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Fターム[4J036AD21]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | ビスフェノールとエピハロヒドリン類から得られるエポキシ樹脂 (5,372) | (X)がS含有基 (569) | (−SO2−)含有(←ビスフェノールS) (421)

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【課題】熱伝導性に優れる硬化体が得られるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明の積層板用エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂硬化剤と、無機充填材とを含み、エポキシ樹脂硬化剤が下記一般式(1)で表されるジアミンを含んでいる。
【化1】


(ここで、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基、トリフルオロメチル基、アリール基またはメトキシ基を表し、Xはアミド基などを表す。) (もっと読む)


【課題】タブレット成型時に成型金型の杵型や臼型の表面に付着することがなく、優れた機械的強度を有するタブレット成型体を得ることが可能な熱硬化性光反射用樹脂組成物、ならびに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板とその製造方法および光半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化触媒、(D)無機充填剤、(E)白色顔料、および(F)カップリング剤を含む樹脂組成物において、(D)無機充填剤および(E)白色顔料の少なくとも一方の成分として、多孔質充填剤または吸油性を有する化合物を含む、熱硬化性光反射用樹脂組成物、ならびに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板とその製造方法および光半導体装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性と寸法安定性に優れる硬化物が得られるポリイミド樹脂組成物と、該熱硬化性樹脂組成物を用いて得られる層間接着フィルム及びガスバリア性に優れるガスバリア材を提供すること。
【解決手段】 ビフェニル骨格を有するポリイソシアネート化合物を含むポリイソシアネート化合物と酸無水物、またはビフェニル骨格を有する酸無水物を含む酸無水物とポリイソシアネート化合物とを重合させて得られるポリイミド樹脂と有機化層状珪酸塩とを含有するポリイミド樹脂組成物であり、該有機化層状珪酸塩が、短径1〜50nmの範囲でアスペクト比が10〜500の範囲の分散粒子であるポリイミド樹脂組成物、該組成物を含むガスバリア材及び該組成物を含む熱硬化性樹脂組成物及び該熱硬化性樹脂組成物により形成される層を、キャリアフィルム上に有するプリント配線板用層間接着フィルム。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の接着剤として硬化成形後の接着性、プリント配線板の電気特性に優れている難燃性樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いたフレキシブルプリント配線板用金属張積層板、カバーレイ、フレキシブルプリント配線板用接着シート及びフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】難燃性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、リン含有ポリマーとを含むものである。 (もっと読む)


【課題】狭ギャップでの流動性が良好であり、ゲルタイムを速くすることで硬化温度の低温化を可能にし、チップにかかる熱応力を低減させ、さらに成形時のボイド発生が抑制された電子部品用液状樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と、芳香族アミン化合物と、硬化促進剤として、下記一般式(I)で表される化合物群の中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する組成物。


(式中、Lは、炭素原子、水素原子及び酸素原子から構成されるm価の基、又はm価の炭化水素基を示す。R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は1価の炭化水素基を示す。Rは炭素原子、水素原子及び酸素原子から構成される1価の基、炭素原子、水素原子及び窒素原子から構成される1価の基、又は1価の炭化水素基を示す。mは2〜6の整数を示す) (もっと読む)


【課題】人体への影響が少なく、物性に優れた繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、脂環式エポキシ樹脂(A)と、2官能以上の液状エポキシ樹脂(B)と、2官能以上の反応性希釈剤(C)と、酸無水物硬化剤(D)と、硬化促進剤(E)とを含み、脂環式エポキシ樹脂(A)の含有量が、脂環式エポキシ樹脂(A)と2官能以上の液状エポキシ樹脂(B)と2官能以上の反応性希釈剤(C)との質量の和に対して5質量%〜20質量%であり、2官能以上の反応性希釈剤(C)の含有量が、0質量%〜20質量%であると共に、酸無水物硬化剤(D)の含有量は、脂環式エポキシ樹脂(A)と2官能以上の液状エポキシ樹脂(B)と2官能以上の反応性希釈剤(C)とに含まれるエポキシ基に対する酸無水物硬化剤(D)に含まれる酸無水物の理論配合比率が0.9当量〜1.3当量である繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性やタブレット成型性に優れ、なおかつトランスファー成型時にバリが生じ難い熱硬化性光反射用樹脂組成物及びその製造方法、並びに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】熱硬化性成分と白色顔料とを含む熱硬化性光反射用樹脂組成物であって、成型温度100℃〜200℃、成型圧力20MPa以下、成型時間60〜120秒の条件下でトランスファー成型した時に生じるバリ長さが5mm以下であり、かつ熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率が80%以上であることを特徴とする熱硬化性光反射用樹脂組成物を調製し、そのような樹脂組成物を使用して光半導体素子搭載用基板および光半導体装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】優れた流動性を示すエポキシ樹脂組成物、及びこのエポキシ樹脂組成物により封止された素子を備える電子部品装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂組成物を、(A)エポキシ樹脂と、(B)フェノール樹脂と、(C)トリイソブチルホスフィン及びキノン化合物の付加反応物と、を含有して構成する。また電子部品装置をエポキシ樹脂組成物により封止された素子を備えて構成する。 (もっと読む)


【課題】押出成形法等により容易に成形可能であり、耐熱性と強靱性とを両立でき、二次加工性に優れ、かつ、金属電極又は基板に強力に接着できる配線基板を製造することができる熱硬化性成形材料を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、非晶性熱可塑性樹脂、エポキシ硬化剤、及び、無機フィラーを含有する熱硬化性成形材料であって、前記熱硬化性成形材料全体に占める無機フィラーの割合が20〜60体積%であり、前記熱硬化性成形材料中の樹脂成分の全体積に占めるエポキシ樹脂の割合が40〜95体積%であり、前記無機フィラーは、モース硬度が4〜8である無機フィラーを含有し、かつ、前記熱硬化性成形材料中の無機フィラーの全体積に占める前記モース硬度が4〜8である無機フィラーの割合が50〜100体積%である熱硬化性成形材料。 (もっと読む)


【課題】熱硬化性樹脂の含浸性や熱硬化性樹脂とガラスクロスの接着性が良好であり、耐熱性や絶縁信頼性に優れた積層板、プリント配線板を提供すること。
【解決手段】(A)(a)1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物と、(b)1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有するアミン化合物を反応させて得られる不飽和マレイミド基含有化合物、及び(B)熱硬化性樹脂、を含有する熱硬化性樹脂組成物を、(C)下記一般式(I)で表されるシランカップリング剤で処理されたガラスクロスに含浸し、加熱乾燥し、Bステージ化して得られるプリント配線板用プリプレグである。


(式中、R1は炭素数1〜5の二価の炭化水素基、R2は水素又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基、XはOCH3、OC25、又はOC37を表し、mは0〜5の整数を示す。複数あるX及び複数ある場合のR2は互いに同一でも異なってもよい。) (もっと読む)


【課題】
第一に低温硬化性に優れ、同時に低液晶汚染性でポットライフが長く、良好な基板への塗布作業性、貼り合わせ性、接着強度を有する液晶シール剤を提供すること。第二に熱硬化液晶滴下工法に有効な液晶シール剤を提供すること。
【解決手段】
( a ) ジヒドラジド化合物、( b ) 硬化性樹脂としてエポキシ樹脂、( メタ) アクリル化エポキシ樹脂及び部分( メタ) アクリル化エポキシ樹脂から選択される1種もしくは2種以上、及び(
c ) 硬化促進剤として多価カルボン酸を含有することを特徴とする液晶シール剤。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性と寸法安定性に優れる硬化物と、溶融加工性に優れる半硬化(B−ステージ化)の硬化物が得られ、しかも、ポットライフも長い熱硬化性樹脂組成物と、該樹脂組成物を用いて得られる層間接着フィルムを提供すること。
にある。
【解決手段】 重量平均分子量が5,000〜60,000で、カルボキシル基の酸価が30〜80である直鎖状ポリイミド樹脂(a1)のカルボキシル基をモノエポキシ化合物(a2)で封止したポリイミド樹脂(A)と、エポキシ樹脂(B)と、エポキシ樹脂の硬化剤(C)を含有することを特徴とする熱硬化型樹脂組成物、該組成物の硬化物、該組成物により形成される層を、キャリアフィルム上に有するプリント配線板用層間接着フィルム。 (もっと読む)


【課題】硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性やタブレット成型性に優れ、なおかつトランスファー成型時にバリが生じ難い熱硬化性光反射用樹脂組成物及びその製造方法、並びに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置を提供する。
【解決手段】熱硬化性成分と白色顔料とを含む熱硬化性光反射用樹脂組成物110であって、成型温度100℃〜200℃、成型圧力20MPa以下、成型時間60〜120秒の条件下でトランスファー成型した時に生じるバリ長さが5mm以下であり、かつ熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率が80%以上であることを特徴とする熱硬化性光反射用樹脂組成物110を調製し、そのような樹脂組成物を使用して光半導体素子搭載用基板および光半導体装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】 ポットライフが長く、しかも強度の高い硬化物の得られる風力発電機ブレード用硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の風力発電機ブレード用硬化性エポキシ樹脂組成物は、(D1)エポキシ基が脂環を構成する隣接する2つの炭素原子を含んで形成されている脂環エポキシ基を分子内に2個以上有するエポキシ化合物と、(B)アミン硬化剤とを含むか、又は、さらに(C)硬化促進剤を含む。この組成物は、さらに、芳香族グリシジルエーテル型エポキシ化合物を含むエポキシ化合物(D2)を含んでいてもよい。前記アミン硬化剤(B)としては環状脂肪族ポリアミンが好ましい。 (もっと読む)


【課題】光によって効果的に硬化し、そのため厚い膜厚の樹脂でも硬化が可能で、得られる硬化樹脂の光透過率が低い、光硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】光硬化性樹脂及び該光硬化性樹脂の硬化物の屈折率との屈折率の差が0.01以上となる屈折率を有し、該光硬化性樹脂に対して非相溶性で分散性を有する化合物を含む光硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、塗膜乾燥後のタックフリー性に優れ、感光性を有するため微細加工が可能であり、得られる硬化膜が柔軟性、難燃性、電気絶縁信頼性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい感光性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁膜、絶縁膜付きプリント配線板を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも(A)バインダーポリマー、(B)架橋ポリマー粒子、(C)熱硬化性樹脂、(D)光重合開始剤、(E)分子内にラジカル重合性基を含有するリン系化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いることで上記課題を解決しうる。 (もっと読む)


【課題】低温硬化によって製造でき、高信頼性を有するカラーフィルタを提供し、これを用いて表示特性に優れた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、染料を含むことのある着色剤と、下記式(1)または式(2)で表される化合物とを含有する着色組成物から形成される着色パターンを用い、エポキシ系材料と、重合性化合物と、重合開始剤と、下記式(1)または式(2)で表される化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜を用いてカラーフィルタを形成し、液晶表示素子を構成する。
(もっと読む)


【課題】粗化予備硬化物の粗化処理された表面の表面粗さを小さくすることができ、かつ硬化物と金属層との接着強度を高めることができる予備硬化物を提供する。
【解決手段】本発明に係る予備硬化物1は、エポキシ樹脂材料の硬化を進行させることにより得られる。予備硬化物1は、粗化処理される第1の主面1aと第2の主面1bとを有する。上記エポキシ樹脂材料は、エポキシ樹脂と硬化剤とシリカ2とを含む。シリカ2は、粒子径が0.01μm以上、0.5μm未満である第1の小粒径シリカ2Aと、粒子径が0.5μm以上、20μm以下である第2の大粒径シリカ2Bとを含む。予備硬化物1中で、第1の小粒径シリカ2Aと第2の大粒径シリカ2Bとはそれぞれ偏在している。予備硬化物1は、第1の小粒径シリカ2Aと第2の大粒径シリカ2Bとの存在量が異なる第1の領域R1と第2の領域R2を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、接着特性、半田耐熱性および絶縁信頼性を有する熱伝導性絶縁樹脂組
成物並びに熱伝導性接着シ−トの提供を目的とする。
【解決手段】主鎖に環状構造を有する付加型ポリエステル樹脂(A)と、エポキシ硬化剤
(B)と、熱伝導性絶縁充填剤(C)とを含む熱伝導性絶縁樹脂組成物が重要であり、付
加型ポリエステル樹脂(A)が、付加型ポリエステル樹脂(A−1)と、2個以上のエポ
キシ基を有する化合物(c)とを反応してなる付加型ポリエステル樹脂(A−2)である
こととが好ましい。 (もっと読む)


【課題】保存安定性を高くすることができ、更に硬化後の硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができる熱硬化性樹脂材料、及び該熱硬化性樹脂材料を用いた多層基板を提供する。
【解決手段】本発明に係る熱硬化性樹脂材料は、熱硬化性樹脂と、フェノキシ樹脂の水酸基の少なくとも一部をアシル化することにより得られる化合物と、シアネートエステル硬化剤とを含む。本発明に係る多層基板11は、回路基板12と、回路基板12の回路が形成された表面12a上に配置された硬化物層13〜16とを備える。硬化物層13〜16は、上記熱硬化性樹脂材料を硬化させることにより形成されている。 (もっと読む)


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