封止用エポキシ樹脂組成物及びこの組成物で封止した素子を備えた電子部品装置
【課題】ＡｇやＡｕのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と、硬化剤とを含有し、硬化剤が下記一般式（１）で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜２０の整数を示す。）
【解決手段】エポキシ樹脂と、硬化剤とを含有し、硬化剤が下記一般式（１）で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜２０の整数を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封止用エポキシ樹脂組成物及びこの組成物で封止した素子を備えた電子部品装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体素子の高密度実装化が進んでいる。これに伴い、樹脂封止型半導体装置は、従来のピン挿入型のパッケージから、面実装型のパッケージが主流になっている。面実装型のＩＣ、ＬＳＩ等は、実装密度を高くし、実装高さを低くするために薄型、小型のパッケージになっており、素子のパッケージに対する占有面積が大きくなり、パッケージの肉厚は非常に薄くなってきた。さらにこれらのパッケージは、従来のピン挿入型のものと実装方法が異なっている。すなわち、ピン挿入型パッケージは、ピンを配線板に挿入した後、配線板裏面からはんだ付けを行うため、パッケージが直接高温にさらされることがなかった。しかし面実装型ＩＣは、配線板表面に仮止めを行い、はんだバスやリフロー装置等で処理されるため、直接はんだ付け温度（リフロー温度）にさらされる。この結果、ＩＣパッケージが吸湿した場合、リフロー時にこの吸湿水分が気化して、発生した蒸気圧が剥離応力として働き、素子、リードフレーム等のインサートと封止材との間で剥離が発生し、パッケージクラックの発生や電気的特性不良の原因となる。このため、はんだ耐熱性（耐リフロー性）に優れた封止材料の開発が望まれている。従って、封止材料としては、低吸湿に加え、リードフレーム（材質として、Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｐｄ等）、チップ界面等の異種材料界面との接着性、密着性の向上が強く求められている。これらの要求に対応するために、主材となるエポキシ樹脂側から様々な検討がされているが、エポキシ樹脂側の改良だけでは、低吸湿化に伴う耐熱性の低下、密着性の向上に伴う硬化性の低下等が生じ、物性のバランスをとることが困難であった。
従って、上記背景から種々のエポキシ樹脂改質材が検討されており、その中の一例としてインデン・スチレン・フェノール共重合オリゴマー（例えば、特許文献１参照）や硫黄原子含有化合物（例えば、特許文献２、３参照）及び硫黄原子含有シランカップリング剤（例えば、特許文献４参照）がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２６５６５０号公報
【特許文献２】特開平１１−１２４４２号公報
【特許文献３】特開２００２−３７０４号公報
【特許文献４】特開２０００−１０３９４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、インデン・スチレン・フェノール共重合オリゴマー（例えば、特許文献１参照）や硫黄原子含有シランカップリング剤（例えば特許文献４参照）を用いた場合は、ＡｇやＡｕのような貴金属との接着性向上効果が乏しく、また硫黄原子含有化合物（例えば特許文献２、３参照）を文献開示の量を添加しても貴金属との接着性が十分に向上せず、いずれも耐リフロー性を満足するに至っていない。さらにはエポキシ化大豆油等の可塑剤、ゴム粒子等の可とう剤を添加しても耐リフロー性を満足するに至っていない。
【０００５】
本発明は、かかる状況に鑑みなされたもので、貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の硬化剤を配合した封止用エポキシ樹脂組成物により上記の目的を達成しうることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
本発明は以下に関する。
（１）（Ａ）エポキシ樹脂と、（Ｂ）硬化剤とを含有し、（Ｂ）硬化剤が、下記一般式（１）で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。
【０００８】
【化１】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜２０の整数を示す。）
（２）（Ｂ）硬化剤として、さらに下記一般式（２）で示される化合物を含有する上記（１）に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【０００９】
【化２】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
（３）（Ｂ）硬化剤として、上記一般式（１）で示される化合物と上記一般式（２）で示される化合物を含有し、（１）の含有量が、（１）と（２）の総和に対して、５〜８０質量％である上記（１）又は（２）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
（４）さらに（Ｃ）難燃剤を含有する上記（１）〜（３）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
（５）（Ｃ）難燃剤として、水酸化アルミニウムを含有する上記（４）に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
（６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物で封止された素子を備えた電子部品装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物は、貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性も良好な電子部品装置等の製品を得ることができ、その工業的価値は大である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物は、（Ａ）エポキシ樹脂を含有する。（Ａ）エポキシ樹脂としては、従来公知のエポキシ樹脂を使用することができる。使用可能なエポキシ樹脂としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等のフェノール類及び／又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したもの。ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、アルキル置換又は非置換のビフェノール等のジグリシジルエーテル。スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、フェノール・アラルキル樹脂、ビフェニレン骨格を含有するフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１２】
中でも、流動性及び耐リフロー性の観点からは、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノール・アラルキル型エポキシ樹脂及び硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、低吸湿性の観点からは、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましく、耐熱性及び低反り性の観点からは、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂が好ましく、難燃性の観点からは、ビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂が好ましく、硬化性の観点からは、ノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂の少なくとも１種を含有していることが好ましい。難燃性の良好な樹脂を用いてノンハロゲン、ノンアンチモンとすることが、高温放置特性向上の観点から好ましい。
【００１３】
ビフェニル型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（３）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（４）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、フェノール・アラルキル型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（５）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫黄原子含有エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（６）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００１４】
【化３】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００１５】
【化４】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００１６】
【化５】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜２のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一であっても異なってもよい。ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００１７】
【化６】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、置換又は非置換の炭素数１〜１０のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数１〜１０のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００１８】
上記一般式（３）で示されるビフェニル型エポキシ樹脂としては、例えば、４，４′−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）ビフェニル又は４，４′−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）−３，３′，５，５′−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピクロルヒドリンと４，４′−ビフェノール又は４，４′−（３，３′，５，５′−テトラメチル）ビフェノールとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。中でも、４，４′−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）−３，３′，５，５′−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。このような化合物としては、ＹＸ−４０００（三菱化学株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００１９】
上記一般式（４）で示されるビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、例えば、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６及びＲ８がメチル基で、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ７が水素原子であり、ｎ＝０を主成分とするＹＳＬＶ−８０ＸＹ（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２０】
上記一般式（５）で示されるエポキシ樹脂としては、例えばＲ１〜Ｒ５が水素原子であるＮＣ−２０００−Ｌ（日本化薬株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２１】
上記一般式（６）で示される硫黄原子含有エポキシ樹脂の中でも、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６及びＲ７が水素原子で、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がアルキル基であるエポキシ樹脂が好ましく、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６及びＲ７が水素原子で、Ｒ１及びＲ８がｔｅｒｔ−ブチル基で、Ｒ４及びＲ５がメチル基であるエポキシ樹脂がより好ましい。このような化合物としては、ＹＳＬＶ−１２０ＴＥ（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。これらのエポキシ樹脂は、いずれか１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２２】
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（７）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２３】
【化７】
（ここで、Ｒ１及びＲ２は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜６の整数を示す。）
【００２４】
上記一般式（７）中のＲ１としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基等の炭素数１〜５の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び水素原子がより好ましい。Ｒ２としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基等の炭素数１〜５の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、中でも、水素原子が好ましい。このような化合物としては、ＨＰ−７２００（ＤＩＣ株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２５】
ナフタレン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（８）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（９）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２６】
【化８】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子及び置換又は非置換の炭素数１〜１２の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。ｐは１又は０で、ｌ、ｍはそれぞれ０〜１１の整数であって、（ｌ＋ｍ）が１〜１１の整数でかつ（ｌ＋ｐ）が１〜１２の整数となるよう選ばれる。ｉは０〜３の整数、ｊは０〜２の整数、ｋは０〜４の整数を示す。）
【００２７】
上記一般式（８）で示されるナフタレン型エポキシ樹脂としては、ｌ個の構成単位及びｍ個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体が挙げられ、これらのいずれか１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。Ｒ１、Ｒ２が水素原子で、Ｒ３がメチル基である上記化合物としては、ＮＣ−７０００（日本化薬株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２８】
【化９】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００２９】
上記一般式（９）で示されるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂としては、例えば、Ｒが水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、Ｅ−１０３２（三菱化学株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００３０】
ビフェニレン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（１０）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（１１）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００３１】
【化１０】
（上記一般式中のＲ１〜Ｒ９は、全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜１０のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、中でも、水素原子とメチル基が好ましい。ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００３２】
【化１１】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子及び置換又は非置換の炭素数１〜１２の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００３３】
ビフェニレン型エポキシ樹脂としては、ＮＣ−３０００（日本化薬株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。またナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としては、ＥＳＮ−１７５等（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。これらのエポキシ樹脂はいずれか１種を単独で用いても両者を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
ノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（１２）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００３５】
【化１２】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００３６】
上記一般式（１２）で示されるノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリンを反応させることによって容易に得られる。中でも、一般式（１２）中のＲとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。ｎは０〜３の整数が好ましい。上記一般式（１２）で示されるノボラック型エポキシ樹脂の中でも、硬化性の観点からは、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。このような化合物としては、ＥＯＣＮ−１０２０（日本化薬株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００３７】
また（Ａ）エポキシ樹脂として下記構造式（１３）のエポキシ樹脂も使用することができる。
【００３８】
【化１３】
（一般式（１３）中のＲ１は、置換又は非置換の炭素数１〜１２の炭化水素基及び置換又は非置換の炭素数１〜１２のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。またＲ２は、置換又は非置換の炭素数１〜１２の炭化水素基及び置換又は非置換の炭素数１〜１２のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｍは０〜２の整数を示す。）
【００３９】
上記一般式（１３）で示されるエポキシ樹脂の中でも、Ｒ１、Ｒ２が水素原子である化合物が好ましく、このようなものとしては、ＹＸ−８８００（三菱化学株式会社製、商品名）等が入手可能である。
【００４０】
本発明において用いられる（Ｂ）硬化剤は、上述した一般式（１）で示される化合物を含有する。
【００４１】
上記一般式（１）で示される化合物の中でも、Ｒ１〜Ｒ８が水素原子である化合物が好ましい。このような化合物としては、ＤＩＣ−ＢＰＦ（ＤＩＣ株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００４２】
上記一般式（１）で示される化合物には、上述した一般式（２）で示される化合物を併用することができる。
【００４３】
上記一般式（２）で示される化合物の中でも、Ｒが水素原子である化合物が好ましい。このような化合物としては、Ｈ−１（明和化成株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００４４】
上記硬化剤の性能を発揮するためには、その配合量を、硬化剤（１）と硬化剤（２）の配合比率は、硬化剤（１）と硬化剤（２）の総和に対して、硬化剤（１）の含有量は、５〜８０質量％とすることが好ましく２０〜７０質量％がより好ましく、３０〜６０質量％とすることがさらに好ましい。５質量％以上であれば、耐リフロー性が向上し、８０質量％以下では、硬化性が向上する。
【００４５】
また、上記硬化剤（１）と硬化剤（２）の配合量は、その性能を発揮するために、（１）と（２）の総和が硬化剤全体に対して、６０質量％以上とすることが好ましく、８０質量％以上とすることがさらに好ましい。
【００４６】
本発明には、従来公知の（Ｂ）硬化剤をさらに併用することができる。併用可能な硬化剤としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び／又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、フェノール類及び／又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス（メトキシメチル）ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂、フェノール類及び／又はナフトール類とジシクロペンタジエンから共重合により合成される、ジシクロペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン型ナフトールノボラック樹脂等のジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、パラキシリレン及び／又はメタキシリレン変性フェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン変性フェノール樹脂、これら２種以上を共重合して得たフェノール樹脂等が挙げられる。これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
中でも、難燃性、成形性の観点からは、フェノール・アラルキル樹脂が好ましい。フェノール・アラルキル樹脂としては、下記一般式（１４）で示されるフェノール樹脂が挙げられる。
【００４８】
【化１４】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００４９】
一般式（１４）中のＲが水素原子で、ｎの平均値が０〜８であるフェノール・アラルキル樹脂がより好ましい。具体例としては、ｐ−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂、ｍ−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂等が挙げられる。このような化合物としては、ＸＬＣ（三井化学株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００５０】
また、耐リフロー性、難燃性、成形性の観点から、ナフトール・アラルキル樹脂が好ましい。ナフトール・アラルキル樹脂としては、例えば、下記一般式（１５）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００５１】
【化１５】
（ここで、Ｒ１及びＲ２は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００５２】
上記一般式（１５）で示されるナフトール・アラルキル樹脂としては、例えば、Ｒ１、Ｒ２が全て水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、ＳＮ−１７０（新日鐵化学株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。
【００５３】
また、低吸湿性の観点からは、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂が好ましい。ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂としては、例えば、下記一般式（１６）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００５４】
【化１６】
（ここで、Ｒ１及びＲ２は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜６の整数を示す。）
【００５５】
上記一般式（１６）で示されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂としては、例えば、Ｒ１及びＲ２が水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、ＤＰＰ（新日本石油精製株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００５６】
また、反り低減という観点からは、トリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましい。トリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、例えば、下記一般式（１７）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００５７】
【化１７】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００５８】
上記一般式（１７）で示されるトリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、例えば、Ｒが水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、ＭＥＨ−７５００（明和化成株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００５９】
また、耐リフロー性などの観点からは、ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂が好ましい。ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂としては、例えば、下記一般式（１８）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００６０】
【化１８】
【００６１】
上記一般式（１８）中のＲ１〜Ｒ９は、全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜１０のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、中でも、水素原子とメチル基が好ましい。ｎは０〜１０の整数を示す。
【００６２】
上記一般式（１８）で示されるビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂としては、例えば、Ｒ１〜Ｒ９が全て水素原子である化合物等が挙げられ、中でも、溶融粘度の観点から、ｎが１以上の縮合体を５０質量％以上含む縮合体の混合物が好ましい。
このような化合物としては、ＭＥＨ−７８５１（明和化成株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。
【００６３】
上記のアラルキル型フェノール樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂は、いずれか１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６４】
併用する上記エポキシ樹脂の中では、特にアラルキル型フェノール樹脂が流動性、耐リフロー性の観点から好ましい。
【００６５】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、（Ａ）エポキシ樹脂と（Ｂ）硬化剤の反応を促進させるために必要に応じて（Ｄ）硬化促進剤を用いることができる。（Ｄ）硬化促進剤は、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７、１，５−ジアザ−ビシクロ（４，３，０）ノネン、５，６−ジブチルアミノ−１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のシクロアミジン化合物及びこれらの化合物に無水マレイン酸、１，４−ベンゾキノン、２，５−トルキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルベンゾキノン、２，６−ジメチルベンゾキノン、２，３−ジメトキシ−５−メチル−１，４−ベンゾキノン、２，３−ジメトキシ−１，４−ベンゾキノン、フェニル−１，４−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等の３級アミン類及びこれらの誘導体、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等のホスフィン化合物及びこれらのホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、２−エチル−４−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、Ｎ−メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、硬化性の観点から、トリフェニルホスフィンが好ましい。
【００６６】
中でも、難燃性、硬化性、流動性及び離型性の観点からは、第三ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が好ましい。第三ホスフィン化合物としては、特に限定するものではないが、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−エチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−プロピルフェニル）ホスフィン、トリス（４−ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（イソプロピルフェニル）ホスフィン、トリス（ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６−ジメチル−４−エトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４−エトキシフェニル）ホスフィン等のアルキル基、アリール基を有する第三ホスフィン化合物が好ましい。また、キノン化合物としては、ｏ−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、ジフェノキノン、１，４−ナフトキノン、アントラキノン等があげられ、中でも、耐湿性、保存安定性の観点から、ｐ−ベンゾキノンが好ましく、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィンとｐ−ベンゾキノンとの付加物が離型性の観点からより好ましい。
【００６７】
（Ｄ）硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成される量であれば特に制限されるものではないが、封止用エポキシ樹脂組成物に対して０．００５〜２質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましい。０．００５質量％未満では、短時間での硬化性に劣る傾向があり、２質量％を超えると、硬化速度が速すぎて良好な成形品を得ることが困難になる傾向がある。
【００６８】
本発明では、必要に応じて（Ｅ）無機充填剤を配合することができる。無機充填剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上の効果があり、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。さらに、難燃効果のある無機充填剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、複合金属水酸化物、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等が挙げられる。ここで、ホウ酸亜鉛としては、ＦＢ−２９０、ＦＢ−５００（Ｕ．Ｓ．Ｂｏｒａｘ社製、商品名）、ＦＲＺ−５００Ｃ（水澤化学工業株式会社製、商品名）等が、モリブデン酸亜鉛としては、ＫＥＭＧＡＲＤ９１１Ｂ、９１１Ｃ、１１００（Ｓｈｅｒｗｉｎ−Ｗｉｌｌｉａｍｓ社製、商品名）等が各々市販品として入手可能である。
【００６９】
これらの無機充填剤は、単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、充填性、線膨張係数の低減の観点からは、溶融シリカが好ましく、高熱伝導性の観点からは、アルミナが好ましい。また、無機充填剤の形状は、充填性及び金型摩耗性の点から、球形が好ましい。
【００７０】
無機充填剤の配合量は、流動性、難燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減、強度向上及び耐リフロー性の観点から、封止用エポキシ樹脂組成物に対して５０質量％以上が好ましく、６０〜９５質量％が難燃性の観点からより好ましく、７０〜９０質量％がさらに好ましい。
５０質量％未満では難燃性及び耐リフロー性が低下する傾向があり、９５質量％を超えると流動性が不足する傾向があり、また難燃性も低下する傾向にある。
【００７１】
（Ｅ）無機充填剤を用いる場合、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、樹脂成分と充項剤との接着性を高めるために、（Ｆ）カップリング剤をさらに配合することが好ましい。（Ｆ）カップリング剤としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、１級及び／又は２級及び／又は３級アミノ基を有するシラン化合物、エポキシシラン、メルカプトシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム／ジルコニウム系化合物等が挙げられる。これらを例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（トリメトキシシリルプロピル）エチレンジアミン、Ｎ−（ジメトキシメチルシリルイソプロピル）エチレンジアミン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート等のチタネート系カップリング剤等が挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７２】
中でも、流動性、金線変形低減、難燃性の観点からは、２級アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。２級アミノ基を有するシランカップリング剤は、分子内に２級アミノ基を有するシラン化合物であれば特に制限はないが、例えば、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリエトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００７３】
カップリング剤の全配合量は、封止用エポキシ樹脂組成物に対して０．０４〜５質量％であることが好ましく、０．０５〜４．７５質量％であることがより好ましく、０．１〜２．５質量％であることがさらに好ましい。フレームとの接着性の観点から、０．０４質量％以上にすることが好ましく、パッケージの成形性の観点から、５質量％以下とすることが好ましい。
【００７４】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、さらに難燃性を向上する目的で、従来公知の（Ｃ）難燃剤、特に環境対応、信頼性の観点からは、ノンハロゲン、ノンアンチモンの難燃剤を必要に応じて配合することができる。例えば、赤リン、酸化亜鉛等の無機化合物とフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂で被覆された赤リン及びリン酸エステル、ホスフィンオキサイド等のリン化合物、メラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、複合金属水酸化物、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、酸化鉄、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属元素を含む化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７５】
中でも、難燃性の観点からは、水酸化アルミニウムが好ましい。水酸化アルミニウムの配合量は、エポキシ樹脂１００質量部に対して１０〜３００質量部とすることが好ましく、２０〜２００質量部とすることがさらに好ましく、５０〜１５０質量部とすることがさらに好ましい。
１０質量部以上であると難燃性が向上し、３００質量部以下であると流動性が向上する。水酸化アルミニウムとしては、ＢＷ１０３（日本軽金属株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００７６】
また、流動性の観点からは、リン酸エステル、ホスフィンオキサイド及びシクロホスファゼンが好ましい。リン酸エステルは、リン酸とアルコール化合物又はフェノール化合物のエステル化合物であれば特に制限はないが、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリス（２，６ジメチルフェニル）ホスフェート及び芳香族縮合リン酸エステル等が挙げられる。中でも、耐加水分解性の観点からは、下記一般式（１９）で示される芳香族縮合リン酸エステルが好ましい。
【００７７】
【化１９】
【００７８】
上記一般式（１９）のリン酸エステルを例示すると、下記構造式（２０）〜（２４）で示されるリン酸エステル等が挙げられる。
【００７９】
【化２０】
【００８０】
これらリン酸エステルの添加量は、充填剤を除く他の全配合成分に対して、燐原子の量で０．２〜３．０質量％の範囲内であることが好ましい。０．２質量％未満の場合は、難燃効果が低くなる傾向がある。３．０質量％を超えた場合は、成形性、耐湿性の低下や、成形時にこれらのリン酸エステルがしみ出し、外観を阻害する場合がある。
【００８１】
ホスフィンオキサイドを難燃剤として用いる場合、ホスフィンオキサイドとしては、下記一般式（２５）で示される化合物が好ましい。
【００８２】
【化２１】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数１〜１０の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び水素原子を示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。）
【００８３】
上記一般式（２５）で示されるリン化合物の中でも、耐加水分解性の観点からは、Ｒ１〜Ｒ３が置換又は非置換のアリール基であることが好ましく、特に好ましくはフェニル基である。
【００８４】
ホスフィンオキサイドの配合量は、封止用エポキシ樹脂組成物に対してリン原子の量が０．０１〜０．２質量％であることが好ましい。より好ましくは０．０２〜０．１質量％であり、さらに好ましくは０．０３〜０．０８質量％である。０．０１質量％未満であると、難燃性が低下し、０．２質量％を超えると、成形性、耐湿性が低下する。
【００８５】
シクロホスファゼンとしては、主鎖骨格中に下記一般式（２６）及び／又は下記一般式（２７）を繰り返し単位として含む環状ホスファゼン化合物、あるいはホスファゼン環中の燐原子に対する置換位置が異なる下記一般式（２８）及び／又は下記一般式（２９）を繰り返し単位として含む化合物等が挙げられる。
【００８６】
【化２２】
【００８７】
ここで、上記一般式（２６）及び上記一般式（２８）中のｍは、１〜１０の整数で、Ｒ１〜Ｒ４は、置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基及び水酸基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良い。Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基を示す。上記一般式（２７）及び上記一般式（２９）中のｎは、１〜１０の整数で、Ｒ５〜Ｒ８は、置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基又はアリール基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良く、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基を示す。また、式中ｍ個のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、ｍ個全てが同一でも異なっていても良く、ｎ個のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、ｎ個全てが同一でも異なっていても良い。
【００８８】
上記一般式（２６）〜（２９）において、Ｒ１〜Ｒ８で示される置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基又はアリール基としては、特に制限はないが、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基、ｐ−クメニル基、メシチル基等のアルキル基置換アリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基等が挙げられ、さらにこれらに置換する置換基としては、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルアミノ基等が挙げられる。
【００８９】
これらの中で、エポキシ樹脂組成物の耐熱性、耐湿性の観点からは、アリール基が好ましく、より好ましくはフェニル基もしくはヒドロキシフェニル基である。
【００９０】
また、上記一般式（２６）〜（２９）中のＡで示される炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基としては、特に制限はないが、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基、ナフチレン基等が挙げられ、エポキシ樹脂組成物の耐熱性、耐湿性の観点からは、アリレン基が好ましく、中でもフェニレン基がより好ましい。
【００９１】
環状ホスファゼン化合物は、上記一般式（２６）〜（２９）のいずれかの重合物、上記一般式（２６）と上記一般式（２７）との共重合物、又は上記一般式（２８）と上記一般式（２９）との共重合物であるが、共重合物の場合、ランダム共重合物でも、ブロック共重合物でも、交互共重合物のいずれでも良い。その共重合モル比ｍ／ｎは、特に限定するものではないが、エポキシ樹脂硬化物の耐熱性や強度向上の観点から、１／０〜１／４が好ましく、１／０〜１／１．５がより好ましい。また、重合度ｍ＋ｎは、１〜２０であり、好ましくは２〜８、より好ましくは３〜６である。
【００９２】
環状ホスファゼン化合物として好ましいものを例示すると、下記一般式（３０）の重合物、下記一般式（３１）の共重合物等が挙げられる。
【００９３】
【化２３】
（ここで、上記一般式（３０）中のｎは、０〜９の整数で、Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立に水素又は水酸基を示す。）
【００９４】
【化２４】
【００９５】
ここで、上記一般式（３１）中のｍ、ｎは、０〜９の整数で、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に水素または水酸基から選ばれ、Ｒ５〜Ｒ６は、それぞれ独立に水素または水酸基から選ばれる。また、上記一般式（３１）で示される環状ホスファゼン化合物は、次に示すｍ個の繰り返し単位（ａ）とｎ個の繰り返し単位（ｂ）を交互に含むもの、ブロック状に含むもの、ランダムに含むもののいずれであってもかまわないが、ランダムに含むものが好ましい。
【００９６】
【化２５】
【００９７】
中でも、上記一般式（３０）でｎが３〜６の重合体を主成分とするものや、上記一般式（３１）でＲ５〜Ｒ６が全て水素又は１つが水酸基であり、ｍ／ｎが１／２〜１／３で、ｍ＋ｎが３〜６の共重合体を主成分とするものが好ましい。また、市販のホスファゼン化合物としては、ＳＰＥ−１００（大塚化学株式会社製、商品名）が入手可能である。
【００９８】
複合金属水酸化物を難燃剤として用いる場合、複合金属水酸化物は、下記組成式（３２）で示される化合物が好ましい。
【００９９】
【化２６】
（ここで、Ｍ１、Ｍ２及びＭ３は、互いに異なる金属元素を示し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｐ、ｑ及びｍは正の数、ｒは０又は正の数を示す。）
【０１００】
中でも、上記組成式（３２）中のｒが０である化合物、すなわち、下記組成式（３３）で示される化合物がさらに好ましい。
【０１０１】
【化２７】
（ここで、Ｍ１及びＭ２は、互いに異なる金属元素を示し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｐ、ｑ及びｌは正の数を示す。）
【０１０２】
上記組成式（３２）及び（３３）中のＭ１、Ｍ２及びＭ３は、互いに異なる金属元素であれば特に制限はないが、難燃性の観点からは、Ｍ１とＭ２が同一とならないようにＭ１が第３周期の金属元素、ＩＩＡ族のアルカリ土類金属元素、ＩＶＢ族、ＩＩＢ族、ＶＩＩＩ族、ＩＢ族、ＩＩＩＡ族及びＩＶＡ族に属する金属元素から選ばれ、Ｍ２がＩＢ族、ＩＩＢ族及びＶＩＩＩ族の遷移金属元素から選ばれることが好ましく、Ｍ１がマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、スズ、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれ、Ｍ２が鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれることがより好ましい。流動性の観点からは、Ｍ１がマグネシウム、Ｍ２が亜鉛又はニッケルであることが好ましく、Ｍ１がマグネシウムで、Ｍ２が亜鉛であることがより好ましい。
【０１０３】
上記組成式（３２）中のｐ、ｑ、ｒのモル比は本発明の効果が得られれば特に制限はないが、ｒ＝０で、ｐ及びｑのモル比ｐ／ｑが、９９／１〜５０／５０であることが好ましい。
【０１０４】
市販品としては、例えば、上記組成式（３３）のＭ１がマグネシウム、Ｍ２が亜鉛で、ｐが７、ｑが３、ｌが１０で、ａ、ｂ、ｃ及びｄが１である水酸化マグネシウム・水酸化亜鉛固溶体複合金属水酸化物（タテホ化学工業株式会社製、商品名：エコーマグＺ−１０）を使用できる。なお、金属元素とは、半金属元素といわれるものも含めるものとし、非金属元素を除く全ての元素をさす。
【０１０５】
なお、金属元素の分類は、典型元素をＡ亜族、遷移元素をＢ亜族とする長周期型の周期率表（出典：共立出版株式会社発行「化学大辞典４」１９８４年３月１５日縮刷版第２８刷）に基づいて行った。
【０１０６】
複合金属水酸化物の形状は、特に制限はないが、流動性、充填性の観点からは、平板状より、適度の厚みを有する多面体形状が好ましい。複合金属水酸化物は、金属水酸化物と比較して多面体状の結晶が得られやすい。
【０１０７】
複合金属水酸化物の配合量は、特に制限はないが、封止用エポキシ樹脂組成物に対して０．５〜２０質量％が好ましく、０．７〜１５質量％がより好ましく、１．４〜１２質量％がさらに好ましい。０．５質量％未満では、難燃性が不十分となる傾向があり、２０質量％を超えると、流動性及び耐リフロー性が低下する傾向がある。
【０１０８】
トリアジン環を有する化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物を共縮重合させたものが、難燃性、銅フレームとの接着性の観点から好ましい。フェノール性水酸基を有する化合物としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、オクチルフェノール等のアルキルフェノール類、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等の多価フェノール類、フェニルフェノール、アミノフェノール、又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類あるいはこれらのフェノール性水酸基を有する化合物とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られる樹脂等がある。中でも、成形性の観点からは、フェノール、クレゾール、あるいはこれらとホルムアルデヒドとの共縮重合物が好ましい。また、トリアジン誘導体としては、分子中にトリアジン核を有するものであれば特に限定はなく、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン等のグアナミン誘導体、シアヌル酸、メチルシアヌレート等のシアヌル酸誘導体が挙げられ、１種類のみまたは２種類以上の併用も可能である。中でも、成形性、信頼性の観点からは、メラミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン誘導体が好ましい。また、アルデヒド基を有する化合物としては、例えば、ホルマリン、パラホルムアルデヒド等が挙げられる。
【０１０９】
フェノール性水酸基を有する化合物に対するアルデヒド基を有する化合物の配合量は、モル比（アルデヒド基を有する化合物（モル）／フェノール性水酸基を有する化合物（モル））で０．０５〜０．９になるようにすることが好ましく、０．１〜０．８とすることがより好ましい。０．０５未満では、フェノール性水酸基に対するアルデヒド基を有する化合物の反応が起こりにくく、未反応フェノールが残りやすく、生産性が悪く、０．９を超えると、合成中ゲル化しやすくなる。
【０１１０】
フェノール性水酸基を有する化合物に対するトリアジン誘導体の配合量は、１〜３０質量％とすることが好ましく、さらには５〜２０質量％とすることがより好ましい。１質量％未満では、難燃性に乏しく、３０質量％を超えると、軟化点が高くなり、組成物作製時の混練性が低下する。トリアジン誘導体に対するアルデヒド基を有する化合物の配合量（モル比）は、特に制限はない。
【０１１１】
フェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物の合成時の反応温度は特に制限はないが、６０〜１２０℃で行うことが好ましい。また、反応のｐＨは、３〜９が好ましく、４〜８がさらに好ましい。ｐＨが３未満では、合成中に樹脂がゲル化し易く、９より高いと、フェノール樹脂とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合が起こりにくくなり、製造した樹脂の窒素含有量が低くなる。
なお、本発明において反応液のｐＨは、ｐＨメータ（例えば、横河電機株式会社製の型番ＰＨ８１）で測定する。標準緩衝液（フタル酸塩ｐＨ緩衝液ｐＨ：４．０１（２５℃）、中性りん酸塩ｐＨ緩衝液ｐＨ：６．８６（２５℃））を用いて、２点校正した後、電極を反応液に入れて、２分以上経過して安定した後の値を採用する。
【０１１２】
必要に応じて、フェノール性水酸基を有する化合物にアルデヒド基を有する化合物、トリアジン誘導体を反応させた後、常圧または減圧下での加熱蒸留等で、未反応のフェノール化合物及びアルデヒド基を有する化合物等を除去することができる。この時、未反応フェノール化合物の残存量が３％以下であることが好ましい。３％を超える場合は、成形性が低下する傾向がある。
【０１１３】
また、得られた共縮重合物の軟化点は、４０〜１５０℃であることが好ましい。４０℃未満であると、ブロッキングしやすく、１５０℃を超える場合は、組成物の混練性が低下する。このフェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物を例示するならば、下記構造式（３４）〜（３９）のものが挙げられる（ｎ，ｍは正の整数）。
【０１１４】
【化２８】
【０１１５】
フェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物の数平均分子量は、５００〜１０００であることが好ましく、５５０〜８００であることがさらに好ましい。５００未満であると、成形性、耐リフロークラック性が低下し、１０００を超える場合は、流動性が低下する傾向がある。また、重量平均分子量は、１５００〜１００００であることが好ましく、１７００〜７０００であることがさらに好ましい。１５００未満であると、耐リフロークラック性が低下し、１００００を超える場合は、流動性が低下する傾向がある。さらに、このフェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは、２．０〜１０．０であることが好ましく、３．０〜６．０であることがさらに好ましい。２．０未満であると、耐リフロークラック性が低下し、１０．０を超える場合は、流動性が低下する傾向がある。
【０１１６】
上記共縮重合物の中でも、フェノール樹脂とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共重縮合物であることが、耐リフロー性の観点からより好ましい。ここで用いられるフェノール樹脂としては、組成物で一般に使用されているもので特に限定はなく、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、オクチルフェノール等のアルキルフェノール類、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等の多価フェノール類、α−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類又はフェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール誘導体とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られる樹脂等がある。中でも、成形性の観点からは、フェノールとホルムアルデヒドとの重縮合物であるフェノールノボラック樹脂が好ましい。
【０１１７】
フェノール樹脂は、上記に列挙したようなものであれば、特にその合成方法は限定するものではないが、下記に示す方法により合成したものを用いた場合、その分子量、分子量分布を本発明で記載する好ましい範囲のものとして合成可能であるという点で、好適である。すなわち、フェノール樹脂を合成する際、フェノール誘導体とアルデヒド基を有する化合物の使用割合は、フェノール誘導体１モルに対してアルデヒド基を有する化合物が０．０１〜２．０モルとすることが好ましく、０．０５〜１．０モルとすることがより好ましい。０．０１モル未満では、反応が不十分となり、分子量が上がらず、成形性、耐熱性、耐水性、難燃性、強度等が低下する傾向があり、２．０モルを超えると、分子量が大きくなりすぎて、混練性が低下する傾向がある。
【０１１８】
この反応温度は、８０〜２２０℃とすることが好ましく、１００〜１８０℃とすることがより好ましい。８０℃未満では、反応性が不充分となり、分子量が小さく、成形性が低下する傾向があり、２２０℃を超えると、フェノール樹脂を合成する際に、生産設備的に不利となる傾向がある。反応時間は、１〜３０時間程度とすることが好ましい。
【０１１９】
また、必要に応じてトリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミン系触媒、ｐ−トルエンスルホン酸、蓚酸等の酸触媒、水酸化ナトリウム、アンモニア等のアルカリ触媒等を、フェノール誘導体１モルに対して、０．００００１〜０．０１モル程度使用してもよい。また、反応系のｐＨは、１〜１０程度とすることが好ましい。
【０１２０】
このようにして、フェノール誘導体及びアルデヒド基を有する化合物を反応させた後、必要に応じて、未反応のフェノール誘導体、アルデヒド基を有する化合物、水等を加熱減圧下に除去することができるが、その条件は、一般的に、温度が８０〜２２０℃、望ましくは１００〜１８０℃、圧力が１００ｍｍＨｇ以下、望ましくは６０ｍｍＨｇ以下、時間が０．５〜１０時間とすることが好ましい。
【０１２１】
フェノール樹脂に、トリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物を添加し、反応させる際のトリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物の使用割合は、フェノール誘導体とアルデヒド基を有する化合物との重縮合物（フェノール樹脂）（未反応のフェノール誘導体、アルデヒド基を有する化合物、水等を加熱減圧下に除去したもの、あるいは前記除去を行っていないもの（この場合は、未反応フェノールも重縮合物の質量に含むこととする））１００ｇ対して、トリアジン誘導体を３〜５０ｇとすることが好ましく、４〜３０ｇとすることがより好ましい。また、アルデヒド基を有する化合物は、重縮合物（フェノール樹脂）１００ｇ対して、５〜１００ｇとすることが好ましく、６〜５０ｇとすることがより好ましい。トリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物を上記のような範囲とすることで、最終的に得られる重縮合物の分子量分布、窒素含有量を所望の範囲に容易に調整することができる。
【０１２２】
反応温度は、５０〜２５０℃とすることが好ましく、８０〜１７０℃とすることがより好ましい。５０℃未満では、反応が不充分となり、分子量が上がらず、成形性、耐熱性、耐水性、難燃性、強度等が低下する傾向があり、２５０℃を超えると、合成する際に、生産設備的に不利となる傾向がある。反応時間は、１〜３０時間程度とすることが好ましい。
【０１２３】
また、必要に応じてトリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミン系触媒、蓚酸等の酸触媒を、フェノール誘導体１モルに対して、０．００００１〜０．０１モル程度使用してもよい。
【０１２４】
また、反応系のｐＨは、１〜１０程度とすることが好ましい。フェノール誘導体とアルデヒド基を有する化合物との重縮合物（フェノール樹脂）と、トリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物との反応の後、未反応のフェノール誘導体、アルデヒド基を有する化合物、水等を加熱減圧下に除去することができるが、その条件は、温度が８０〜１８０℃、圧力が１００ｍｍＨｇ以下、望ましくは６０ｍｍＨｇ以下、時間が０．５〜１０時間とすることが好ましい。合成に用いるトリアジン誘導体としては、分子中にトリアジン核を有する化合物であれば特に限定はなく、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン等のグアナミン誘導体、シアヌル酸、メチルシアヌレート等のシアヌル酸誘導体等が挙げられ、１種類のみまたは２種類以上の併用も可能である。中でも、成形性、信頼性の観点からは、メラミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン誘導体が好ましい。また、アルデヒド基を有する化合物としては、例えば、ホルムアルデヒド、ホルマリン、パラホルムアルデヒド等が挙げられる。
【０１２５】
また、本発明では、さらなる反り低減の観点からケイ素含有重合物を含有してもよい。ケイ素含有重合物としては、下記の一般式（ｃ）及び（ｄ）で示される結合を有し、末端がＲ１、水酸基及びアルコキシ基から選ばれた官能基であり、エポキシ当量が５００〜４０００であれば特に制限はないが、このような重合物として、例えば、分岐状ポリシロキサン等が挙げられる。
【０１２６】
【化２９】
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１２の置換または非置換の１価の炭化水素基から選ばれ、ケイ素含有重合物中の全Ｒ１はすべてが同一でも異なっていてもよい。Ｘは、エポキシ基を含む１価の有機基を示す。）
【０１２７】
上記一般式（ｃ）及び（ｄ）中のＲ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられ、中でも、メチル基又はフェニル基が好ましい。
【０１２８】
また、上記一般式（ｄ）中のＸとしては、２，３−エポキシプロピル基、３，４−エポキシブチル基、４，５−エポキシペンチル基、２−グリシドキシエチル基、３−グリシドキシプロピル基、４−グリシドキシブチル基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピル基等が挙げられ、中でも３−グリシドキシプロピル基が好ましい。
【０１２９】
また、ケイ素含有重合物の末端は、重合物の保存安定性の点から、前述のＲ１、水酸基及びアルコキシ基のいずれかである必要がある。この場合のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられる。さらに、ケイ素含有重合物のエポキシ当量は、５００〜４０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは１０００〜２５００である。５００未満であると、封止用エポキシ樹脂組成物の流動性が低下する傾向にあり、４０００を超えると、硬化物表面に染み出しやすく、成形不良を起こし易い傾向にある。ケイ素含有重合物は、さらに下記の一般式（ｅ）で示される結合を有することが、得られる封止用エポキシ樹脂組成物の流動性と低反り性の両立の観点から好ましい。
【０１３０】
【化３０】
（ここで、Ｒ１は、ケイ素含有重合物中の全Ｒ１に対して炭素数１〜１２の置換又は非置換の１価または２価の炭化水素基から選ばれ、ケイ素含有重合物中の全Ｒ１は、すべてが同一でも異なっていてもよい。）
【０１３１】
上記一般式（ｅ）中のＲ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられ、中でも、メチル基またはフェニル基が好ましい（２価の炭化水素基は、上記のＲ１からＨ原子１個を除いてもの）。
【０１３２】
このようなケイ素含有重合物の軟化点は、４０〜１２０℃に設定されることが好ましく、５０〜１００℃に設定されることがより好ましい。４０℃未満であると、得られる封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物の機械強度が低下する傾向にあり、１２０℃を超えると、封止用エポキシ樹脂組成物中へのケイ素含有重合物の分散性が低下する傾向にある。ケイ素含有重合物の軟化点を調整する方法としては、ケイ素含有重合物の分子量、構成結合単位（例えば（ｃ）〜（ｅ）含有比率等）、ケイ素原子に結合する有機基の種類を設定することで可能であるが、特に封止用エポキシ樹脂組成物へのケイ素含有重合物の分散性及び得られる封止用エポキシ樹脂組成物の流動性の観点から、ケイ素含有重合物中のアリール基の含有量を設定して軟化点を調整することが好ましい。この場合のアリール基とは、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、フェニル基がより好ましい。ケイ素含有重合物中のケイ素原子に結合した一価の有機基中のフェニル基の含有量を、好ましくは６０〜９９モル％、より好ましくは７０〜８５モル％に設定することで、所望の軟化点を有するケイ素含有重合物を得ることができる。
【０１３３】
ケイ素含有重合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値で、好ましくは１０００〜３００００、より好ましくは２０００〜２００００、さらに好ましくは３０００〜１００００である。また。ケイ素含有重合物は、ランダム共重合体であることが好ましい。
【０１３４】
このようなケイ素含有重合物は、以下に示す製造方法により得ることができるが、市販品としては、東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名：ＡＹ４２−１１９として入手可能である。
【０１３５】
ケイ素含有重合物の製造方法は、特に制限なく公知の方法で製造することができる。例えば、加水分解縮合反応により上記（ｃ）〜（ｅ）単位を形成し得るオルガノクロロシラン、オルガノアルコキシシラン、シロキサン、あるいはそれらの部分加水分解縮合物を原料及び反応生成物を溶解可能な有機溶剤と原料のすべての加水分解性基を加水分解可能な量の水との混合溶液中に混合し、加水分解縮合反応させて得ることができる。この際、封止用エポキシ樹脂組成物中に不純物として含有される塩素量を低減させるためにオルガノアルコキシシラン及び／またはシロキサンを原料とすることが好ましい。この場合、反応を促進する触媒として、酸、塩基、有機金属化合物を添加することが好ましい。
【０１３６】
ケイ素含有重合物の原料となるオルガノアルコキシシラン及び／またはシロキサンとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、フェニルビニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、フェニルビニルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（メチル）ジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（メチル）ジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（フェニル）ジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（フェニル）ジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（メチル）ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（メチル）ジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（フェニル）ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（フェニル）ジエトキシシラン、およびこれらの加水分解縮合物等が挙げられる。
【０１３７】
ケイ素含有重合物の含有量は封止用エポキシ樹脂組成物全体の０．２質量％〜１．５質量％が好ましく、０．３〜１．３質量％がさらに好ましい。０．２質量％未満では、ケイ素含有重合物の添加効果が見られず、１．５質量％を超えると、得られる封止用エポキシ樹脂組成物の熱時硬度が低下する傾向にある。
【０１３８】
また、本発明では、必要に応じて下記組成式（４０）で表される化合物及び／又は下記組成式（４１）で表される化合物をＩＣ等の半導体素子の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から含有することができる。
【０１３９】
【化３１】
（０＜ｘ≦０．５、ｍは正の数）
【０１４０】
【化３２】
（０．９≦ｘ≦１．１ ０．６≦ｙ≦０．８ ０．２≦ｚ≦０．４）
【０１４１】
なお、上記組成式（４０）の化合物は市販品として協和化学工業株式会社製、商品名：ＤＨＴ−４Ａとして入手可能である。また、上記組成式（４１）の化合物は、市販品として東亞合成株式会社製、商品名：ＩＸＥ５００として入手可能である。また、必要に応じてその他の陰イオン交換体を添加することもできる。陰イオン交換体としては、特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、例えば、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、アンチモン等から選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられ、これらを単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１４２】
さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイルやシリコーンゴム粉末等の応力緩和剤等を必要に応じて配合することができる。
【０１４３】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機、らいかい機、プラネタリミキサ等によって混合又は溶融混練した後、冷却し、必要に応じて脱泡、粉砕する方法等を挙げることができる。また、必要に応じて成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化してもよい。
【０１４４】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を封止材として用いて、半導体装置等の電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等も挙げられる。ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等を用いてもよい。
【０１４５】
本発明で得られる封止用エポキシ樹脂組成物により封止した素子を備えた本発明の電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材や実装基板に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止した、電子部品装置等が挙げられる。
【０１４６】
ここで、実装基板としては、特に制限するものではなく、例えば、有機基板、有機フィルム、セラミック基板、ガラス基板等のインターポーザ基板、液晶用ガラス基板、ＭＣＭ（Ｍｕｌｔｉ Ｃｈｉｐ Ｍｏｄｕｌｅ）用基板、ハイブリットＩＣ用基板等が挙げられる。
【０１４７】
このような素子を備えた電子部品装置としては、例えば、半導体装置が挙げられ、具体的には、リードフレーム（アイランド、タブ）上に半導体チップ等の素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を用いてトランスファ成形等により封止してなる、ＤＩＰ（Ｄｕａｌ Ｉｎｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＰＬＣＣ（Ｐｌａｓｔｉｃ Ｌｅａｄｅｄ Ｃｈｉｐ Ｃａｒｒｉｅｒ）、ＱＦＰ（Ｑｕａｄ Ｆｌａｔ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＰ（Ｓｍａｌｌ Ｏｕｔｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＪ（Ｓｍａｌｌ Ｏｕｔｌｉｎｅ Ｊ−ｌｅａｄ ｐａｃｋａｇｅ）、ＴＳＯＰ（Ｔｈｉｎ Ｓｍａｌｌ Ｏｕｔｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＴＱＦＰ（Ｔｈｉｎ Ｑｕａｄ Ｆｌａｔ Ｐａｃｋａｇｅ）等の樹脂封止型ＩＣ、テープキャリアにリードボンディングした半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したＣＯＢ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｂｏａｒｄ）、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）等のベアチップ実装した半導体装置、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び／又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したハイブリッドＩＣ、ＭＣＭ（Ｍｕｌｔｉ Ｃｈｉｐ Ｍｏｄｕｌｅ）マザーボード接続用の端子を形成したインターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより半導体チップとインターポーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で半導体チップ搭載側を封止したＢＧＡ（Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）、ＣＳＰ（Ｃｈｉｐ Ｓｉｚｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＭＣＰ（Ｍｕｌｔｉ Ｃｈｉｐ Ｐａｃｋａｇｅ）等が挙げられる。また、これらの半導体装置は、実装基板上に素子が２個以上重なった形で搭載されたスタックド（積層）型パッケージであっても、２個以上の素子を一度に封止用エポキシ樹脂組成物で封止した一括モールド型パッケージであってもよい。
【実施例】
【０１４８】
次に、実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１〜１９、比較例１〜６）
エポキシ樹脂として、エポキシ当量：１９０、及び軟化点：６５℃のｏ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名：ＹＤＣＮ−５００）（エポキシ樹脂１）、硬化剤として、水酸基当量：１００の上記一般式（１）のビスフェノールＦ（ＤＩＣ株式会社製、商品名：ＤＩＣ−ＢＰＦ）（硬化剤１）、軟化点：８０℃、水酸基当量：１０６の上記一般式（２）のフェノールノボラック樹脂（明和化成株式会社製、商品名：Ｈ−１）（硬化剤２）、硬化促進剤として、トリフェニルホスフィン（硬化促進剤１）、カップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（エポキシシラン）（東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名：Ｚ−６０４０）（カップリング剤１）、γ―アニリノプロピルトリメトキシシラン（アニリノシラン）（東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名：Ｚ−６８８３）（カップリング剤２）、添加剤として、硫黄系添加剤（大内新興化学工業株式会社製、商品名：ノクタイザーＳＳ）（添加剤１）、エポキシ化大豆油（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名：Ｏ−１３０Ｐ）（添加剤２）、コアシェル型可とう化剤（三菱レイヨン株式会社製、商品名：ＳＲＫ−２００Ｅ）（添加剤３）、難燃剤として、水酸化アルミニウム（日本軽金属株式会社製、商品名：ＢＷ１０３）、縮合型芳香族系リン酸エステル（大八化学工業株式会社製、商品名：ＰＸ−２００）、三酸化アンチモン及びエポキシ当量：３９７、軟化点：６９℃、臭素含量：４９質量％のビスフェノールＡ型臭素化エポキシ樹脂（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名：ＹＤＢ−４００）、無機充填剤として、平均粒径：１４．５μｍ、比表面積：２．８ｍ２／ｇの球状溶融シリカ、その他の添加剤として、カルナバワックス（クラリアント社製、商品名）及びカーボンブラック（三菱化学株式会社製、商品名：ＭＡ−１００）をそれぞれ表１〜表３に示す質量部で配合し、混練温度：８０℃、混練時間：１０分の条件でロール混練を行い、実施例１〜１９、比較例１〜６の封止用エポキシ樹脂組成物を作製した。
【０１４９】
【表１】
【０１５０】
【表２】
【０１５１】
【表３】
【０１５２】
作製した実施例１〜１９、比較例１〜６の封止用エポキシ樹脂組成物の特性を、次の各試験により求めた。結果を表４〜表６に示す。
（１）スパイラルフロー
ＥＭＭＩ−１−６６に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を、トランスファ成形機により、金型温度：１８０℃、成形圧力：６．９ＭＰａ、硬化時間：９０秒の条件で成形し、流動距離（ｃｍ）を求めた。
【０１５３】
（２）熱時硬度
封止用エポキシ樹脂組成物を、上記（１）の成形条件で直径５０ｍｍ×厚さ３ｍｍの円板に成形し、成形後直ちにショアＤ型硬度計を用いて測定した。
【０１５４】
（３）難燃性
厚さ：１／８インチの試験片を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を上記（１）の成形条件で成形して、さらに１８０℃で５時間後硬化を行い、ＵＬ−９４試験法に従って難燃性を評価した。
【０１５５】
（４）耐リフロー性
（４．１）Ｃｕリードフレーム
寸法：８ｍｍ×１０ｍｍ×０．４ｍｍのシリコンチップを搭載した外形寸法：２０ｍｍ×１４ｍｍ×２ｍｍの８０ピンフラットパッケージ（ＱＦＰ）（リードフレーム材質：銅合金、ダイパッド部上面およびリード先端銀メッキ処理品）を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製し、８５℃、６５％ＲＨ、１６８ｈｒの条件で加湿して、２１０℃、２２０℃、２３０℃、１０秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有無を観察し、試験パッケージ数（５個）に対する剥離、クラック発生パッケージ数で評価した。
【０１５６】
（５）耐湿性
５μｍ厚の酸化膜上に線幅：１０μｍ、厚さ：１μｍのアルミ配線を施した寸法：６ｍｍ×６ｍｍ×０．４ｍｍのテスト用シリコンチップを搭載した外形寸法：２０ｍｍ×１４ｍｍ×２．７ｍｍの８０ピンフラットパッケージ（ＱＦＰ）を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製し、前処理を行った後、加湿して所定時間毎にアルミ配線腐食による断線不良を調べ、試験パッケージ数（１０個）に対する不良パッケージ数で評価した。
【０１５７】
なお、前処理は、８５℃、８５％ＲＨ、７２時間の条件でフラットパッケージを加湿後、２１５℃、９０秒間のベーパーフェーズリフロー処理を行った。その後の加湿は０．２ＭＰａ、１２１℃の条件で行った。
【０１５８】
（６）高温放置特性
５μｍ厚の酸化膜上に、線幅：１０μｍ、厚さ：１μｍのアルミ配線を施した５ｍｍ×９ｍｍ×０．４ｍｍのテスト用シリコンチップを、部分銀メッキを施した４２アロイのリードフレーム上に銀ペーストを用いて搭載し、サーモニック型ワイヤボンダにより、２００℃でチップのボンディングパッドとインナリードをＡｕ線にて接続した１６ピン型ＤＩＰ（Ｄｕａｌ Ｉｎｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製して、２００℃の恒温槽中に保管し、所定時間毎に取り出して導通試験を行い、試験パッケージ数（１０個）に対する導通不良パッケージ数で、高温放置特性を評価した。
【０１５９】
【表４】
【０１６０】
【表５】
【０１６１】
【表６】
【０１６２】
硬化剤として、上記一般式（１）で示される化合物を配合していない比較例１〜６のうち、比較例１〜６は、耐リフロー性が劣っている。また、比較例２、４及び５は、難燃性が劣っており、ＵＬ−９４ Ｖ−０を達成していない。さらには、比較例６は、高温放置特性が劣っている。
【０１６３】
これに対し、硬化剤として、上記一般式（１）で示される化合物を含有している実施例１〜１９は、耐リフロー性が良好で、実施例１７を除いては、ＵＬ−９４ Ｖ−０を達成し、難燃性が良好で、また成形性も良好である。さらには、耐湿性及び高温放置といった信頼性にも優れている。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封止用エポキシ樹脂組成物及びこの組成物で封止した素子を備えた電子部品装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体素子の高密度実装化が進んでいる。これに伴い、樹脂封止型半導体装置は、従来のピン挿入型のパッケージから、面実装型のパッケージが主流になっている。面実装型のＩＣ、ＬＳＩ等は、実装密度を高くし、実装高さを低くするために薄型、小型のパッケージになっており、素子のパッケージに対する占有面積が大きくなり、パッケージの肉厚は非常に薄くなってきた。さらにこれらのパッケージは、従来のピン挿入型のものと実装方法が異なっている。すなわち、ピン挿入型パッケージは、ピンを配線板に挿入した後、配線板裏面からはんだ付けを行うため、パッケージが直接高温にさらされることがなかった。しかし面実装型ＩＣは、配線板表面に仮止めを行い、はんだバスやリフロー装置等で処理されるため、直接はんだ付け温度（リフロー温度）にさらされる。この結果、ＩＣパッケージが吸湿した場合、リフロー時にこの吸湿水分が気化して、発生した蒸気圧が剥離応力として働き、素子、リードフレーム等のインサートと封止材との間で剥離が発生し、パッケージクラックの発生や電気的特性不良の原因となる。このため、はんだ耐熱性（耐リフロー性）に優れた封止材料の開発が望まれている。従って、封止材料としては、低吸湿に加え、リードフレーム（材質として、Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｐｄ等）、チップ界面等の異種材料界面との接着性、密着性の向上が強く求められている。これらの要求に対応するために、主材となるエポキシ樹脂側から様々な検討がされているが、エポキシ樹脂側の改良だけでは、低吸湿化に伴う耐熱性の低下、密着性の向上に伴う硬化性の低下等が生じ、物性のバランスをとることが困難であった。
従って、上記背景から種々のエポキシ樹脂改質材が検討されており、その中の一例としてインデン・スチレン・フェノール共重合オリゴマー（例えば、特許文献１参照）や硫黄原子含有化合物（例えば、特許文献２、３参照）及び硫黄原子含有シランカップリング剤（例えば、特許文献４参照）がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２６５６５０号公報
【特許文献２】特開平１１−１２４４２号公報
【特許文献３】特開２００２−３７０４号公報
【特許文献４】特開２０００−１０３９４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、インデン・スチレン・フェノール共重合オリゴマー（例えば、特許文献１参照）や硫黄原子含有シランカップリング剤（例えば特許文献４参照）を用いた場合は、ＡｇやＡｕのような貴金属との接着性向上効果が乏しく、また硫黄原子含有化合物（例えば特許文献２、３参照）を文献開示の量を添加しても貴金属との接着性が十分に向上せず、いずれも耐リフロー性を満足するに至っていない。さらにはエポキシ化大豆油等の可塑剤、ゴム粒子等の可とう剤を添加しても耐リフロー性を満足するに至っていない。
【０００５】
本発明は、かかる状況に鑑みなされたもので、貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の硬化剤を配合した封止用エポキシ樹脂組成物により上記の目的を達成しうることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
本発明は以下に関する。
（１）（Ａ）エポキシ樹脂と、（Ｂ）硬化剤とを含有し、（Ｂ）硬化剤が、下記一般式（１）で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。
【０００８】
【化１】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜２０の整数を示す。）
（２）（Ｂ）硬化剤として、さらに下記一般式（２）で示される化合物を含有する上記（１）に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【０００９】
【化２】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
（３）（Ｂ）硬化剤として、上記一般式（１）で示される化合物と上記一般式（２）で示される化合物を含有し、（１）の含有量が、（１）と（２）の総和に対して、５〜８０質量％である上記（１）又は（２）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
（４）さらに（Ｃ）難燃剤を含有する上記（１）〜（３）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
（５）（Ｃ）難燃剤として、水酸化アルミニウムを含有する上記（４）に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
（６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物で封止された素子を備えた電子部品装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物は、貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性も良好な電子部品装置等の製品を得ることができ、その工業的価値は大である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明による封止用エポキシ樹脂組成物は、（Ａ）エポキシ樹脂を含有する。（Ａ）エポキシ樹脂としては、従来公知のエポキシ樹脂を使用することができる。使用可能なエポキシ樹脂としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等のフェノール類及び／又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したもの。ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、アルキル置換又は非置換のビフェノール等のジグリシジルエーテル。スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、フェノール・アラルキル樹脂、ビフェニレン骨格を含有するフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１２】
中でも、流動性及び耐リフロー性の観点からは、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノール・アラルキル型エポキシ樹脂及び硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、低吸湿性の観点からは、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましく、耐熱性及び低反り性の観点からは、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂が好ましく、難燃性の観点からは、ビフェニレン型エポキシ樹脂及びナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂が好ましく、硬化性の観点からは、ノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂の少なくとも１種を含有していることが好ましい。難燃性の良好な樹脂を用いてノンハロゲン、ノンアンチモンとすることが、高温放置特性向上の観点から好ましい。
【００１３】
ビフェニル型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（３）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（４）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、フェノール・アラルキル型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（５）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫黄原子含有エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（６）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００１４】
【化３】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００１５】
【化４】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００１６】
【化５】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜２のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一であっても異なってもよい。ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００１７】
【化６】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、置換又は非置換の炭素数１〜１０のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数１〜１０のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００１８】
上記一般式（３）で示されるビフェニル型エポキシ樹脂としては、例えば、４，４′−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）ビフェニル又は４，４′−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）−３，３′，５，５′−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピクロルヒドリンと４，４′−ビフェノール又は４，４′−（３，３′，５，５′−テトラメチル）ビフェノールとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。中でも、４，４′−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）−３，３′，５，５′−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。このような化合物としては、ＹＸ−４０００（三菱化学株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００１９】
上記一般式（４）で示されるビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、例えば、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６及びＲ８がメチル基で、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ７が水素原子であり、ｎ＝０を主成分とするＹＳＬＶ−８０ＸＹ（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２０】
上記一般式（５）で示されるエポキシ樹脂としては、例えばＲ１〜Ｒ５が水素原子であるＮＣ−２０００−Ｌ（日本化薬株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２１】
上記一般式（６）で示される硫黄原子含有エポキシ樹脂の中でも、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６及びＲ７が水素原子で、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がアルキル基であるエポキシ樹脂が好ましく、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６及びＲ７が水素原子で、Ｒ１及びＲ８がｔｅｒｔ−ブチル基で、Ｒ４及びＲ５がメチル基であるエポキシ樹脂がより好ましい。このような化合物としては、ＹＳＬＶ−１２０ＴＥ（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。これらのエポキシ樹脂は、いずれか１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２２】
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（７）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２３】
【化７】
（ここで、Ｒ１及びＲ２は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜６の整数を示す。）
【００２４】
上記一般式（７）中のＲ１としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基等の炭素数１〜５の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び水素原子がより好ましい。Ｒ２としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基等の炭素数１〜５の置換又は非置換の一価の炭化水素基が挙げられ、中でも、水素原子が好ましい。このような化合物としては、ＨＰ−７２００（ＤＩＣ株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２５】
ナフタレン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（８）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（９）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２６】
【化８】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子及び置換又は非置換の炭素数１〜１２の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。ｐは１又は０で、ｌ、ｍはそれぞれ０〜１１の整数であって、（ｌ＋ｍ）が１〜１１の整数でかつ（ｌ＋ｐ）が１〜１２の整数となるよう選ばれる。ｉは０〜３の整数、ｊは０〜２の整数、ｋは０〜４の整数を示す。）
【００２７】
上記一般式（８）で示されるナフタレン型エポキシ樹脂としては、ｌ個の構成単位及びｍ個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体が挙げられ、これらのいずれか１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。Ｒ１、Ｒ２が水素原子で、Ｒ３がメチル基である上記化合物としては、ＮＣ−７０００（日本化薬株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００２８】
【化９】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００２９】
上記一般式（９）で示されるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂としては、例えば、Ｒが水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、Ｅ−１０３２（三菱化学株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００３０】
ビフェニレン型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（１０）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（１１）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００３１】
【化１０】
（上記一般式中のＲ１〜Ｒ９は、全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜１０のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、中でも、水素原子とメチル基が好ましい。ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００３２】
【化１１】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子及び置換又は非置換の炭素数１〜１２の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００３３】
ビフェニレン型エポキシ樹脂としては、ＮＣ−３０００（日本化薬株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。またナフトール・アラルキル型エポキシ樹脂としては、ＥＳＮ−１７５等（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。これらのエポキシ樹脂はいずれか１種を単独で用いても両者を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
ノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（１２）で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００３５】
【化１２】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００３６】
上記一般式（１２）で示されるノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリンを反応させることによって容易に得られる。中でも、一般式（１２）中のＲとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。ｎは０〜３の整数が好ましい。上記一般式（１２）で示されるノボラック型エポキシ樹脂の中でも、硬化性の観点からは、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。このような化合物としては、ＥＯＣＮ−１０２０（日本化薬株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００３７】
また（Ａ）エポキシ樹脂として下記構造式（１３）のエポキシ樹脂も使用することができる。
【００３８】
【化１３】
（一般式（１３）中のＲ１は、置換又は非置換の炭素数１〜１２の炭化水素基及び置換又は非置換の炭素数１〜１２のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。またＲ２は、置換又は非置換の炭素数１〜１２の炭化水素基及び置換又は非置換の炭素数１〜１２のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｍは０〜２の整数を示す。）
【００３９】
上記一般式（１３）で示されるエポキシ樹脂の中でも、Ｒ１、Ｒ２が水素原子である化合物が好ましく、このようなものとしては、ＹＸ−８８００（三菱化学株式会社製、商品名）等が入手可能である。
【００４０】
本発明において用いられる（Ｂ）硬化剤は、上述した一般式（１）で示される化合物を含有する。
【００４１】
上記一般式（１）で示される化合物の中でも、Ｒ１〜Ｒ８が水素原子である化合物が好ましい。このような化合物としては、ＤＩＣ−ＢＰＦ（ＤＩＣ株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００４２】
上記一般式（１）で示される化合物には、上述した一般式（２）で示される化合物を併用することができる。
【００４３】
上記一般式（２）で示される化合物の中でも、Ｒが水素原子である化合物が好ましい。このような化合物としては、Ｈ−１（明和化成株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００４４】
上記硬化剤の性能を発揮するためには、その配合量を、硬化剤（１）と硬化剤（２）の配合比率は、硬化剤（１）と硬化剤（２）の総和に対して、硬化剤（１）の含有量は、５〜８０質量％とすることが好ましく２０〜７０質量％がより好ましく、３０〜６０質量％とすることがさらに好ましい。５質量％以上であれば、耐リフロー性が向上し、８０質量％以下では、硬化性が向上する。
【００４５】
また、上記硬化剤（１）と硬化剤（２）の配合量は、その性能を発揮するために、（１）と（２）の総和が硬化剤全体に対して、６０質量％以上とすることが好ましく、８０質量％以上とすることがさらに好ましい。
【００４６】
本発明には、従来公知の（Ｂ）硬化剤をさらに併用することができる。併用可能な硬化剤としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び／又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、フェノール類及び／又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス（メトキシメチル）ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂、フェノール類及び／又はナフトール類とジシクロペンタジエンから共重合により合成される、ジシクロペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン型ナフトールノボラック樹脂等のジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、パラキシリレン及び／又はメタキシリレン変性フェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン変性フェノール樹脂、これら２種以上を共重合して得たフェノール樹脂等が挙げられる。これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
中でも、難燃性、成形性の観点からは、フェノール・アラルキル樹脂が好ましい。フェノール・アラルキル樹脂としては、下記一般式（１４）で示されるフェノール樹脂が挙げられる。
【００４８】
【化１４】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００４９】
一般式（１４）中のＲが水素原子で、ｎの平均値が０〜８であるフェノール・アラルキル樹脂がより好ましい。具体例としては、ｐ−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂、ｍ−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂等が挙げられる。このような化合物としては、ＸＬＣ（三井化学株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００５０】
また、耐リフロー性、難燃性、成形性の観点から、ナフトール・アラルキル樹脂が好ましい。ナフトール・アラルキル樹脂としては、例えば、下記一般式（１５）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００５１】
【化１５】
（ここで、Ｒ１及びＲ２は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
【００５２】
上記一般式（１５）で示されるナフトール・アラルキル樹脂としては、例えば、Ｒ１、Ｒ２が全て水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、ＳＮ−１７０（新日鐵化学株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。
【００５３】
また、低吸湿性の観点からは、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂が好ましい。ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂としては、例えば、下記一般式（１６）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００５４】
【化１６】
（ここで、Ｒ１及びＲ２は、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜６の整数を示す。）
【００５５】
上記一般式（１６）で示されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂としては、例えば、Ｒ１及びＲ２が水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、ＤＰＰ（新日本石油精製株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００５６】
また、反り低減という観点からは、トリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましい。トリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、例えば、下記一般式（１７）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００５７】
【化１７】
（ここで、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは１〜１０の整数を示す。）
【００５８】
上記一般式（１７）で示されるトリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、例えば、Ｒが水素原子である化合物等が挙げられ、このような化合物としては、ＭＥＨ−７５００（明和化成株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００５９】
また、耐リフロー性などの観点からは、ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂が好ましい。ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂としては、例えば、下記一般式（１８）で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００６０】
【化１８】
【００６１】
上記一般式（１８）中のＲ１〜Ｒ９は、全てが同一でも異なっていてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜１０のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、中でも、水素原子とメチル基が好ましい。ｎは０〜１０の整数を示す。
【００６２】
上記一般式（１８）で示されるビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂としては、例えば、Ｒ１〜Ｒ９が全て水素原子である化合物等が挙げられ、中でも、溶融粘度の観点から、ｎが１以上の縮合体を５０質量％以上含む縮合体の混合物が好ましい。
このような化合物としては、ＭＥＨ−７８５１（明和化成株式会社製、商品名）が市販品として入手可能である。
【００６３】
上記のアラルキル型フェノール樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ビフェニレン型フェノール・アラルキル樹脂は、いずれか１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６４】
併用する上記エポキシ樹脂の中では、特にアラルキル型フェノール樹脂が流動性、耐リフロー性の観点から好ましい。
【００６５】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、（Ａ）エポキシ樹脂と（Ｂ）硬化剤の反応を促進させるために必要に応じて（Ｄ）硬化促進剤を用いることができる。（Ｄ）硬化促進剤は、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７、１，５−ジアザ−ビシクロ（４，３，０）ノネン、５，６−ジブチルアミノ−１，８−ジアザ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７等のシクロアミジン化合物及びこれらの化合物に無水マレイン酸、１，４−ベンゾキノン、２，５−トルキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルベンゾキノン、２，６−ジメチルベンゾキノン、２，３−ジメトキシ−５−メチル−１，４−ベンゾキノン、２，３−ジメトキシ−１，４−ベンゾキノン、フェニル−１，４−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等の３級アミン類及びこれらの誘導体、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等のホスフィン化合物及びこれらのホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、２−エチル−４−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、Ｎ−メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、硬化性の観点から、トリフェニルホスフィンが好ましい。
【００６６】
中でも、難燃性、硬化性、流動性及び離型性の観点からは、第三ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が好ましい。第三ホスフィン化合物としては、特に限定するものではないが、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−エチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−プロピルフェニル）ホスフィン、トリス（４−ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（イソプロピルフェニル）ホスフィン、トリス（ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６−ジメチル−４−エトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４−エトキシフェニル）ホスフィン等のアルキル基、アリール基を有する第三ホスフィン化合物が好ましい。また、キノン化合物としては、ｏ−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、ジフェノキノン、１，４−ナフトキノン、アントラキノン等があげられ、中でも、耐湿性、保存安定性の観点から、ｐ−ベンゾキノンが好ましく、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィンとｐ−ベンゾキノンとの付加物が離型性の観点からより好ましい。
【００６７】
（Ｄ）硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成される量であれば特に制限されるものではないが、封止用エポキシ樹脂組成物に対して０．００５〜２質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましい。０．００５質量％未満では、短時間での硬化性に劣る傾向があり、２質量％を超えると、硬化速度が速すぎて良好な成形品を得ることが困難になる傾向がある。
【００６８】
本発明では、必要に応じて（Ｅ）無機充填剤を配合することができる。無機充填剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上の効果があり、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。さらに、難燃効果のある無機充填剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、複合金属水酸化物、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等が挙げられる。ここで、ホウ酸亜鉛としては、ＦＢ−２９０、ＦＢ−５００（Ｕ．Ｓ．Ｂｏｒａｘ社製、商品名）、ＦＲＺ−５００Ｃ（水澤化学工業株式会社製、商品名）等が、モリブデン酸亜鉛としては、ＫＥＭＧＡＲＤ９１１Ｂ、９１１Ｃ、１１００（Ｓｈｅｒｗｉｎ−Ｗｉｌｌｉａｍｓ社製、商品名）等が各々市販品として入手可能である。
【００６９】
これらの無機充填剤は、単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、充填性、線膨張係数の低減の観点からは、溶融シリカが好ましく、高熱伝導性の観点からは、アルミナが好ましい。また、無機充填剤の形状は、充填性及び金型摩耗性の点から、球形が好ましい。
【００７０】
無機充填剤の配合量は、流動性、難燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減、強度向上及び耐リフロー性の観点から、封止用エポキシ樹脂組成物に対して５０質量％以上が好ましく、６０〜９５質量％が難燃性の観点からより好ましく、７０〜９０質量％がさらに好ましい。
５０質量％未満では難燃性及び耐リフロー性が低下する傾向があり、９５質量％を超えると流動性が不足する傾向があり、また難燃性も低下する傾向にある。
【００７１】
（Ｅ）無機充填剤を用いる場合、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、樹脂成分と充項剤との接着性を高めるために、（Ｆ）カップリング剤をさらに配合することが好ましい。（Ｆ）カップリング剤としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているもので特に制限はないが、例えば、１級及び／又は２級及び／又は３級アミノ基を有するシラン化合物、エポキシシラン、メルカプトシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム／ジルコニウム系化合物等が挙げられる。これらを例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ，Ｎ−ジブチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（トリメトキシシリルプロピル）エチレンジアミン、Ｎ−（ジメトキシメチルシリルイソプロピル）エチレンジアミン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート等のチタネート系カップリング剤等が挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７２】
中でも、流動性、金線変形低減、難燃性の観点からは、２級アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。２級アミノ基を有するシランカップリング剤は、分子内に２級アミノ基を有するシラン化合物であれば特に制限はないが、例えば、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリメトキシシラン、γ−アニリノメチルトリエトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノメチルメチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジエトキシシラン、γ−アニリノメチルエチルジメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）−γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（Ｎ−メチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−エチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−ブチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（Ｎ−ベンジル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００７３】
カップリング剤の全配合量は、封止用エポキシ樹脂組成物に対して０．０４〜５質量％であることが好ましく、０．０５〜４．７５質量％であることがより好ましく、０．１〜２．５質量％であることがさらに好ましい。フレームとの接着性の観点から、０．０４質量％以上にすることが好ましく、パッケージの成形性の観点から、５質量％以下とすることが好ましい。
【００７４】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、さらに難燃性を向上する目的で、従来公知の（Ｃ）難燃剤、特に環境対応、信頼性の観点からは、ノンハロゲン、ノンアンチモンの難燃剤を必要に応じて配合することができる。例えば、赤リン、酸化亜鉛等の無機化合物とフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂で被覆された赤リン及びリン酸エステル、ホスフィンオキサイド等のリン化合物、メラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、複合金属水酸化物、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、酸化鉄、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属元素を含む化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７５】
中でも、難燃性の観点からは、水酸化アルミニウムが好ましい。水酸化アルミニウムの配合量は、エポキシ樹脂１００質量部に対して１０〜３００質量部とすることが好ましく、２０〜２００質量部とすることがさらに好ましく、５０〜１５０質量部とすることがさらに好ましい。
１０質量部以上であると難燃性が向上し、３００質量部以下であると流動性が向上する。水酸化アルミニウムとしては、ＢＷ１０３（日本軽金属株式会社製、商品名）等が市販品として入手可能である。
【００７６】
また、流動性の観点からは、リン酸エステル、ホスフィンオキサイド及びシクロホスファゼンが好ましい。リン酸エステルは、リン酸とアルコール化合物又はフェノール化合物のエステル化合物であれば特に制限はないが、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリス（２，６ジメチルフェニル）ホスフェート及び芳香族縮合リン酸エステル等が挙げられる。中でも、耐加水分解性の観点からは、下記一般式（１９）で示される芳香族縮合リン酸エステルが好ましい。
【００７７】
【化１９】
【００７８】
上記一般式（１９）のリン酸エステルを例示すると、下記構造式（２０）〜（２４）で示されるリン酸エステル等が挙げられる。
【００７９】
【化２０】
【００８０】
これらリン酸エステルの添加量は、充填剤を除く他の全配合成分に対して、燐原子の量で０．２〜３．０質量％の範囲内であることが好ましい。０．２質量％未満の場合は、難燃効果が低くなる傾向がある。３．０質量％を超えた場合は、成形性、耐湿性の低下や、成形時にこれらのリン酸エステルがしみ出し、外観を阻害する場合がある。
【００８１】
ホスフィンオキサイドを難燃剤として用いる場合、ホスフィンオキサイドとしては、下記一般式（２５）で示される化合物が好ましい。
【００８２】
【化２１】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数１〜１０の置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基及び水素原子を示し、すべて同一でも異なってもよい。ただしすべてが水素原子である場合を除く。）
【００８３】
上記一般式（２５）で示されるリン化合物の中でも、耐加水分解性の観点からは、Ｒ１〜Ｒ３が置換又は非置換のアリール基であることが好ましく、特に好ましくはフェニル基である。
【００８４】
ホスフィンオキサイドの配合量は、封止用エポキシ樹脂組成物に対してリン原子の量が０．０１〜０．２質量％であることが好ましい。より好ましくは０．０２〜０．１質量％であり、さらに好ましくは０．０３〜０．０８質量％である。０．０１質量％未満であると、難燃性が低下し、０．２質量％を超えると、成形性、耐湿性が低下する。
【００８５】
シクロホスファゼンとしては、主鎖骨格中に下記一般式（２６）及び／又は下記一般式（２７）を繰り返し単位として含む環状ホスファゼン化合物、あるいはホスファゼン環中の燐原子に対する置換位置が異なる下記一般式（２８）及び／又は下記一般式（２９）を繰り返し単位として含む化合物等が挙げられる。
【００８６】
【化２２】
【００８７】
ここで、上記一般式（２６）及び上記一般式（２８）中のｍは、１〜１０の整数で、Ｒ１〜Ｒ４は、置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基及び水酸基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良い。Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基を示す。上記一般式（２７）及び上記一般式（２９）中のｎは、１〜１０の整数で、Ｒ５〜Ｒ８は、置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基又はアリール基から選ばれ、全て同一でも異なっていても良く、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基を示す。また、式中ｍ個のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、ｍ個全てが同一でも異なっていても良く、ｎ個のＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８は、ｎ個全てが同一でも異なっていても良い。
【００８８】
上記一般式（２６）〜（２９）において、Ｒ１〜Ｒ８で示される置換基を有しても良い炭素数１〜１２のアルキル基又はアリール基としては、特に制限はないが、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基、ｐ−クメニル基、メシチル基等のアルキル基置換アリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基等が挙げられ、さらにこれらに置換する置換基としては、アルキル基、アルコキシル基、アリール基、水酸基、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルアミノ基等が挙げられる。
【００８９】
これらの中で、エポキシ樹脂組成物の耐熱性、耐湿性の観点からは、アリール基が好ましく、より好ましくはフェニル基もしくはヒドロキシフェニル基である。
【００９０】
また、上記一般式（２６）〜（２９）中のＡで示される炭素数１〜４のアルキレン基又はアリレン基としては、特に制限はないが、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基、ナフチレン基等が挙げられ、エポキシ樹脂組成物の耐熱性、耐湿性の観点からは、アリレン基が好ましく、中でもフェニレン基がより好ましい。
【００９１】
環状ホスファゼン化合物は、上記一般式（２６）〜（２９）のいずれかの重合物、上記一般式（２６）と上記一般式（２７）との共重合物、又は上記一般式（２８）と上記一般式（２９）との共重合物であるが、共重合物の場合、ランダム共重合物でも、ブロック共重合物でも、交互共重合物のいずれでも良い。その共重合モル比ｍ／ｎは、特に限定するものではないが、エポキシ樹脂硬化物の耐熱性や強度向上の観点から、１／０〜１／４が好ましく、１／０〜１／１．５がより好ましい。また、重合度ｍ＋ｎは、１〜２０であり、好ましくは２〜８、より好ましくは３〜６である。
【００９２】
環状ホスファゼン化合物として好ましいものを例示すると、下記一般式（３０）の重合物、下記一般式（３１）の共重合物等が挙げられる。
【００９３】
【化２３】
（ここで、上記一般式（３０）中のｎは、０〜９の整数で、Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立に水素又は水酸基を示す。）
【００９４】
【化２４】
【００９５】
ここで、上記一般式（３１）中のｍ、ｎは、０〜９の整数で、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に水素または水酸基から選ばれ、Ｒ５〜Ｒ６は、それぞれ独立に水素または水酸基から選ばれる。また、上記一般式（３１）で示される環状ホスファゼン化合物は、次に示すｍ個の繰り返し単位（ａ）とｎ個の繰り返し単位（ｂ）を交互に含むもの、ブロック状に含むもの、ランダムに含むもののいずれであってもかまわないが、ランダムに含むものが好ましい。
【００９６】
【化２５】
【００９７】
中でも、上記一般式（３０）でｎが３〜６の重合体を主成分とするものや、上記一般式（３１）でＲ５〜Ｒ６が全て水素又は１つが水酸基であり、ｍ／ｎが１／２〜１／３で、ｍ＋ｎが３〜６の共重合体を主成分とするものが好ましい。また、市販のホスファゼン化合物としては、ＳＰＥ−１００（大塚化学株式会社製、商品名）が入手可能である。
【００９８】
複合金属水酸化物を難燃剤として用いる場合、複合金属水酸化物は、下記組成式（３２）で示される化合物が好ましい。
【００９９】
【化２６】
（ここで、Ｍ１、Ｍ２及びＭ３は、互いに異なる金属元素を示し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｐ、ｑ及びｍは正の数、ｒは０又は正の数を示す。）
【０１００】
中でも、上記組成式（３２）中のｒが０である化合物、すなわち、下記組成式（３３）で示される化合物がさらに好ましい。
【０１０１】
【化２７】
（ここで、Ｍ１及びＭ２は、互いに異なる金属元素を示し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｐ、ｑ及びｌは正の数を示す。）
【０１０２】
上記組成式（３２）及び（３３）中のＭ１、Ｍ２及びＭ３は、互いに異なる金属元素であれば特に制限はないが、難燃性の観点からは、Ｍ１とＭ２が同一とならないようにＭ１が第３周期の金属元素、ＩＩＡ族のアルカリ土類金属元素、ＩＶＢ族、ＩＩＢ族、ＶＩＩＩ族、ＩＢ族、ＩＩＩＡ族及びＩＶＡ族に属する金属元素から選ばれ、Ｍ２がＩＢ族、ＩＩＢ族及びＶＩＩＩ族の遷移金属元素から選ばれることが好ましく、Ｍ１がマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、スズ、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれ、Ｍ２が鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれることがより好ましい。流動性の観点からは、Ｍ１がマグネシウム、Ｍ２が亜鉛又はニッケルであることが好ましく、Ｍ１がマグネシウムで、Ｍ２が亜鉛であることがより好ましい。
【０１０３】
上記組成式（３２）中のｐ、ｑ、ｒのモル比は本発明の効果が得られれば特に制限はないが、ｒ＝０で、ｐ及びｑのモル比ｐ／ｑが、９９／１〜５０／５０であることが好ましい。
【０１０４】
市販品としては、例えば、上記組成式（３３）のＭ１がマグネシウム、Ｍ２が亜鉛で、ｐが７、ｑが３、ｌが１０で、ａ、ｂ、ｃ及びｄが１である水酸化マグネシウム・水酸化亜鉛固溶体複合金属水酸化物（タテホ化学工業株式会社製、商品名：エコーマグＺ−１０）を使用できる。なお、金属元素とは、半金属元素といわれるものも含めるものとし、非金属元素を除く全ての元素をさす。
【０１０５】
なお、金属元素の分類は、典型元素をＡ亜族、遷移元素をＢ亜族とする長周期型の周期率表（出典：共立出版株式会社発行「化学大辞典４」１９８４年３月１５日縮刷版第２８刷）に基づいて行った。
【０１０６】
複合金属水酸化物の形状は、特に制限はないが、流動性、充填性の観点からは、平板状より、適度の厚みを有する多面体形状が好ましい。複合金属水酸化物は、金属水酸化物と比較して多面体状の結晶が得られやすい。
【０１０７】
複合金属水酸化物の配合量は、特に制限はないが、封止用エポキシ樹脂組成物に対して０．５〜２０質量％が好ましく、０．７〜１５質量％がより好ましく、１．４〜１２質量％がさらに好ましい。０．５質量％未満では、難燃性が不十分となる傾向があり、２０質量％を超えると、流動性及び耐リフロー性が低下する傾向がある。
【０１０８】
トリアジン環を有する化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物を共縮重合させたものが、難燃性、銅フレームとの接着性の観点から好ましい。フェノール性水酸基を有する化合物としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、オクチルフェノール等のアルキルフェノール類、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等の多価フェノール類、フェニルフェノール、アミノフェノール、又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類あるいはこれらのフェノール性水酸基を有する化合物とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られる樹脂等がある。中でも、成形性の観点からは、フェノール、クレゾール、あるいはこれらとホルムアルデヒドとの共縮重合物が好ましい。また、トリアジン誘導体としては、分子中にトリアジン核を有するものであれば特に限定はなく、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン等のグアナミン誘導体、シアヌル酸、メチルシアヌレート等のシアヌル酸誘導体が挙げられ、１種類のみまたは２種類以上の併用も可能である。中でも、成形性、信頼性の観点からは、メラミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン誘導体が好ましい。また、アルデヒド基を有する化合物としては、例えば、ホルマリン、パラホルムアルデヒド等が挙げられる。
【０１０９】
フェノール性水酸基を有する化合物に対するアルデヒド基を有する化合物の配合量は、モル比（アルデヒド基を有する化合物（モル）／フェノール性水酸基を有する化合物（モル））で０．０５〜０．９になるようにすることが好ましく、０．１〜０．８とすることがより好ましい。０．０５未満では、フェノール性水酸基に対するアルデヒド基を有する化合物の反応が起こりにくく、未反応フェノールが残りやすく、生産性が悪く、０．９を超えると、合成中ゲル化しやすくなる。
【０１１０】
フェノール性水酸基を有する化合物に対するトリアジン誘導体の配合量は、１〜３０質量％とすることが好ましく、さらには５〜２０質量％とすることがより好ましい。１質量％未満では、難燃性に乏しく、３０質量％を超えると、軟化点が高くなり、組成物作製時の混練性が低下する。トリアジン誘導体に対するアルデヒド基を有する化合物の配合量（モル比）は、特に制限はない。
【０１１１】
フェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物の合成時の反応温度は特に制限はないが、６０〜１２０℃で行うことが好ましい。また、反応のｐＨは、３〜９が好ましく、４〜８がさらに好ましい。ｐＨが３未満では、合成中に樹脂がゲル化し易く、９より高いと、フェノール樹脂とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合が起こりにくくなり、製造した樹脂の窒素含有量が低くなる。
なお、本発明において反応液のｐＨは、ｐＨメータ（例えば、横河電機株式会社製の型番ＰＨ８１）で測定する。標準緩衝液（フタル酸塩ｐＨ緩衝液ｐＨ：４．０１（２５℃）、中性りん酸塩ｐＨ緩衝液ｐＨ：６．８６（２５℃））を用いて、２点校正した後、電極を反応液に入れて、２分以上経過して安定した後の値を採用する。
【０１１２】
必要に応じて、フェノール性水酸基を有する化合物にアルデヒド基を有する化合物、トリアジン誘導体を反応させた後、常圧または減圧下での加熱蒸留等で、未反応のフェノール化合物及びアルデヒド基を有する化合物等を除去することができる。この時、未反応フェノール化合物の残存量が３％以下であることが好ましい。３％を超える場合は、成形性が低下する傾向がある。
【０１１３】
また、得られた共縮重合物の軟化点は、４０〜１５０℃であることが好ましい。４０℃未満であると、ブロッキングしやすく、１５０℃を超える場合は、組成物の混練性が低下する。このフェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物を例示するならば、下記構造式（３４）〜（３９）のものが挙げられる（ｎ，ｍは正の整数）。
【０１１４】
【化２８】
【０１１５】
フェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物の数平均分子量は、５００〜１０００であることが好ましく、５５０〜８００であることがさらに好ましい。５００未満であると、成形性、耐リフロークラック性が低下し、１０００を超える場合は、流動性が低下する傾向がある。また、重量平均分子量は、１５００〜１００００であることが好ましく、１７００〜７０００であることがさらに好ましい。１５００未満であると、耐リフロークラック性が低下し、１００００を超える場合は、流動性が低下する傾向がある。さらに、このフェノール性水酸基を有する化合物とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共縮重合物の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは、２．０〜１０．０であることが好ましく、３．０〜６．０であることがさらに好ましい。２．０未満であると、耐リフロークラック性が低下し、１０．０を超える場合は、流動性が低下する傾向がある。
【０１１６】
上記共縮重合物の中でも、フェノール樹脂とトリアジン誘導体とアルデヒド基を有する化合物との共重縮合物であることが、耐リフロー性の観点からより好ましい。ここで用いられるフェノール樹脂としては、組成物で一般に使用されているもので特に限定はなく、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、オクチルフェノール等のアルキルフェノール類、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等の多価フェノール類、α−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類又はフェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール誘導体とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られる樹脂等がある。中でも、成形性の観点からは、フェノールとホルムアルデヒドとの重縮合物であるフェノールノボラック樹脂が好ましい。
【０１１７】
フェノール樹脂は、上記に列挙したようなものであれば、特にその合成方法は限定するものではないが、下記に示す方法により合成したものを用いた場合、その分子量、分子量分布を本発明で記載する好ましい範囲のものとして合成可能であるという点で、好適である。すなわち、フェノール樹脂を合成する際、フェノール誘導体とアルデヒド基を有する化合物の使用割合は、フェノール誘導体１モルに対してアルデヒド基を有する化合物が０．０１〜２．０モルとすることが好ましく、０．０５〜１．０モルとすることがより好ましい。０．０１モル未満では、反応が不十分となり、分子量が上がらず、成形性、耐熱性、耐水性、難燃性、強度等が低下する傾向があり、２．０モルを超えると、分子量が大きくなりすぎて、混練性が低下する傾向がある。
【０１１８】
この反応温度は、８０〜２２０℃とすることが好ましく、１００〜１８０℃とすることがより好ましい。８０℃未満では、反応性が不充分となり、分子量が小さく、成形性が低下する傾向があり、２２０℃を超えると、フェノール樹脂を合成する際に、生産設備的に不利となる傾向がある。反応時間は、１〜３０時間程度とすることが好ましい。
【０１１９】
また、必要に応じてトリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミン系触媒、ｐ−トルエンスルホン酸、蓚酸等の酸触媒、水酸化ナトリウム、アンモニア等のアルカリ触媒等を、フェノール誘導体１モルに対して、０．００００１〜０．０１モル程度使用してもよい。また、反応系のｐＨは、１〜１０程度とすることが好ましい。
【０１２０】
このようにして、フェノール誘導体及びアルデヒド基を有する化合物を反応させた後、必要に応じて、未反応のフェノール誘導体、アルデヒド基を有する化合物、水等を加熱減圧下に除去することができるが、その条件は、一般的に、温度が８０〜２２０℃、望ましくは１００〜１８０℃、圧力が１００ｍｍＨｇ以下、望ましくは６０ｍｍＨｇ以下、時間が０．５〜１０時間とすることが好ましい。
【０１２１】
フェノール樹脂に、トリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物を添加し、反応させる際のトリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物の使用割合は、フェノール誘導体とアルデヒド基を有する化合物との重縮合物（フェノール樹脂）（未反応のフェノール誘導体、アルデヒド基を有する化合物、水等を加熱減圧下に除去したもの、あるいは前記除去を行っていないもの（この場合は、未反応フェノールも重縮合物の質量に含むこととする））１００ｇ対して、トリアジン誘導体を３〜５０ｇとすることが好ましく、４〜３０ｇとすることがより好ましい。また、アルデヒド基を有する化合物は、重縮合物（フェノール樹脂）１００ｇ対して、５〜１００ｇとすることが好ましく、６〜５０ｇとすることがより好ましい。トリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物を上記のような範囲とすることで、最終的に得られる重縮合物の分子量分布、窒素含有量を所望の範囲に容易に調整することができる。
【０１２２】
反応温度は、５０〜２５０℃とすることが好ましく、８０〜１７０℃とすることがより好ましい。５０℃未満では、反応が不充分となり、分子量が上がらず、成形性、耐熱性、耐水性、難燃性、強度等が低下する傾向があり、２５０℃を超えると、合成する際に、生産設備的に不利となる傾向がある。反応時間は、１〜３０時間程度とすることが好ましい。
【０１２３】
また、必要に応じてトリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミン系触媒、蓚酸等の酸触媒を、フェノール誘導体１モルに対して、０．００００１〜０．０１モル程度使用してもよい。
【０１２４】
また、反応系のｐＨは、１〜１０程度とすることが好ましい。フェノール誘導体とアルデヒド基を有する化合物との重縮合物（フェノール樹脂）と、トリアジン誘導体及びアルデヒド基を有する化合物との反応の後、未反応のフェノール誘導体、アルデヒド基を有する化合物、水等を加熱減圧下に除去することができるが、その条件は、温度が８０〜１８０℃、圧力が１００ｍｍＨｇ以下、望ましくは６０ｍｍＨｇ以下、時間が０．５〜１０時間とすることが好ましい。合成に用いるトリアジン誘導体としては、分子中にトリアジン核を有する化合物であれば特に限定はなく、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン等のグアナミン誘導体、シアヌル酸、メチルシアヌレート等のシアヌル酸誘導体等が挙げられ、１種類のみまたは２種類以上の併用も可能である。中でも、成形性、信頼性の観点からは、メラミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン誘導体が好ましい。また、アルデヒド基を有する化合物としては、例えば、ホルムアルデヒド、ホルマリン、パラホルムアルデヒド等が挙げられる。
【０１２５】
また、本発明では、さらなる反り低減の観点からケイ素含有重合物を含有してもよい。ケイ素含有重合物としては、下記の一般式（ｃ）及び（ｄ）で示される結合を有し、末端がＲ１、水酸基及びアルコキシ基から選ばれた官能基であり、エポキシ当量が５００〜４０００であれば特に制限はないが、このような重合物として、例えば、分岐状ポリシロキサン等が挙げられる。
【０１２６】
【化２９】
（ここで、Ｒ１は、炭素数１〜１２の置換または非置換の１価の炭化水素基から選ばれ、ケイ素含有重合物中の全Ｒ１はすべてが同一でも異なっていてもよい。Ｘは、エポキシ基を含む１価の有機基を示す。）
【０１２７】
上記一般式（ｃ）及び（ｄ）中のＲ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられ、中でも、メチル基又はフェニル基が好ましい。
【０１２８】
また、上記一般式（ｄ）中のＸとしては、２，３−エポキシプロピル基、３，４−エポキシブチル基、４，５−エポキシペンチル基、２−グリシドキシエチル基、３−グリシドキシプロピル基、４−グリシドキシブチル基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピル基等が挙げられ、中でも３−グリシドキシプロピル基が好ましい。
【０１２９】
また、ケイ素含有重合物の末端は、重合物の保存安定性の点から、前述のＲ１、水酸基及びアルコキシ基のいずれかである必要がある。この場合のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられる。さらに、ケイ素含有重合物のエポキシ当量は、５００〜４０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは１０００〜２５００である。５００未満であると、封止用エポキシ樹脂組成物の流動性が低下する傾向にあり、４０００を超えると、硬化物表面に染み出しやすく、成形不良を起こし易い傾向にある。ケイ素含有重合物は、さらに下記の一般式（ｅ）で示される結合を有することが、得られる封止用エポキシ樹脂組成物の流動性と低反り性の両立の観点から好ましい。
【０１３０】
【化３０】
（ここで、Ｒ１は、ケイ素含有重合物中の全Ｒ１に対して炭素数１〜１２の置換又は非置換の１価または２価の炭化水素基から選ばれ、ケイ素含有重合物中の全Ｒ１は、すべてが同一でも異なっていてもよい。）
【０１３１】
上記一般式（ｅ）中のＲ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられ、中でも、メチル基またはフェニル基が好ましい（２価の炭化水素基は、上記のＲ１からＨ原子１個を除いてもの）。
【０１３２】
このようなケイ素含有重合物の軟化点は、４０〜１２０℃に設定されることが好ましく、５０〜１００℃に設定されることがより好ましい。４０℃未満であると、得られる封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物の機械強度が低下する傾向にあり、１２０℃を超えると、封止用エポキシ樹脂組成物中へのケイ素含有重合物の分散性が低下する傾向にある。ケイ素含有重合物の軟化点を調整する方法としては、ケイ素含有重合物の分子量、構成結合単位（例えば（ｃ）〜（ｅ）含有比率等）、ケイ素原子に結合する有機基の種類を設定することで可能であるが、特に封止用エポキシ樹脂組成物へのケイ素含有重合物の分散性及び得られる封止用エポキシ樹脂組成物の流動性の観点から、ケイ素含有重合物中のアリール基の含有量を設定して軟化点を調整することが好ましい。この場合のアリール基とは、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、フェニル基がより好ましい。ケイ素含有重合物中のケイ素原子に結合した一価の有機基中のフェニル基の含有量を、好ましくは６０〜９９モル％、より好ましくは７０〜８５モル％に設定することで、所望の軟化点を有するケイ素含有重合物を得ることができる。
【０１３３】
ケイ素含有重合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値で、好ましくは１０００〜３００００、より好ましくは２０００〜２００００、さらに好ましくは３０００〜１００００である。また。ケイ素含有重合物は、ランダム共重合体であることが好ましい。
【０１３４】
このようなケイ素含有重合物は、以下に示す製造方法により得ることができるが、市販品としては、東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名：ＡＹ４２−１１９として入手可能である。
【０１３５】
ケイ素含有重合物の製造方法は、特に制限なく公知の方法で製造することができる。例えば、加水分解縮合反応により上記（ｃ）〜（ｅ）単位を形成し得るオルガノクロロシラン、オルガノアルコキシシラン、シロキサン、あるいはそれらの部分加水分解縮合物を原料及び反応生成物を溶解可能な有機溶剤と原料のすべての加水分解性基を加水分解可能な量の水との混合溶液中に混合し、加水分解縮合反応させて得ることができる。この際、封止用エポキシ樹脂組成物中に不純物として含有される塩素量を低減させるためにオルガノアルコキシシラン及び／またはシロキサンを原料とすることが好ましい。この場合、反応を促進する触媒として、酸、塩基、有機金属化合物を添加することが好ましい。
【０１３６】
ケイ素含有重合物の原料となるオルガノアルコキシシラン及び／またはシロキサンとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、フェニルビニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、フェニルビニルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（メチル）ジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（メチル）ジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（フェニル）ジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル（フェニル）ジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（メチル）ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（メチル）ジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（フェニル）ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（フェニル）ジエトキシシラン、およびこれらの加水分解縮合物等が挙げられる。
【０１３７】
ケイ素含有重合物の含有量は封止用エポキシ樹脂組成物全体の０．２質量％〜１．５質量％が好ましく、０．３〜１．３質量％がさらに好ましい。０．２質量％未満では、ケイ素含有重合物の添加効果が見られず、１．５質量％を超えると、得られる封止用エポキシ樹脂組成物の熱時硬度が低下する傾向にある。
【０１３８】
また、本発明では、必要に応じて下記組成式（４０）で表される化合物及び／又は下記組成式（４１）で表される化合物をＩＣ等の半導体素子の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から含有することができる。
【０１３９】
【化３１】
（０＜ｘ≦０．５、ｍは正の数）
【０１４０】
【化３２】
（０．９≦ｘ≦１．１ ０．６≦ｙ≦０．８ ０．２≦ｚ≦０．４）
【０１４１】
なお、上記組成式（４０）の化合物は市販品として協和化学工業株式会社製、商品名：ＤＨＴ−４Ａとして入手可能である。また、上記組成式（４１）の化合物は、市販品として東亞合成株式会社製、商品名：ＩＸＥ５００として入手可能である。また、必要に応じてその他の陰イオン交換体を添加することもできる。陰イオン交換体としては、特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、例えば、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、アンチモン等から選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられ、これらを単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１４２】
さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイルやシリコーンゴム粉末等の応力緩和剤等を必要に応じて配合することができる。
【０１４３】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機、らいかい機、プラネタリミキサ等によって混合又は溶融混練した後、冷却し、必要に応じて脱泡、粉砕する方法等を挙げることができる。また、必要に応じて成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化してもよい。
【０１４４】
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を封止材として用いて、半導体装置等の電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等も挙げられる。ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等を用いてもよい。
【０１４５】
本発明で得られる封止用エポキシ樹脂組成物により封止した素子を備えた本発明の電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材や実装基板に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止した、電子部品装置等が挙げられる。
【０１４６】
ここで、実装基板としては、特に制限するものではなく、例えば、有機基板、有機フィルム、セラミック基板、ガラス基板等のインターポーザ基板、液晶用ガラス基板、ＭＣＭ（Ｍｕｌｔｉ Ｃｈｉｐ Ｍｏｄｕｌｅ）用基板、ハイブリットＩＣ用基板等が挙げられる。
【０１４７】
このような素子を備えた電子部品装置としては、例えば、半導体装置が挙げられ、具体的には、リードフレーム（アイランド、タブ）上に半導体チップ等の素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を用いてトランスファ成形等により封止してなる、ＤＩＰ（Ｄｕａｌ Ｉｎｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＰＬＣＣ（Ｐｌａｓｔｉｃ Ｌｅａｄｅｄ Ｃｈｉｐ Ｃａｒｒｉｅｒ）、ＱＦＰ（Ｑｕａｄ Ｆｌａｔ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＰ（Ｓｍａｌｌ Ｏｕｔｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＳＯＪ（Ｓｍａｌｌ Ｏｕｔｌｉｎｅ Ｊ−ｌｅａｄ ｐａｃｋａｇｅ）、ＴＳＯＰ（Ｔｈｉｎ Ｓｍａｌｌ Ｏｕｔｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＴＱＦＰ（Ｔｈｉｎ Ｑｕａｄ Ｆｌａｔ Ｐａｃｋａｇｅ）等の樹脂封止型ＩＣ、テープキャリアにリードボンディングした半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したＣＯＢ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｂｏａｒｄ）、ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）等のベアチップ実装した半導体装置、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び／又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したハイブリッドＩＣ、ＭＣＭ（Ｍｕｌｔｉ Ｃｈｉｐ Ｍｏｄｕｌｅ）マザーボード接続用の端子を形成したインターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより半導体チップとインターポーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で半導体チップ搭載側を封止したＢＧＡ（Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）、ＣＳＰ（Ｃｈｉｐ Ｓｉｚｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＭＣＰ（Ｍｕｌｔｉ Ｃｈｉｐ Ｐａｃｋａｇｅ）等が挙げられる。また、これらの半導体装置は、実装基板上に素子が２個以上重なった形で搭載されたスタックド（積層）型パッケージであっても、２個以上の素子を一度に封止用エポキシ樹脂組成物で封止した一括モールド型パッケージであってもよい。
【実施例】
【０１４８】
次に、実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１〜１９、比較例１〜６）
エポキシ樹脂として、エポキシ当量：１９０、及び軟化点：６５℃のｏ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名：ＹＤＣＮ−５００）（エポキシ樹脂１）、硬化剤として、水酸基当量：１００の上記一般式（１）のビスフェノールＦ（ＤＩＣ株式会社製、商品名：ＤＩＣ−ＢＰＦ）（硬化剤１）、軟化点：８０℃、水酸基当量：１０６の上記一般式（２）のフェノールノボラック樹脂（明和化成株式会社製、商品名：Ｈ−１）（硬化剤２）、硬化促進剤として、トリフェニルホスフィン（硬化促進剤１）、カップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（エポキシシラン）（東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名：Ｚ−６０４０）（カップリング剤１）、γ―アニリノプロピルトリメトキシシラン（アニリノシラン）（東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名：Ｚ−６８８３）（カップリング剤２）、添加剤として、硫黄系添加剤（大内新興化学工業株式会社製、商品名：ノクタイザーＳＳ）（添加剤１）、エポキシ化大豆油（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名：Ｏ−１３０Ｐ）（添加剤２）、コアシェル型可とう化剤（三菱レイヨン株式会社製、商品名：ＳＲＫ−２００Ｅ）（添加剤３）、難燃剤として、水酸化アルミニウム（日本軽金属株式会社製、商品名：ＢＷ１０３）、縮合型芳香族系リン酸エステル（大八化学工業株式会社製、商品名：ＰＸ−２００）、三酸化アンチモン及びエポキシ当量：３９７、軟化点：６９℃、臭素含量：４９質量％のビスフェノールＡ型臭素化エポキシ樹脂（新日化エポキシ製造株式会社製、商品名：ＹＤＢ−４００）、無機充填剤として、平均粒径：１４．５μｍ、比表面積：２．８ｍ２／ｇの球状溶融シリカ、その他の添加剤として、カルナバワックス（クラリアント社製、商品名）及びカーボンブラック（三菱化学株式会社製、商品名：ＭＡ−１００）をそれぞれ表１〜表３に示す質量部で配合し、混練温度：８０℃、混練時間：１０分の条件でロール混練を行い、実施例１〜１９、比較例１〜６の封止用エポキシ樹脂組成物を作製した。
【０１４９】
【表１】
【０１５０】
【表２】
【０１５１】
【表３】
【０１５２】
作製した実施例１〜１９、比較例１〜６の封止用エポキシ樹脂組成物の特性を、次の各試験により求めた。結果を表４〜表６に示す。
（１）スパイラルフロー
ＥＭＭＩ−１−６６に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を、トランスファ成形機により、金型温度：１８０℃、成形圧力：６．９ＭＰａ、硬化時間：９０秒の条件で成形し、流動距離（ｃｍ）を求めた。
【０１５３】
（２）熱時硬度
封止用エポキシ樹脂組成物を、上記（１）の成形条件で直径５０ｍｍ×厚さ３ｍｍの円板に成形し、成形後直ちにショアＤ型硬度計を用いて測定した。
【０１５４】
（３）難燃性
厚さ：１／８インチの試験片を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を上記（１）の成形条件で成形して、さらに１８０℃で５時間後硬化を行い、ＵＬ−９４試験法に従って難燃性を評価した。
【０１５５】
（４）耐リフロー性
（４．１）Ｃｕリードフレーム
寸法：８ｍｍ×１０ｍｍ×０．４ｍｍのシリコンチップを搭載した外形寸法：２０ｍｍ×１４ｍｍ×２ｍｍの８０ピンフラットパッケージ（ＱＦＰ）（リードフレーム材質：銅合金、ダイパッド部上面およびリード先端銀メッキ処理品）を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製し、８５℃、６５％ＲＨ、１６８ｈｒの条件で加湿して、２１０℃、２２０℃、２３０℃、１０秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有無を観察し、試験パッケージ数（５個）に対する剥離、クラック発生パッケージ数で評価した。
【０１５６】
（５）耐湿性
５μｍ厚の酸化膜上に線幅：１０μｍ、厚さ：１μｍのアルミ配線を施した寸法：６ｍｍ×６ｍｍ×０．４ｍｍのテスト用シリコンチップを搭載した外形寸法：２０ｍｍ×１４ｍｍ×２．７ｍｍの８０ピンフラットパッケージ（ＱＦＰ）を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製し、前処理を行った後、加湿して所定時間毎にアルミ配線腐食による断線不良を調べ、試験パッケージ数（１０個）に対する不良パッケージ数で評価した。
【０１５７】
なお、前処理は、８５℃、８５％ＲＨ、７２時間の条件でフラットパッケージを加湿後、２１５℃、９０秒間のベーパーフェーズリフロー処理を行った。その後の加湿は０．２ＭＰａ、１２１℃の条件で行った。
【０１５８】
（６）高温放置特性
５μｍ厚の酸化膜上に、線幅：１０μｍ、厚さ：１μｍのアルミ配線を施した５ｍｍ×９ｍｍ×０．４ｍｍのテスト用シリコンチップを、部分銀メッキを施した４２アロイのリードフレーム上に銀ペーストを用いて搭載し、サーモニック型ワイヤボンダにより、２００℃でチップのボンディングパッドとインナリードをＡｕ線にて接続した１６ピン型ＤＩＰ（Ｄｕａｌ Ｉｎｌｉｎｅ Ｐａｃｋａｇｅ）を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記（３）の条件で成形、後硬化して作製して、２００℃の恒温槽中に保管し、所定時間毎に取り出して導通試験を行い、試験パッケージ数（１０個）に対する導通不良パッケージ数で、高温放置特性を評価した。
【０１５９】
【表４】
【０１６０】
【表５】
【０１６１】
【表６】
【０１６２】
硬化剤として、上記一般式（１）で示される化合物を配合していない比較例１〜６のうち、比較例１〜６は、耐リフロー性が劣っている。また、比較例２、４及び５は、難燃性が劣っており、ＵＬ−９４ Ｖ−０を達成していない。さらには、比較例６は、高温放置特性が劣っている。
【０１６３】
これに対し、硬化剤として、上記一般式（１）で示される化合物を含有している実施例１〜１９は、耐リフロー性が良好で、実施例１７を除いては、ＵＬ−９４ Ｖ−０を達成し、難燃性が良好で、また成形性も良好である。さらには、耐湿性及び高温放置といった信頼性にも優れている。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤を含有し、（Ｂ）硬化剤が、下記一般式（１）で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。
【化１】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜２０の整数を示す。）
【請求項２】
（Ｂ）硬化剤として、さらに下記一般式（２）で示される化合物を含有する請求項１に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【化２】
（ここで、Ｒは水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
【請求項３】
（Ｂ）硬化剤として上記一般式（１）で示される化合物と、上記一般式（２）で示される化合物とを含有し、（１）の含有量が、（１）と（２）の総和に対して、５〜８０質量％である請求項１又は２に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【請求項４】
さらに（Ｃ）難燃剤を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｃ）難燃剤として、水酸化アルミニウムを含有する請求項４に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物で封止された素子を備えた電子部品装置。
【請求項１】
（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤を含有し、（Ｂ）硬化剤が、下記一般式（１）で示される化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。
【化１】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ８は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、炭素数６〜１０のアリール基、及び炭素数６〜１０のアラルキル基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜２０の整数を示す。）
【請求項２】
（Ｂ）硬化剤として、さらに下記一般式（２）で示される化合物を含有する請求項１に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【化２】
（ここで、Ｒは水素原子及び炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、ｎは０〜１０の整数を示す。）
【請求項３】
（Ｂ）硬化剤として上記一般式（１）で示される化合物と、上記一般式（２）で示される化合物とを含有し、（１）の含有量が、（１）と（２）の総和に対して、５〜８０質量％である請求項１又は２に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【請求項４】
さらに（Ｃ）難燃剤を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｃ）難燃剤として、水酸化アルミニウムを含有する請求項４に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物で封止された素子を備えた電子部品装置。
【公開番号】特開２０１１−２５２１０５（Ｐ２０１１−２５２１０５Ａ）
【公開日】平成２３年１２月１５日（２０１１．１２．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２７８０４（Ｐ２０１０−１２７８０４）
【出願日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月１５日（２０１１．１２．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
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