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Fターム[4J038DL17]の内容

塗料、除去剤 (182,219) | 珪素含有連結基高分子 (6,196) | 全てのSiが酸素原子以外の連結基に結合されているもの (90)

Fターム[4J038DL17]に分類される特許

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【課題】防汚性及び遮熱性を兼ね備えた塗料、並びにこれを用いた塗装物を提供する。
【解決手段】本発明の塗装物10は、屋根材、外装材、内装材、建築物等の基材3の表面に、塗料1を塗布または噴霧することでコーティングされており、塗料1は、赤外線を選択的に反射する無機顔料4と、光触媒を備えた中空微粒子5とを含有する。 (もっと読む)


本発明の対象は、次式1


[式中、nは、ポリシラザンが150〜150000g/molの数平均分子量を有するように定められる数である]
で表されるポリシラザンと、溶剤及び触媒とを含むポリシラザン溶液を、フルオロシランもしくはフッ素含有縮合物で表面をコーティングするためのプライマーとして使用する方法である。
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【課題】滑水性、耐泥水研磨性、耐光性に優れる滑水性物品を得ることが可能な滑水性物品の製法。
【解決手段】官能基を4個有するケイ素化合物が添加された溶液を基材に塗布し、該ケイ素化合物と基材とを結合させるとともに、該ケイ素化合物由来のシラノール基が形成されたプライマー層を形成する工程、片側末端のみに加水分解可能な官能基を少なくとも2又は3有し、且つジメチルシロキサンユニット(Si(CHO)の平均繰り返し単位数が20乃至50(常用対数で1.3乃至1.7)である直鎖状ポリジメチルシロキサン、加水分解可能な官能基を有し、且つフルオロカーボンユニット(CF又はCF)の数が1乃至12であるフルオロアルキルシラン、そして、有機溶媒、酸、及び水を有する溶液を混合してなる処理剤を前記プライマー層に塗布し、固化させることで滑水性被膜を形成する工程とからなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 耐久性、色調、密着性に優れた着色材を含有する塗料、およびこの塗料により形成された塗膜を提供する。
【解決手段】 シリコンアルコキシドまたはその加水分解物(A)と、着色材(B)と、高分子分散剤(C)と、シリコンオイル、シランカップリング剤、シラザン、シリコン樹脂、シリコンレジン、コロイダルシリカの群から選択された1種または2種以上のシリコンを含有する成分(D)を含有することを特徴とする塗料を用いる。また、この塗料の塗布により形成されてなる塗膜を用いる。 (もっと読む)


【課題】ポリシラザン由来の酸化ケイ素被膜の有する高い機械的耐久性を維持したまま、上記の欠点である高温焼成時の耐クラック性を著しく高めた酸化ケイ素系被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】ポリシラザンと、有機チタン化合物と、有機溶媒とを含むことを特徴とする酸化ケイ素系被膜形成用組成物。また、酸化ケイ素系被膜形成用組成物を基体上に塗布し、乾燥後550℃以上で焼成することを特徴とする酸化ケイ素系被膜付き基体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜を提供できる膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式(I)の化合物及び/又はその加水分解縮合物を含み、塩
基性である膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び、その製造方法。
1(3-m)1mSiR2SiR3n2(3-n) (I)
式中、R1およびR3は水素原子または1価の置換基であり、R2はアルキレン基、アリーレン基またはこれらの組み合わせを表し、X1およびX2は加水分解性基を表す。mおよびnは0〜2の整数である。 (もっと読む)


【課題】厚膜でも全くクラックが入らず、さらに耐候性に優れた平坦化膜用塗布液および該塗布液を用いて形成される平坦化膜を提供する。
【解決手段】下記式(1)に示すシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体及び溶剤を含有する平坦化膜用塗布液を用いて平坦化膜を作製する。
【化1】


式(1)におけるすべてのRは非置換のフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はt−ブチルであり、Y1は式(a−1)、(a−3)、(a−5)、(a−7)、(a−8)または(a−9)で示される基である。Raがビニル、アリルまたはスチリルであって、X11,X13,X15,X17,X19が炭素数1〜4のアルキルまたは非置換のフェニルである。 (もっと読む)


発明は、ポリシラザンが、溶媒中の一般式 1:
-(SiR’R‘‘-NR‘‘‘)n- (1)
(式中、R‘, R‘‘, R‘‘‘は、独立にH、場合により置換されたアルキル−, アリール−, ビニルもしくは(トリアルコキシシリル)アルキルラジカルであり、n=ポリシラザンが数平均分子量150〜150,000 g/モルを有する整数である)のポリシラザンまたはポリシラザンの混合物の溶液の形態であることを特徴とする、指紋の影響の受けやすさを防ぐための金属表面上の恒久的コーティングとしての、ポリシラザンの使用に関する。発明は、更に、コーティングを製造する方法に関する。 (もっと読む)


硬化すると、実質上透明であり、落書きおよびスカッフィングなどのマーキングおよび微粒子の堆積に対する耐性を示す、硬化性コーティング組成物に関する。特に、本発明の組成物は、硬化すると、インク組成物の吸収および/または濡れを防止する保護コーティングを表面に与える。本発明の組成物は離型剤としても使用できる。
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【課題】プラスチック、ガラス、金属などの成形品表面に優れた特性を与えるコーティング液およびコーティング方法を提供すること。
【解決手段】アルコキシシランとパーヒドロポリシラザンとを、両者の合計として1〜30質量%の濃度で不活性有機溶剤中に溶解してなることを特徴とするコーティング液。 (もっと読む)


【課題】十分な絶縁耐圧を有する金属板被覆用の材料と、この材料を使用して前記隔壁等のフラットパネルディスプレイ用部品を製造する方法、及び、こうして得られるフラットパネルディスプレイ用部品を提供することを目的とする。
【解決手段】金属材料101の表面に塗布し、焼成して電気絶縁性皮膜を形成する材料であって、溶媒と、この溶媒に溶解したシリコン系材料と、この溶媒に分散された粉体とを主成分とする絶縁皮膜形成用材料を使用する。 (もっと読む)


【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供する。
【解決手段】本発明では、基材と、該基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは有機基、Xはアルコキシ基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも1種、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とする複合材であって、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とする複合材を提供する。 (もっと読む)


【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持される複合材を提供する。
【解決手段】本発明では、基材と、該基材上に設けられた被覆部とを有し、該被覆部は、(A)シリカ、または平均組成式RpSiO(4−p)/2(式中、Rは有機基、Xはアルコキシ基、ハロゲン、窒素含有基の群から選ばれる少なくとも1種、pは、0<p<4を満足する数である)の群から選ばれる少なくとも1種、(B)ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とする複合材であって、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が1重量%以上かつ20重量%未満であることを特徴とする複合材を提供する。 (もっと読む)


【課題】 高エネルギー線照射、あるいは不活性ガス雰囲気下または減圧雰囲気下での加熱による不溶化が可能であり、エッチング耐性および溶剤耐性に優れており、かつ、機械的強度に優れた低比誘電率膜を製造することができる新規ポリカルボシランおよびその製造方法、膜形成用組成物、ならびに膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の新規ポリカルボシランの製造方法は、(A)ケイ素‐水素結合を有するポリカルボシランと、(B)ケイ素‐水素結合が付加しうる炭素‐炭素多重結合を有する化合物とを反応させる工程を含む。 (もっと読む)


本発明は、a)、a1)〜a6)を有するポリマー、
a1)酢酸ビニルモノマー単位50〜90質量部、
a2)2〜20個の炭素原子を有するα−分枝状モノカルボン酸のビニルエステルのビニルエステルモノマー単位5〜50質量部、
a3)1〜15個の炭素原子を有するアルコールの(メタ)アクリル酸エステルモノマー単位1〜30質量部、
a4)10〜20個の炭素原子を有する長鎖モノカルボン酸のビニルエステルモノマー単位0〜40質量部、
a5)エチレン単位0〜20質量部、および場合により
a6)他の補助モノマー単位、その際質量部の表示は合計して100質量部になる、
b)1種以上の水溶性保護コロイド0.5〜30質量%、
c)有機珪素化合物0〜20質量%、
d)脂肪酸または脂肪酸の誘導体0〜20質量%、
e)アンチブロック剤0〜30質量%、その際質量%の表示はポリマーa)の全質量に関する、
を含有する、水に再分散可能な疎水性ポリマー粉末に関する。 (もっと読む)


【課題】防汚性を発揮できるとともに、基材のひび割れに対しても十分に追従できる塗装物および塗装方法を提供すること。
【解決手段】塗装物10は、コンクリート製の基材3の表面側に微弾性を有する下塗材2を塗布した後、下塗材2の表面に上塗材1を塗布することにより構成されている。下塗材2は、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、およびアクリル系樹脂のうち少なくともいずれかを含み、塗膜厚が0.1〜2.0mmである。上塗材1は、塗膜化した際に高硬度になるとともに、塗膜化した初期の段階からその表面が親水化するポリシラザンを含んでいる。この上塗材1は、赤外線を選択的に反射する無機顔料4と、光触媒を備えた中空微粒子5とを含有する。 (もっと読む)


次式
【化1】


で表される繰り返し単位を有しかつ溶剤中に可溶な無機もしくは有機ポリシラザン0.1〜35重量%、及び4,4’−トリメチレンビス(1−メチルピペリジン)などの触媒をポリシラザン純分に対して0.1〜10重量%含むコーティング液。金属、プラスチック、ガラス、セラミック、木、セメント、モルタル、煉瓦などの基材表面に該コーティング液を塗布することによって、基材に強く付着し、かつ耐食性、耐擦傷性に優れると共に、さらに耐摩耗性、長期に渡る防汚性、水に対する濡れ性、シーリング性、耐薬品性、耐酸化性、物理的バリヤ効果、耐熱性、耐火性、帯電防止性などの特性にも優れたシリカ被膜を形成することができる。
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次式
-(SiR’R''-NR''')n- (1)
[式中、R'、R''、R'''は、同一かまたは異なり、互いに独立して水素、または場合によっては置換されたアルキル基、アリール基または(トリアルコキシ)アルキル基を表し、この際、nは整数であり、そしてnは、ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる]
で表されるポリシラザンまたは複数種のポリシラザンの混合物を溶媒中に含んでなる溶液、及び少なくとも一種の触媒を含む、フィルム被覆用の被覆剤。本発明は更に、フィルム、特にポリマーフィルムを被覆する方法、並びに被覆されたフィルム及びフィルム合成膜に関する。 (もっと読む)


金属ストリップのコーティングにポリシラザンを使用する方法。
一般式1
-(SiR'R''-NR''')n- (1)
で表されるポリシラザンまたはポリシラザンの混合物を或る溶剤に溶かした溶液、および少なくとも1種の触媒を含む、金属コーティング用のコーティングであって、式中、R'、R''、R'''は、同一であるかまたは異なっており、そして、互いに独立して水素または場合により置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基もしくは(トリアルコキシシリル)アルキル基であり、nは整数であって、前記ポリシラザンが150〜150000 g/molの数平均分子量を有するように定められる、前記のコーティング。さらに本発明は、前記コーティングの製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング/アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 (A)ポリシランと、(B)有機溶媒を含む、表面疎水化用組成物。(A)下記一般式(1)で表わされる化合物の群から選ばれた少なくとも1種のポリシランと、(B)有機溶媒を含む、表面疎水化用組成物、および該組成物を用いた表面疎水化方法、半導体装置。


[式中、R1,R2は水素原子、アルキル基、ビニル基、アリル基またはフェニル基を示す(ただし、R1,R2のうち水素原子は1個または0個である)。] (もっと読む)


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