性、色調および脈理などの光学特性に優れ、しかも、耐衝撃性などの機械物性に優れている。 （もっと読む）

【課題】回復率、弾性復元率等の機械的特性に優れると共に、パターン精度、基板密着性、硬化性にも優れ、かつ保存安定性の良好なエチレン性不飽和基及びカルボキシル基含有化合物と、このエチレン性不飽和基及びカルボキシル基含有化合物を用いた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ基含有化合物より得られるエチレン性不飽和基含有カルボニルオキシ基を有する化合物に、４価以上の多価カルボン酸及び／又はその無水物を含まない多価カルボン酸及び／又は無水物を反応して得られるエチレン性不飽和基及びカルボキシル基含有化合物、及びその硬化性組成物。 （もっと読む）

ポリウレタンの製造に於いて有用であるポリオールを開示する。このポリオールは、植物油系（ヒドロキシメチル含有）モノマーをポリオール、ポリアミン又はアミノアルコールと真空下で反応させることによって製造される。 （もっと読む）

【課題】 従来の研磨パッドの平坦化特性及び研磨速度を維持したままドレッシング性を向上させた研磨パッドを提供することを目的とする。また、該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 微細気泡を有するポリウレタン樹脂発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドにおいて、前記ポリウレタン樹脂発泡体の原料であるイソシアネート成分が多量化ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートであることを特徴とする研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】 従来の研磨パッドより研磨特性に優れ、かつハロゲンを含有しない研磨パッド及びその製造方法を提供することを目的とする。また、該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ポリウレタン樹脂発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドにおいて、前記ポリウレタン樹脂発泡体は、脂肪族及び／又は脂環族イソシアネート末端プレポリマーと、一般式（１）〜（３）からなる群より選択される少なくとも1種の非ハロゲン系芳香族アミンを含む鎖延長剤との反応硬化物であることを特徴とする研磨パッド。 （もっと読む）

本発明は、柔軟性、低極性樹脂との相溶性、組成の均一性、機械的強度、溶解性、粘着性、接着性、付着性、電気絶縁性、耐候性、耐水性、透明性、耐熱老化性、耐プレッシャークッカーテストでの結果等に優れた、分子内に一般式（Ｉ）


（式中、ｎは、２〜１０００の整数を表し、Ｒ^１は、置換もしくは非置換の低級アルキル、酸素原子を含有してもよい置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のポリアルコキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す。ただし、２以上存在するＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ同一または異なっていてもよい）で表される構造を含むポリアルケニルエーテル等を提供する。
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【課題】
無色透明性が要求される光学材料分野に好適に使用される光学材料用含硫黄モノマーの製造方法として、色相に優れ、かつ経時劣化の小さな光学材料用含硫黄モノマーを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】
下記の（１）または（２）の基準を満たす原料を５０ｍｏｌ％以上使用することを特徴とする、１０ｍｍ長のｂ＊値が２．０以下である光学材料用含硫黄モノマーの製造方法。
（１）使用する原料が液体の場合、１０ｍｍ長のｂ＊値が、０．８以下
（２）使用する原料が固体の場合、その８重量％水溶液を調整して測定した１０ｍｍ長のｂ＊値が、０．７以下 （もっと読む）

本発明は、低粘稠なウレトジオン基含有重付加化合物、製造方法及び使用に関する。 （もっと読む）