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【課題】現像液溶解速度が大きく、しかも耐ドライエッチング性にも優れた性能を発揮するレジスト組成物、およびそれに用いる含フッ素トリシクロノネン重合体を提供する。
【解決手段】式(I):
−(T)−(N)−(A)− (I)
(式中、TはOH基および/または酸で解離してOH基に変化する酸解離性官能基含有含フッ素トリシクロノネン誘導体(t)由来の構造単位;Nはノルボルネン誘導体から選ばれる少なくとも1種の単量体(n)由来の構造単位;Aは前記単量体(t)および/または単量体(n)と共重合可能な他の単量体(a)由来の構造単位)で表されるポリマーであって、構造単位Tが55〜100モル%、構造単位Nが0〜45モル%、構造単位Aが0〜20モル%であって、T+Nが80〜100モル%であり、かつT/Nのモル比が55/45〜100/0である含フッ素トリシクロノネン重合体。 (もっと読む)


【課題】透明性と耐湿熱性とを有するコポリマーを提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるモノマー(A)由来の繰り返し単位、1,4−ジオキセン類(B)由来の繰り返し単位、及び末端にカルボキシル基、ヒドロキシル基およびエポキシ基からなる群から選択される少なくとも1つの基を有するビニルモノマー(C)由来の繰り返し単位を含む非晶質コポリマー。一般式(1)


(R1及びR2は各々独立に、水素原子(1H)または重水素原子(2H)を表す。R3は、水素原子(1H)、重水素原子(2H)、アリール基またはアルキル基である。) (もっと読む)


【課題】 燃料バリア性、耐熱性、耐薬品性、耐候性、及び柔軟性に優れ、ポリアミドとの接着性に優れる含フッ素共重合体とポリアミドとの積層ホースの提供。
【解決手段】
含フッ素共重合体の共重合組成が、(a)テトラフルオロエチレン及び/又はクロロトリフルオロエチレンに基づく繰り返し単位、(b)ジカルボン酸無水物基を有し、かつ、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物のような環内に重合性不飽和基を有する環状炭化水素モノマーに基づく繰り返し単位及び(c)その他の含フッ素モノマーに基づく繰り返し単位を含有し、(a)繰り返し単位、(b)繰り返し単位及び(c)繰り返し単位の合計モル量に対して、(a)が50〜99.89モル%、(b)が0.01〜5モル%、かつ、(c)が0.1〜49.99モル%であり、容量流速が0.1〜1000(mm3/秒)である含フッ素共重合体とポリアミドとを共押出成形により積層ホースとする。 (もっと読む)


【課題】熱的不安定末端構造を安定化させ、しかも成形温度が320℃以下、好ましくは300℃以下、さらに好ましくは280℃以下という比較的低温での溶融成形を可能とさせる含フッ素共重合体の製造法を提供する。
【解決手段】実質的にパーフルオロ構造を有する非晶質含フッ素共重合体を0〜50℃、好ましくはこの範囲内の温度でかつ含フッ素共重合体のガラス転移温度Tg以上の温度条件下でフッ素ガスによるフッ素化処理を行い、フッ素化処理含フッ素共重合体を製造する。本発明方法によって製造されたフッ素化処理含フッ素共重合体は、熱的不安定末端構造を安定化させ、すなわちIRによる不安定末端基存在比が0.20以下、好ましくは0.10以下と小さいため、上記の如き比較的低温での溶融成形を可能としている。 (もっと読む)


【課題】精製された含フッ素重合体の製造方法、該含フッ素重合体をペリクル膜に用いたペリクルおよび該ペリクルを用いた露光処理方法を提供する。
【解決手段】構造の一部として下式(A)で表される構造を有するモノマー単位を含む含フッ素重合体(A)を極性を有する官能基を持たない貧溶媒で洗浄する精製された含フッ素重合体の製造方法(ただし、X、X、X、XおよびXは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数1〜3のポリフルオロアルキル基であり、少なくとも3個がフッ素原子である。)。たとえば、CF=CFOCFCFCH=CFの環化重合により形成された下式(I1)で表されるモノマー単位を含む精製された含フッ素重合体の製造方法。該含フッ素重合体の膜からなるペリクル、該ペリクルを用いた露光処理方法。
【化1】
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本発明は、溶剤への溶解性に優れ、薄膜形成が容易な環状エーテル共重合体等の環状エーテル共重合体を提供する。
下記一般式(I)


(式中、R及びRは、同一又は異なって、F、H、Cl若しくは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表し、X及びXは、同一又は異なって、F、H、Cl若しくは−ORを表し、Rは、炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表す。但し、R又はRの少なくとも何れかは、F若しくは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基である。)で表される1,3−ジオキソール環構造含有化合物と、エチレン型不飽和単量体とから得られる環状エーテル共重合体であって、上記環状エーテル共重合体は、ガラス転移点が100〜135℃であり、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン中35℃における固有粘度が0.01〜0.5dl/gであるものであることを特徴とする環状エーテル共重合体である。
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【課題】 耐水性に優れ且つ高性能なレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 環状エーテル骨格を含むモノマー単位を含む液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物。前記環状エーテル骨格を含むモノマー単位として、下記式(Ia)〜(Ig)


から選択された少なくとも1種のモノマー単位を使用できる。 (もっと読む)


【課題】水に溶解されずにイマージョンリソグラフィに使用され、フォトレジストパターン形成におけるフォトレジスト膜内の光の多重干渉を防止し、フォトレジスト膜の厚さ変動によるフォトレジストパターン寸法幅の変動を抑制できる上部反射防止膜を提供する。
【解決手段】特定の範囲の重量平均分子量を有する重合体を上部反射防止膜に使用する。
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【課題】新規なエステル、その製造方法、該エステルを用いたペルフルオロカルボニル化合物、ペルフルオロカルボニル化合物を用いた官能基を有するモノマーの製造方法を提供する。
【解決手段】酸フッ化物とエポキシドとを金属フッ化物の存在下に反応させてエステルを製造することを特徴とするエステルの製造方法。例えば、下式(C11)で表される化合物とエチレンオキサイド(O11)をフッ化カリウムの存在下に反応させてエステル(E11)を得る。
【化1】
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【課題】高い軟化温度を有するスルホン酸ポリマー、該スルホン酸ポリマーを有効成分とする固体高分子電解質を提供する。
【解決手段】下式(A)で表されるモノマー単位を含む重合体。ただし、Rはフッ素原子、炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基、炭素数2〜6の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基、または−QSOFを示し、Qは炭素数1〜6のペルフルオロアルキレン基または炭素数2〜6の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキレン基を示す。
【化1】
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【課題】実用上充分なイオン交換容量及び分子量を有し、軟化温度が高く、高温条件で使用した場合においても機械的強度が保持されうる電解質材料の製造方法の提供。
【解決手段】CF=CF(CFCF)SOH(nは1〜4の整数。)で表されるモノマーに基づくモノマー単位と、テトラフルオロエチレンに基づくモノマー単位とを含む共重合体からなり、かつイオン交換容量が0.7〜1.5ミリ当量/g乾燥樹脂である電解質材料の製造方法であって、CF=CF(CFCF)SOF(nは1〜4の整数。)で表されるモノマーとテトラフルオロエチレンとを90〜180℃でラジカル共重合する重合工程を経ることを特徴とする電解質材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】転写体の製造方法、光硬化性組成物、および該光硬化性組成物を用いた微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成しうる含フッ素単量体(A)および重合開始剤(B)を含有する硬化性組成物を、最小寸法が50μm以下のパターンが表面に形成されたモールドと接触した状態で硬化させるモールドのパターンが転写された転写体の製造方法、ならびに微細パターンの反転パターンを有するモールドの該反転パターン面と、基材表面との間に挟持して押圧した後に光照射により硬化することによって、微細パターンを表面に有する硬化物を形成する光硬化性組成物であり、かつ主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成する、たとえばCF=CFCFC(CF)(OH)CHCH=CHと光重合開始剤を含み実質的に溶媒を含まない光硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】 確実に半田接合することができ、半田接合後の残存フラックスの洗浄除去が必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、誘電特性に優れ、信頼性の高い半田接合を可能とする、熱硬化性フラックス、フラックスシートおよび多層配線板を提供する。
【解決手段】 半田接合時にフラックスとして作用する熱硬化性フラックスであって、フェノール性水酸基を有する樹脂(A)、該樹脂の硬化剤である樹脂(B)および環状オレフィン系樹脂(C)を含むことを特徴とする熱硬化性フラックスにより達成される。配線パターンと、該配線パターン上に形成された導体ポストと、該導体ポストの先端表面に形成された半田層とを有する接続層と、該導体ポストとの層間接続用ランドを有する被接続層とを、前記熱硬化性フラックスからなるフラックス層を介して、加熱・加圧して熱圧着することにより半田接合させた層間接続部を有する多層配線板。 (もっと読む)


架橋された複素環式化合物、フッ素化ノルボルネン化合物、フッ素化アルケン、複素環式化合物、およびこれらの2またはそれ以上の組み合わせ、から誘導されるポリマーが提供される。このポリマーはフォトレジスト組成物を含む広範囲の用途に使用される。また、このポリマーに使用するためのモノマー化合物の製造方法も提供される。 (もっと読む)


【課題】光通信領域の光に対して吸収が小さく電気光学効果による屈折率の変化の大きい、光制御デバイス材料として有用な新規な光学樹脂材料を提供する。
【解決手段】主鎖に含フッ素脂肪族環を有する含フッ素重合体に電気光学効果を有する化合物が分散または結合されてなる光学樹脂材料。たとえば、下記モノマー単位(A11)と下記モノマー単位(M11)を含む含フッ素重合体を含む被膜からなる電気光学効果を有する光学樹脂材料。
【化1】
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【課題】パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソルから誘導される繰返し単位を含むポリマーを含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】(a)(a−1)パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソルから誘導される下記式で表される繰返し単位と、


(a-2)ビニルから誘導される繰返し単位よりなる感光性ポリマーと、(b)光酸発生剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 多環式ノルボルネン系重合体の水素化物を効率よく得る製造方法、特に、脂肪族性炭素−炭素二重結合と芳香族環とを有する多環式ノルボルネン系重合体の、脂肪族性炭素−炭素二重結合が選択的に水素化された水素化物の製造に好適な製造方法を提供する。
【解決手段】 多環式ノルボルネン系重合体中の脂肪族性炭素−炭素二重結合を、
一般式(1):RuHXL(H
(式中、Ruはルテニウム原子を、Hは水素原子を、Hは水素分子を表す。Xはハロゲン原子または炭素数1〜20の炭化水素基を、Lはホスフィンまたはヘテロ原子含有カルベン化合物を表す。aは2または3を、bは1または2を表す。2個または3個のLは同一でも異なっていてもよい。XとLとから選ばれる複数個が互いに結合してキレートを形成していてもよい。)
で表されるルテニウムヒドリド錯体を水素化触媒として用いて、水素化する重合体水素化物の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】 インデン類と、ヒドロキシ基もしくはエポキシ基を有すると共に重合性2重結合を有する化合物とを共重合してなる高分子化合物を含有することを特徴とする下層膜形成材料。
【効果】 本発明の下層膜形成材料は、必要により反射防止効果のある中間層と組み合わせることによって、200nm以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮できるだけの吸光係数を有し、基板加工に用いられるCF4/CHF3系ガス及びCl2/BCl3系ガスエッチングの速度も通常のm−クレゾールノボラック樹脂よりも遅く、高いエッチング耐性を有する。また、パターニング後のレジスト形状も良好である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からPeng−Robinson式を用いて算出した臨界定数の換算温度が0.95以上、換算圧力が0.80以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式(1):
f1・Ix (1)
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも1種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式(2):
【化1】


で示される化合物および/または、一般式(3):
CF2=CF(CX12p(CX34qI (3)
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ペリクル、および該ペリクルを用いた露光処理方法を提供する。
【解決手段】ペリクル膜が枠体に接着されてなる露光処理用のペリクルであって、ペリクル膜が式CX=CX(CFOCX=CFの環化重合により形成されたモノマー単位を必須とする含フッ素重合体からなるペリクル(ただし、X、X、X、およびXは、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を示し、少なくとも1つは水素原子である。nは1または2を示す。)。該ペリクルを用いる露光処理方法。 (もっと読む)


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