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Fターム[4J036AD21]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | ビスフェノールとエピハロヒドリン類から得られるエポキシ樹脂 (5,372) | (X)がS含有基 (569) | (−SO2−)含有(←ビスフェノールS) (421)

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【課題】本発明の目的は、多層プリント配線板作製工程における樹脂残渣除去工程でデスミア性に優れる多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物を提供するものである。また、本発明の目的は、加工性に優れる基材付き絶縁樹脂層を提供するものである。
【解決手段】下記成分を必須成分とする多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物。
(A)官能基含有シラン類及び/又はアルキルシラザン類で表面処理されたシリカ
(B)エポキシ樹脂
(C)硬化促進剤 (もっと読む)


【課題】 寸法安定性に優れる硬化物が得られ、しかも低温溶融性にも優れる絶縁層が得られる熱硬化型樹脂組成物と、絶縁層を得るための層間接着フィルムを提供すること。
【解決手段】 5員環イミド骨格に直結するビフェニル骨格を有し、該ビフェニル骨格の含有率が20〜45質量%で、且つ、対数粘度が0.2〜0.8dl/gであるポリイミド樹脂(A)と、エポキシ樹脂(B)と、アルコキシ化メラミン樹脂(C)とを含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、前記熱硬化性樹脂組成物を、キャリアフィルム上に塗布・乾燥させて得られることを特徴とするプリント配線板用層間接着フィルム。 (もっと読む)


【課題】樹脂組成物の保持量が大きく、低誘電率及び低誘電正接であり、成形性に優れるプリプレグを提供する。さらに前記プリプレグを用いて作製したプリント配線板、積層板を提供し、さらに、前記プリント配線板を用いて作製した半導体装置を提供する。
【解決手段】充填材を60〜85質量%の割合で含有する熱硬化性樹脂組成物を溶剤に含有したワニスを、ガラスクロスに保持させた後、前記溶剤を除去することにより得られるプリプレグであって、前記ワニスは、JIS C 6521に準じて測定される150℃でのゲルタイムが15分以上であり、180℃でのゲルタイムが3.0〜7.0分であることを特徴とするプリプレグ。 (もっと読む)


【課題】ダイパッドとインナーリードとが銀メッキされた銅製リードフレームに対する接着性が良好で、耐半田性に優れた封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供すること。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)無機充填材、及び、(D)酸無水物基を持つシランカップリング剤が分子間縮合することなく酸無水物基、アルコキシ基が共に完全に加水分解された化合物を含有することを特徴とする封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明は、優れた機械特性を有する、ポリエステル樹脂とエポキシ樹脂硬化物とのポリマーアロイを提供する。
【解決手段】
少なくとも1種類以上のエポキシ樹脂硬化物とポリエステル樹脂の組合せからなるポリマーアロイであり、エポキシ樹脂と前記ポリエステル樹脂とのSP値の差の絶対値が1.5(cal/cm1/2以下である、構造周期0.01〜10μmの両相連続構造、または粒子間距離0.01〜10μmの分散構造であることを特徴とするポリマーアロイ。 (もっと読む)


【課題】高熱分解安定性、高耐熱性、低熱膨張性、難燃性、低吸湿性等に優れた硬化物を与えるフェノール性樹脂、エポキシ樹脂、その製造方法、このエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるフェノール性樹脂、並びにこのフェノール性樹脂とエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂、このエポキシ樹脂及び硬化剤を必須成分とするエポキシ樹脂組成物及びこれを硬化させて得られた硬化物である。式中、Aはナフチレン基を示し、mは1から15の数を示す。
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【課題】高熱分解安定性、高耐熱性、低熱膨張性、難燃性、低吸湿性等に優れた硬化物を与えるフェノール性樹脂、エポキシ樹脂、その製造方法、このエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるフェノール性樹脂、およびこのフェノール性樹脂とエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂である。また、このエポキシ樹脂、もしくはこのフェノール性樹脂を必須成分とするエポキシ樹脂組成物及びこれを硬化させて得られた硬化物である。


(但し、Xは単結合、−CH2−、−CH(Me)−、−C(Me)2−、−CO−、−O−、−S−、又は−SO2−を表し、mは1から15の数を示す) (もっと読む)


【課題】保存安定性に優れ、高流動性を有し、硬化物の反りの抑制効果を有する封止用エポキシ樹脂組成物及びこれを用いて封止した半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、硬化触媒、無機充填材を必須成分とする封止用エポキシ樹脂組成物であって、前記硬化触媒が、下記式(1)で表されるイミダゾール系化合物と高分子量体を含む混合物であり、式(1)の成分が前記混合物全体の50質量%以下であることを特徴とする。
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【課題】容易に得ることができ、更に穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に表面の平坦性を高めることができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、充填剤とを含む。上記充填剤は、ビニル基を有するシランカップリング剤により表面処理されている。本発明に係る樹脂組成物では、上記エポキシ樹脂と上記硬化剤との合計100重量部に対して、上記充填剤の含有量が160重量部以上、900重量部以下である。 (もっと読む)


【課題】 硬化物の寸法安定性に優れ、半硬化(B−ステージ化)時の低温溶融性にも優れ、B−ステージ化時のフィルム状に形成した際に屈曲性が良好でカールしにくいフィルムが得られ、しかも、粘度の経時変化が少ない熱硬化型ポリイミド樹脂組成物、該組成物の硬化物及び該組成物を用いて得られるプリント配線板用層間接着フィルムを提供すること。
【解決手段】 5員環状イミド骨格中の窒素原子に直結するビフェニル骨格を有し、重量平均分子量(Mw)が3,000〜150,000である熱硬化型ポリイミド樹脂(A)と、芳香環を有し、分子量が200〜1,000であるポリマレイミド化合物(B)とを含有する熱硬化型ポリイミド樹脂組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物、該組成物により形成される層を、キャリアフィルム上に有するプリント配線板用層間接着フィルム。 (もっと読む)


【課題】
耐熱性、低熱膨張率性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
下記式(1)で表される有機ホスホニウムイオンで有機化された層状粘土鉱物を少なくとも含むエポキシ樹脂用硬化促進剤をエポキシ樹脂中に均一かつ微分散させることにより、耐熱性、低熱膨張性に優れたエポキシ樹脂複合材料が得られる。
【化1】



(上式中のR、RはH、CH、OH、またはOCH基であり、nは1〜22の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】絶縁樹脂層表面の凹凸形状が小さい状態でも、配線導体に対して容易に高い接着力を発現し得る絶縁樹脂、配線板及び配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、(B)紫外線活性型エステル基含有化合物、(C)イソシアネートシラン、及び(D)エポキシ樹脂硬化促進剤を含む樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】最低溶融粘度が低く、穴埋め性又は凹凸追従性に優れており、更に硬化後の硬化物の熱による寸法変化を小さく、かつガラス転移温度を高くすることができるエポキシ樹脂材料を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物又は該樹脂組成物がフィルム状に成形されたBステージフィルムである。上記樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、充填剤とを含む。上記樹脂組成物に含まれている全固形分100重量%中、上記充填剤の含有量は70重量%以上である。50〜150℃の温度領域での上記樹脂組成物の最低溶融粘度は100Pa・s以下である。 (もっと読む)


【課題】エポキシ樹脂の硬化剤の他、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂やポリアミド樹脂の原料としての新規なイソシアヌレート化合物の提供。
【解決手段】窒素雰囲気下で、シクロヘキサン−1,2,4−トリカルボン酸−1,2−無水物クロリド(50mmol)に、アセトン(脱水)を加えて均一溶液にした後、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート(16.6mmol)を添加した後、ピリジン(51mmol)を滴下し反応させた、新規なイソシアヌレート化合物。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板用途あるいは半導体用途で、基板との良好な密着性を示すポリイミド膜を形成することができる熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)(i)一般式(1)で表されるアミノ化合物(a1)と、酸無水物(a2)とを反応させて得られたアミド酸、および(ii)前記アミド酸またはそのイミド化物と、さらに酸無水物(a2’)とを反応させて得られたエステル化合物から選ばれる少なくとも1種のカルボキシル基含有化合物と、(B)エポキシ化合物とを含有する熱硬化性組成物。


[式(1)中、Zは二価の有機基である。] (もっと読む)


【課題】熱伝導性に優れると共に、かつ耐熱性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供し、更にそれを用いて得た硬化成形物、ワニス、フィルム状接着剤、及びフィルム状接着剤付き銅箔を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含有するエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成分として、ジヒドロキシジフェニルエーテルをエポキシ化して得られるエポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分中50wt%以上用い、硬化剤成分として、トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン類、又は1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン類からなるフェノール性化合物を硬化剤成分中50wt%以上用い、無機充填材を50〜96wt%加えて得られるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高耐熱性、難燃性、耐水性等の特性が付与されたエポキシ樹脂組成物を提供することが可能なリン含有硬化剤と、それを用いたプリント配線板用のエポキシ樹脂組成物、プリプレグ、支持体付き樹脂フィルム、金属箔張積層板、及び多層プリント配線板とを提供する。
【解決手段】下記化学式(1)で示される化合物Aとフェノール性水酸基を有する化合物Bとを反応して得られるリン含有硬化剤。(化学式(1)中、R1は炭素数0〜6の炭化水素基を表す。なお、R1は炭素数0の炭化水素基とは、ClがPに直接に結合していることを表す。)このリン含有硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物、プリプレグ、支持体付き樹脂フィルム、金属箔張積層板、及び多層プリント配線板。
(もっと読む)


【課題】熱硬化性樹脂製造用の組成物及びその硬化物、該硬化物を含むプリプレグ及びプリプレグ積層体、並びに該プリプレグまたはプリプレグ積層体を採用した金属箔積層板及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】アミノ末端基とヒドロキシ末端基とのうち少なくとも一つを有する芳香族ポリエステルアミド共重合体、エポキシ樹脂及び選択的にビスマレイミドを含む熱硬化性樹脂製造用の組成物である。 (もっと読む)


【課題】光硬化に好適な、優れた硬化速度と保存安定性を有する光硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アニオン硬化型樹脂(a)、光塩基発生剤(b)、及びpKbが3.8を超える値を持つ第2塩基性物質(c)を含有する、光硬化型樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と、硬化剤とを含有し、硬化剤が下記一般式(1)で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。


(ここで、R〜Rは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数6〜10のアリール基、及び炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。nは0〜20の整数を示す。) (もっと読む)


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