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Fターム[4J036HA12]の内容

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Fターム[4J036HA12]に分類される特許

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【課題】 高い耐熱性及び機械的強度を有するとともに、耐衝撃性に優れる硬化物を得ることのできる繊維強化複合材料用熱硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の繊維強化複合材料用熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)と、下記式(1)
【化1】


[式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す]で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)と、(i)硬化剤(C)及び硬化促進剤(D)、又は(ii)硬化触媒(E)とを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、半導体封止用エポキシ樹脂組成物、及び、これを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物の4つの立体異性体のうち、エキソ−エキソの立体配置を有する立体異性体の含有量が、前記異性体合計量中80%以上である脂環式ジエポキシ化合物、硬化剤、硬化促進剤、及び無機充填剤を含有してなる半導体封止用エポキシ樹脂組成物、並びに、これを用いた半導体装置。
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【課題】 プリント配線板用ソルダーレジスト層に要求される耐薬品性、耐熱性、硬度、電気絶縁性、密着性、及び印刷性を満たし、更に保色性にも優れた熱硬化型ソルダーレジスト組成物、その硬化物からなるソルダーレジスト層及びプリント配線板を提供すること。
【解決手段】 硬化後の架橋密度が12000mol/m超であり、ガラス転移温度が150℃以上である白色熱硬化性ソルダーレジスト組成物、並びにその硬化物からなる白色ソルダーレジスト層。 (もっと読む)


【課題】三次元積層型半導体装置の製造プロセス適合性を満たした上で、高い熱伝導性を有するエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フェノール骨格を有するエポキシ樹脂と、下記式(4)で表される構造のエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。
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【課題】充填剤の配合割合を増加させることができ、かつ、接着性および耐熱性の向上を図ることができる封止用シート、および、その封止用シートにより封止された電子部品装置を提供すること。
【解決手段】
下記一般式(1)で示されるエポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填剤とを混練して得られる混練物を、塑性加工することにより、封止用シートを作製する。
一般式(1):
【化1】


(式中、R〜Rは、同一または相異なって、メチル基または水素原子を示し、Xは、−CH−、−O−、または、−S−を示す。) (もっと読む)


【課題】優れた流動性を示すエポキシ樹脂組成物、及びこのエポキシ樹脂組成物により封止された素子を備える電子部品装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂組成物を、(A)エポキシ樹脂と、(B)フェノール樹脂と、(C)トリイソブチルホスフィン及びキノン化合物の付加反応物と、を含有して構成する。また電子部品装置をエポキシ樹脂組成物により封止された素子を備えて構成する。 (もっと読む)


【課題】 ポットライフが長く、しかも強度の高い硬化物の得られる風力発電機ブレード用硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の風力発電機ブレード用硬化性エポキシ樹脂組成物は、(D1)エポキシ基が脂環を構成する隣接する2つの炭素原子を含んで形成されている脂環エポキシ基を分子内に2個以上有するエポキシ化合物と、(B)アミン硬化剤とを含むか、又は、さらに(C)硬化促進剤を含む。この組成物は、さらに、芳香族グリシジルエーテル型エポキシ化合物を含むエポキシ化合物(D2)を含んでいてもよい。前記アミン硬化剤(B)としては環状脂肪族ポリアミンが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ポットライフが長く、更に光の反射率が良好な成形体を得ることができる光半導体装置用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、光半導体装置1において、光半導体素子3が搭載されるプリント配線板上又はリードフレーム2上に配置される成形体4を得るために用いられる光半導体装置用硬化性組成物に関する。本発明に係る光半導体装置用硬化性組成物は、環状エーテル基を有する化合物と、硬化剤と、酸化チタンとを含む。上記硬化剤はジシアンジアミドである。 (もっと読む)


【課題】流動性に優れている光半導体装置用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、光半導体装置1において、光半導体素子3が搭載されるプリント配線板上又はリードフレーム2上に配置される成形体4を得るために用いられる光半導体装置用硬化性組成物に関する。本発明に係る光半導体装置用硬化性組成物は、環状エーテル基を有する化合物と、硬化剤と、酸化チタンとを含む。上記環状エーテル基を有する化合物は、メチレン基を介して2つの芳香環が結合した第1の構造単位、及びオキシメチレン基と芳香環とがエーテル結合した第2の構造単位の内の少なくとも1つの構造単位を有する。上記酸化チタンは、金属酸化物又は金属水酸化物により表面処理されている。 (もっと読む)


【課題】成形性に優れ、熱伝導率が高く、かつ低熱膨張性で耐熱性および耐湿性に優れた成形物を与えるエポキシ樹脂組成物を提供し、更にそれを用いた成形物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂及び硬化剤を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成分として、ビスフェニレンユニットまたはナフチレンユニットを有する構造のメソゲン基を持つエポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分中50wt%以上用い、硬化剤成分として、二官能フェノール性化合物を硬化剤成分中75wt%以上用いて得られるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】エポキシ樹脂組成物の硬化物としたときに難燃性、低吸湿性、密着性、曲げ弾性率などの諸物性において優れたものを与えることのできるエポキシ樹脂、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】置換基として炭素数1〜4のアルコキシ基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキル基置換または非置換ベンゼンとフェノールからなるアルデヒド縮合フェノール系化合物が特定比で含まれる混合物とエピハロヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた硬化物を得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、エポキシ樹脂(A)と、ウレタンプレポリマー末端のイソシアネートがε−ポリカプロラクタム、オキシム類、ピラゾール類の少なくとも1つでブロックされ、前記ウレタンプレポリマーの骨格にビスフェノールAが含まれているウレタン樹脂(B)と、硬化剤(C)と、を含むエポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた硬化物を得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、1種またはそれ以上のエポキシ樹脂(A)と、エポキシ当量220g/eq以上400g/eq以下のエポキシ樹脂に、両末端にカルボキシル末端とアミノ基との何れか一方又は両方を有するアクリロニトリル−ブタジエンゴムを反応させて得られるゴム変性エポキシ樹脂(B)と、1種またはそれ以上の硬化剤(C)と、を含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】低粘度で、かつポットライフが長く、さらに低コストで製造できるエポキシ樹脂硬化剤、該エポキシ樹脂硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物を硬化させた、機械特性に優れたエポキシ樹脂硬化物を提供すること。
【解決手段】分子内に2個以上のアミノ基を有し、且つ該アミノ基に由来する活性水素を有する非変性ポリアミノ化合物(A)と、下記一般式(2)で示されるフェネチル化ポリアミノ化合物(B)とを含有する、エポキシ樹脂硬化剤。


(式中、Wは、フェニレン基又はシクロへキシレン基である。R1、R2及びR3は、少なくとも1つは水素原子であり、水素原子ではないものはフェネチル基である。) (もっと読む)


【課題】低温低湿環境下でも、安定して高い導電性を示す電子写真用導電性部材の提供。
【解決手段】導電層はイオン導電性樹脂を含有し、該イオン導電性樹脂は、下記式(1)、(2)、(3)および(4)で示される構造からなる群から選択される少なくとも1つの構造と、下記式(5)で示される構造とを有する電子写真用導電性部材:(式(1)〜式(5)中、R、R、RおよびRは2価の有機基であり、X、X、XおよびXは各々独立にスルホン酸基または第四級アンモニウム塩基を示す。)。
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【課題】低線膨張で耐熱性に優れ、かつ、耐水性に優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)、及び熱酸発生剤(C)を含有してなる硬化性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】粗化予備硬化物の粗化処理された表面の表面粗さを小さくすることができ、かつ硬化物と金属層との接着強度を高めることができる予備硬化物を提供する。
【解決手段】本発明に係る予備硬化物1は、エポキシ樹脂材料の硬化を進行させることにより得られる。予備硬化物1は、粗化処理される第1の主面1aと第2の主面1bとを有する。上記エポキシ樹脂材料は、エポキシ樹脂と硬化剤とシリカ2とを含む。シリカ2は、粒子径が0.01μm以上、0.5μm未満である第1の小粒径シリカ2Aと、粒子径が0.5μm以上、20μm以下である第2の大粒径シリカ2Bとを含む。予備硬化物1中で、第1の小粒径シリカ2Aと第2の大粒径シリカ2Bとはそれぞれ偏在している。予備硬化物1は、第1の小粒径シリカ2Aと第2の大粒径シリカ2Bとの存在量が異なる第1の領域R1と第2の領域R2を有する。 (もっと読む)


【課題】優れた難燃性を有するとともに、寸法変化が十分に抑制された磁性シートを提供すること。
【解決手段】(A)磁性粉末と、(B)(a)エポキシ基を有するアクリルゴム、(b)フェノールアラルキル樹脂、(c)エポキシ樹脂、(d)硬化促進剤及び(e)メラミンシアヌレートを含む樹脂組成物を硬化してなるバインダ樹脂と、(C)赤燐と、を含有し、(C)赤燐の含有量が、(B)バインダ樹脂及び(C)赤燐の総量を基準として2〜10質量%である、磁性シート。 (もっと読む)


【課題】高透磁率と低tanδ、並びに高体積抵抗率などの特性を全て満たす磁性体組成物を提供すること。
【解決手段】磁性体無機粒子をコアとするコア−シェル構造粒子およびマトリックス樹脂を含有するペースト組成物であって、前記コア−シェル構造粒子のシェルが、金属配位性官能基と重合性基を含む有機物を重合させて得られる樹脂を含むことを特徴とするペースト組成物。 (もっと読む)


【課題】高い屈折率及び吸光係数を有し、かつドライエッチング時におけるレジスト膜に対する高いエッチング選択性を有するレジスト下層膜を形成可能な組成物、形成されるレジスト下層膜並びに当該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される化合物に由来する構造単位(I)を含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物。[式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基又はエポキシ基を有する有機基である。Rは、−CO−又はCRである。R及びRは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜10の炭化水素基である。但し、上記炭化水素基は、水素原子の一部又は全部が置換されていてもよい。]
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