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Fターム[4J100BA04]の内容

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【課題】適正感度が高く、屈折率が低くかつ、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】(A)中空又は多孔質粒子と、(B)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、下記の樹脂(C1)又は混合樹脂(C2)とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。
(C1)珪素原子又はフッ素原子を側鎖に含有し、前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂
(C2)珪素原子又はフッ素原子を側鎖に含有する樹脂(C2−1)と、前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂(C2−2)とを含有する混合樹脂 (もっと読む)


【課題】再溶解性、微細パターンの実現能力に優れ、基板との密着力および分散安定性が改善されたアルカリ可溶性バインダー樹脂の提供。
【解決手段】不飽和二重結合を含んだモノマー、カルボン酸を含んだ不飽和二重結合性モノマー、およびアリル基を含む不飽和二重結合性モノマーを繰り返し単位として含み、分子量分布(Mw/Mn)が2.0〜3.5であることを特徴とするアルカリ可溶性バインダー樹脂およびこれを含むネガ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 新規なビニルアルコール/芳香族ビニル−ランダム共重合体、新規なビニルアルコール/ビニルエステル/芳香族ビニル−ランダム共重合体、およびそれらの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】 ビニルシラン/芳香族ビニルをラジカル共重合し、得られた重合体を酸化する。またビニルアルコール/芳香族ビニル−ランダム共重合体をアシル化する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、高い酸素透過性を有し、なおかつ高含水率、低弾性率を有するポリマー用のモノマーを提供する。また該モノマーからなるポリマーおよび眼用レンズを提供する。
【解決手段】
下記式(a)で表されることを特徴とするモノマー。
【化1】


[式(a)中、Xは重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する基を表す。RはHまたはメチル基を表す。Aはシロキサニル基を表す。mは2〜10の整数を表す。nは2〜10の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】良好な解像性、並びにその硬化物における良好な電気絶縁特性及び強度を示すポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基を有する化合物、(C)分子中に少なくとも2つのアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物、(D)下記一般式(1)で表される構成単位(d1)及び不飽和カルボン酸から誘導される構成単位(d2)を含み、質量平均分子量が2万〜50万であるアクリル樹脂、及び(S)溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物を使用する。一般式(1)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、Rは独立に炭化水素基を表し、pは0〜3を表す。
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【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト保護膜材料、更にはこの材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、側鎖にヘキサフルオロヒドロキシプロピル基を有する(メタ)アクリレート単位、側鎖にフッ素含有環状エーテル構造含有基を有する(メタ)アクリレート単位、及び側鎖にスルホン酸基を有するビニルモノマー単位を含有し、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲内である高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。 (もっと読む)


【課題】塗布に起因する面状劣化を抑制し、且つ、欠陥の少ない着色膜を形成し得る着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物を用いてなる、面状が良好で、且つ、欠陥の少ない着色パターン、カラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】(A)着色剤、(B)光重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)下記一般式(1)で表される繰り返し単位A及びBを含み、重量平均分子量が1000以上10000以下である共重合体を含有する着色硬化性組成物である。下記一般式(1)中、R、Rは水素原子又はメチル基を、し、Rは炭素数が1以上4以下のアルキレン基を表す。Lは総炭素数が3以上6以下のアルキレン基を、p及びqは該繰り返し単位の重合比を表す質量百分率であり、rは1以上18以下の整数を、nは1以上10以下の整数を表す。)
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【課題】粒体を用いた造形時において粒体の飛散を抑制することが可能な造形用スラリー
を提供するとともに、この造形用スラリーを用いた造形方法を提供する。
【解決手段】
造形物用スラリーは、造形物を構成する疎水性粒体と、造形物を構成するとともに疎水性
粒体と同系であるモノマー及びオリゴマーの少なくとも一方からなる疎水性液状体とを混
合してなる。同系とは、疎水性粒体を構成する繰り返し単位構造の主骨格と、疎水性液状
体の単位構造の主骨格とが同一であること、該単位構造における側鎖官能基や該単位構造
における主骨格の一部が異なるものの、疎水性液状体と疎水性粒体との相互作用が疎水性
粒体間の相互作用と略同じになる程度に、該単位構造の主骨格同士が一部重複することを
意味している。それゆえに、疎水性粒体及び疎水性液状体がそれぞれ共重合体である場合
には、これらに含まれる原子の組成比が一致していないものも同系であるとする。 (もっと読む)


【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超LSI製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位aを含む、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化1】
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【課題】高い減水性能と優れた早期強度を有するセメント組成物を提供することが可能なセメント混和剤を提供する。
【解決手段】本発明のセメント混和剤は、ポリカルボン酸系共重合体(A)とアルカノールアミン系化合物(B)を含み、該ポリカルボン酸系共重合体(A)は、特定の不飽和ポリアルキレングリコールエーテル系単量体由来の構造単位と特定の不飽和カルボン酸系単量体由来の構造単位とを有する。 (もっと読む)


【課題】硬化した硬化物が比較的高い屈折率と十分な帯電防止能とを併せもつことができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子中にフルオレン骨格及び複数の重合性不飽和二重結合を有する重合性フルオレン化合物と、周期律表15族元素のうちの少なくとも1種、好ましくはリン、が金属酸化物にドープされてなる粒子状のドープ金属酸化物とを含む、さらに好ましくは、ドープされていない粒子状の周期律表4族金属原素の金属酸化物を含む、硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】硬化性が良好で、硬化時に発泡せず透明性に優れ、表面硬度が高く耐傷つき性に優れた、強靱で意匠性に優れたアクリルシラップを、工業的に安全な製造方法で製造する方法を提供する。
【解決手段】分子中にメタクリル酸メチルを70〜99重量%、および、特定の構造式で示されるメタクリル酸エステルを30〜1重量%含むアクリルポリマー5〜95重量%と、メタクリル酸メチル5〜100重量%を含むアクリル単量体95〜5重量%を含むアクリルシラップ。 (もっと読む)


【課題】感放射線性組成物の放射線感度を高いレベルに保ちつつ、ラジカルや過酸化物の発生を抑制することで、優れた耐光性及び耐熱性を有し、かつ透過率及び電圧保持率の低下を抑えた層間絶縁膜等を形成可能なポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]光酸発生体、並びに[C]ヒンダードフェノール構造を含む化合物、ヒンダードアミン構造を含む化合物、アルキルホスファイト構造を含む化合物、及びチオエーテル構造を含む化合物からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。

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【課題】強度に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体、該共役ジエン系重合体と補強剤とを配合してなる重合体組成物、及び、該共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】共役ジエンに基づく単量体単位と下記式(1)で表される単量体に基づく単量体単位とを有する共役ジエン系重合体。
1Si(OR2m3n4(3-m-n) (1)
(式中、mは1又は2を表し、nは1又は2を表し、m+nは2又は3であり、R1は重合性炭素−炭素二重結合を有するヒドロカルビル基を表し、R2はヒドロカルビル基を表し、R2が複数ある場合、複数あるR2は同一でも異なっていてもよく、R3は含酸素置換基を有していてもよいアリール基を表し、R3が複数ある場合、複数あるR3は同一でも異なっていてもよく、R4はアルキル基、又は置換アミノ基を表す。) (もっと読む)


【解決手段】(i)下記(A)〜(C)成分含有の化学増幅ポジ型レジスト材料を基板に塗布しレジスト層を形成する工程、
(A)ヒドロキシスチレン単位、およびp-アミロキシスチレン化合物単位、および/又はスチレン化合物単位、および/又はアルキル(メタ)アクリレート単、のの繰り返し単位を有するMw1,000〜500,000の高分子化合物、
(B)光酸発生剤、
(C)アゾベンゼン構造含有化合物、
(ii)加熱処理後、フォトマスクを介して放射線又は電子線で露光する工程、
(iii)加熱処理後、現像する工程、を有し、現像後の断面パターン形状においてパターン側壁が基板面に対し70°以上87°未満の角度面を有すレジストパターン形成方法。
【効果】保存安定性が高く、プロセス適応性を有し、パターン側壁角度の制御性能に優れ、高解像度で電解メッキ耐性を与えるレジストパターンを形成し得る。 (もっと読む)


【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記化学式(30)又は(31)の少なくともいずれか一方で表される構成単位中のフェノール性水酸基の水素原子が、下記一般式(1)(式中、R1は炭素数20以下の脂肪族環式基であり、nは0または1〜5の整数を表す。)で示される酸解離性溶解抑止基(ii)で置換されていることを特徴とする高分子化合物。
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【課題】優れた復元性を有し、かつ、傷付き難い凹凸形状を備えた光学シート、当該凹凸形状を形成するのに好適な光学部材用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物並びに当該光学シートを備える面光源装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】透明基材と、当該透明基材の一面側に設けられ、当該透明基材とは反対側の面に複数の単位凹凸構造を備える凹凸形状を有する光学機能発現部と、を備える光学シートであって、当該光学機能発現部が、アクリル樹脂及び/又はメタクリル樹脂を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、当該単位凹凸構造の頂部における、ISO14577−1に準拠して押し込み荷重0.5mNで測定される押し込み深さが、0.6μm以上若しくは押し込み荷重300mNで測定される押し込み深さが、15μm以上又は特定の微小硬さ測定で求められる復元率が55%以上であることを特徴とする、光学シート。 (もっと読む)


【課題】シリカ系無機充填剤等の各種無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、実用上十分な耐摩耗性及び破壊強度を満足する変性共役ジエン系重合体を提供する。
【解決手段】ポリビニル芳香族化合物とリチウムとのモル比(ポリビニル芳香族化合物/リチウム)が0.05〜1.0の範囲で調製された多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系重合体の重合活性末端に、特定の化合物を反応させることにより得られる変性共役ジエン系重合体を提供する。 (もっと読む)


【課題】貯蔵安定性に優れ、低温環境下で長期保管しても固形分濃度の分布が実質的に発生せず、均質な状態を保つ共重合体ラテックスの製造方法を提供する。
【解決手段】(a)共役ジエン系単量体20〜80質量%、(b)エチレン系不飽和カルボン酸単量体0.5〜7質量%、(c)他の共重合可能な単量体13〜79.5質量%(但し(a)+(b)+(c)=100質量%)から成る単量体混合物を、前記単量体混合物100質量部に対し、(イ)成分(下記式)及び/又は(ロ)成分(下記式の2個のOH基を、2個のOCOCH3基に置換)0.01〜10質量部を使用し、乳化重合する、共重合体ラテックスの製造方法。
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【課題】硬化後の透過率が高く、且つ加熱しても透過率の低下が小さい硬化膜が得られ、PEBを行わない場合でも、非常に高い感度を有する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)アセタール系樹脂、(B)光酸発生剤、および、(C)溶剤を含み、該(A)アセタール系樹脂が、酸によりカルボキシル基を生成する構造を有する構造単位(a1)、カルボキシル基またはフェノール性水酸基を有する構造単位(a2)、エポキシ基またはオキセタニル基を有する構造単位(a3)、および水酸基またはアルキレンオキシ基を有する構造単位(a4)を含有し、(a1)〜(a4)の含有比率が、モル換算で、(a1):(a2):(a3):(a4)=0.2〜0.65:0.02〜0.2:0.2〜0.6:0.005〜0.3であり、且つ、該(A)アセタール系樹脂における(a4)の含有量が3〜30質量%の範囲である感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


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