【課題】本発明の目的はフォトレジスト組成物に用いる多環式オレフィンポリマーの重合方法を提供することである。
【解決手段】本発明により（ａ）多環式オレフィンモノマーを含むモノマー配合物、非オレフィン系連鎖移動剤および活性剤化合物を合わせて混合物を形成すること；（ｂ）混合物を加熱すること；および（ｃ）Ｎｉおよび／またはＰｄを含有する重合触媒を加えることを含む、多環式オレフィンモノマーの重合方法が提供される。非オレフィン系連鎖移動剤には、Ｈ_２、アルキルシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルゲルマン、アルキルアルコキシゲルマン、アルキルスタナン、およびアルキルアルコキシスタナンからなる群より選択される１種以上の化合物が含まれる。活性剤は、ｐＫａが少なくとも５の活性水素を有することを特徴とする。得られる多環式オレフィンポリマーはフォトレジスト組成物に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】高温条件下、かつ低加湿ないし無加湿条件下においても発電特性に優れる固体高分子形燃料電池を備えた燃料電池システムを提供する。
【解決手段】脂肪族環構造を有するペルフルオロモノマーに基づく繰り返し単位を有し、かつイオン交換基を有するポリマー（Ｈ）を触媒層に含む膜電極接合体１０を有する固体高分子形燃料電池２２と、固体高分子形燃料電池２２の温度を調節する調温手段と、固体高分子形燃料電池２２の温度を検知する温度センサ３８と、温度センサ３８からの温度情報に基づいて固体高分子形燃料電池２２の最高温度が９０〜１４０℃の範囲になるように調温手段を制御する制御装置４０とを有する燃料電池システム２０。 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト材料の添加剤を用いたレジスト材料、この材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
（もっと読む）

【課題】露光部における指紋部の画像抜けや、空気中の水分、塩（Ｎａｃｌ）などによる画像故障が改善された平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、（Ｄ）赤外線吸収剤、及び（Ｅ）（ａ）側鎖にフッ素原子の数が９以上のフルオロアルキル基等含有置換基を有する（メタ）アクリレート（１）と、（ｂ）下記一般式（２）で示される側鎖に、カルボキシル基含有の炭素数３〜３０の脂肪族環状構造を有する（メタ）アクリレート（２）と、を共重合成分として有する高分子化合物、を含有する画像記録層を有するネガ型平版印刷版原版。
（もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基又はアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基である。ｍは１〜４の整数である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高解像度でラインエッジラフネスが小さく、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すレジスト膜を与えるポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²はＨ、Ｃ１〜４のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、Ｃ６〜１０のアリール基、ハロゲン原子、又はシアノ基。ＲはＨ、Ｃ１〜１２のアルキル基、Ｏ又はＳを有していてもよく、Ｃ２〜１２のアルケニル基、Ｃ２〜１２のアルキニル基、又はＣ６〜１０のアリール基。Ｒ³〜Ｒ⁶はＨ、あるいはＲ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、又はＲ⁵とＲ⁶が結合してベンゼン環を形成してもよい。ｍ、ｎは１〜４の整数。） （もっと読む）

【課題】屈折性とアッベ数がともに高い成形体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する含硫黄環状構造含有ポリマーを用いる。


（Ｒ¹〜Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、あるいは酸素原子または硫黄原子を含有する置換基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁴のいずれかひとつが硫黄を環構成原子のひとつとする含硫黄環構造を含有する置換基であるか、Ｒ¹〜Ｒ⁴が互いに結合して硫黄を環構成原子のひとつとする含硫黄環構造を形成しているかの、いずれかである。ｍは０または１を表す。） （もっと読む）

式（Ｉ）
Ｒ_fＣＨ₂ＯＣＦ（ＣＦ₃）Ｃ（Ｏ）ＯＭ （Ｉ）
を有するフルオロ界面活性剤と開始剤とを含む水性媒質中で少なくとも１つのフッ素化モノマーを重合するステップを含む方法において、式中Ｒ_fは、２〜５個の炭素原子を有する線状または分岐ペルフルオロアルキル基であり、ＭはＨ、ＮＨ₄、Ｌｉ、ＮａまたはＫである、方法。 （もっと読む）

本発明は、ＡＳＴＭ Ｄ２２４０タイプＡデュロメータ法に準拠して測定した場合のショアＡ硬度が少なくとも８５であり、ＡＳＴＭ Ｄ３９５に準拠して２００℃で７０時間、ＡＳＴＭ Ｄ１４１４によるＯ−リングで測定した場合の圧縮永久歪みが３０％未満である、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）重合体の粒子を含む加硫（パー）フルオロエラストマー組成物のシール物品、ならびに、加硫成形およびＶＤＦ重合体の融点より高い温度で熱的な後処理を行うことによるその製造方法に関する。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｘは一般式（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）で表されるいずれかの構造を表す。（Ｘ−１）の中でＲ^2a、Ｒ^2b、Ｒ^3a、Ｒ^3bは一価の有機基、Ｒ⁴はアルキル基、（Ｘ−２）の中でＲ^5a、Ｒ^5b、Ｒ^6a、Ｒ^6b、Ｒ^7a、Ｒ^7bは一価の有機基、（Ｘ−３）の中でＲ^8a、Ｒ^8b、Ｒ^9a、Ｒ^9bは一価の有機基で、繰り返し単位（１）の−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−結合にＲ^2a〜Ｒ^3b、Ｒ^5a〜Ｒ^7b、Ｒ^8a〜Ｒ^9bのいずれかが連結する。）
【効果】この高分子材料は波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、樹脂の構造の選択により撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能であり、かつ入手及び取り扱いが容易な原料からの製造が可能である。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）式（１）の繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明により、環状アセタール構造を有する新規高分子添加剤を用いたレジスト材料が提供される。この高分子材料は撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


（もっと読む）

本発明は、約５０μｍの厚さを有する試料上でＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って測定された時に１５％未満の全視感透過率（ＴＴ）を有するフルオロポリマー組成物に関し、前記組成物が、少なくとも１つの水素含有フルオロポリマー［ポリマー（Ａ）］と、少なくとも１つの無機顔料［顔料（Ｉ）］を（Ａ）の５〜８０重量％と、１ｒａｄ×ｓｅｃ^−１の剪断速度において、２８０℃の温度で１００Ｐａ×ｓ未満の動的粘度を有するテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）コポリマーから選択された少なくとも１つのペル（ハロ）フルオロポリマー［ポリマー（Ｂ）］を（Ｉ）の１〜９９重量％とを含む。ポリマー（Ｂ）をポリマー（Ａ）をベースとした前記組成物に添加することによって、前記顔料（Ｉ）の均一な分散体を得て、その結果、著しい不透明度を有すると共にさらにフィルムの形態で加工可能であり、十分な機械的性質を提供する組成物が、それから製造できるということが有利に可能になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、樹脂の厚さが薄く、末端加工性、電気特性及び機械的強度に優れたポリテトラフルオロエチレンの成形体を提供する。
【解決手段】本発明は、ポリテトラフルオロエチレンの成形体であって、示差走査熱量計による結晶融解曲線上の３４０±１５℃の温度領域に少なくとも１つ以上の吸熱ピークが現れ、上記結晶融解曲線から算出される２９０〜３５０℃の融解熱量が６２ｍＪ／ｍｇ以上であり、硬さ（シェアＡ）が７０以上であり、変性モノマーに由来するモノマー単位を全単量体単位の０．０６質量％を超えて１質量％以下含有するものであり、かつ、非溶融加工性であることを特徴とする成形体である。 （もっと読む）

【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式（２）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化８４】
（もっと読む）

【課題】液浸露光に適用した場合のマスク形状再現性、パターン倒れ及び露光ラチチュードを改良し、液浸液追随性に優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）特定の混合溶剤、を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】化学的に安定な末端構造を有する、狭分子量分布の含フッ素ノルボルネン類の重合体を提供すること。
【解決手段】下式（ｃ１）で表される化合物と下式（ｃ２）で表される化合物とを反応させてなる触媒の存在下に、下式（ｍ）で表される単量体の１種以上、または下式（ｍ）で表される単量体の１種以上と該単量体と共重合する単量体の１種以上とを含む単量体、の付加重合を行うことを特徴とする、下式（ｐ）で表される繰り返し単位を必須とする含フッ素重合体の製造方法。
（Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｐ）→（Ｍ^１）^＋（Ｒ^４）（Ｌ^１）⁻ （ｃ１）
Ｍ^２（Ｌ^２）_ｎ （ｃ２）
【化１】
（もっと読む）

【解決手段】下記式（１）で表される環状オレフィン官能性シロキサンを付加重合することで得られる環状オレフィン付加重合体。


（式中、Ｒ¹は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない一価の有機基であり、ｓは０〜２の整数であり、ｊは０又は１を示す。）
【効果】本発明によれば、上記環状オレフィン官能性シロキサンを単量体とすることにより、優れた透明性、耐熱性、有機溶媒及びポリシロキサン溶媒への溶解性、保存安定性及び取扱い性を有する環状オレフィン付加重合体が得られる。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィプロセスに適用する非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、ポリマーの製造方法、ポリマーを使用する組成物、及び組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、このようなポリマーの製造方法、このようなポリマーを使用する組成物、及びこのような組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。より詳細には、液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセス。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線領域で用いることができ、露光後熱処理遅延安定性に優れたフォトレジスト用共重合体含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）の単量体を有する重合体を含む本発明のフォトレジスト組成物は優れたエッチング耐性及び耐熱性を有し、遠紫外線領域、特にArF用レジストの露光後遅延安定性（post exposure delay stability）を画期的に向上させることができる。
【化１】


前記式で、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｚ及びｐは明細書に定義した通りである。 （もっと読む）