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Fターム[4J100BA16]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | O含有基 (18,190) | −COOH基 (1,060)

Fターム[4J100BA16]に分類される特許

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【課題】バリア性と密着性に優れたバリア性積層体の提供。
【解決手段】少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層のアルミまたはケイ素の、酸化物、窒化物、炭化物、またはその混合物を含む無機層とを有し、前記有機層は、下記一般式(1)または(2)で表される重合性化合物を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。
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【課題】優れたマスクエラーファクター(MEF)のレジストパターンを製造し得るレジスト組成物及び該レジスト組成物に用いられる新規な樹脂を提供する。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位(aa)と、式(ab)で表される構造単位(ab)とを有する樹脂及びこの樹脂及び酸発生剤を含むレジスト組成物。


[Raa1及びRab1は、水素原子又はメチル基;Raa2は、水素原子又はフッ化アルキル基;Raa3は、フッ化アルキル基;Raa4は、酸安定基;Aaa1は、炭化水素基;Aab1は、アルカンジイル基;Rab2は、脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】導電率、耐熱性及び耐光性に優れる有機導電膜を形成可能な導電膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】[A]共役系高分子、及び[B]式(1)で表される構造単位(I)を含む共重合体を含有する有機導電膜形成用組成物である。式(1)中、Rはメチレン基、炭素数2〜12のアルキレン基、炭素数4〜20の2価の脂環式基、フェニレン基又はナフチレン基である。Rは、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基又はこれらの基の塩である。
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【課題】新規な光反応性液晶配向剤、及び該光反応性液晶配向剤から形成される光配向層を有する液晶表示素子を提供する。
【解決手段】式(1−1)


で表されるポリマーを含む光反応性液晶配向剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】偏光層と、光配向層とが設けられた新規な偏光素子及び該偏光素子を含む円偏光子、並びにそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材上に、光配向層及び偏光層がこの順で設けられた偏光子であり、
該光配向層が光反応性基を有するポリマーから形成されたものであり、
該偏光層が、
重合性スメクチック液晶化合物及び二色性色素を含有する組成物から形成されたものである偏光素子、当該偏光素子の偏光層上にさらに位相差層を設けた円偏光板又は、当該偏光素子の透明基材を位相差フィルムに置き換えた円偏光板の提供。 (もっと読む)


【課題】耐屈曲性及び絶縁性を損なうことなく、難燃性と耐ブリード性を備えた硬化物を形成できる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】芳香環を少なくとも1つ含み且つリン元素を含有する2価の有機基(X)を側鎖に有するカルボキシル基含有(メタ)アクリル系樹脂(A)と、
分子内に2個以上のエポキシ基を有する多官能性エポキシ化合物(B)と、
塩基性触媒(C)と、を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】露光ラチチュードが広く、耐熱性に優れ、高温プロセス(250℃以上)を有するパターン形成に適用された場合においても、隣接パターンへの色移りが抑制された着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)重合性基を有する色素多量体、(B)顔料、(C)重合性化合物、及び(D)光重合開始剤を含有する着色硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】高いエッチング耐性を有するレジストパターンを形成させることのできる微細パターン形成用組成物、およびそれを用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に芳香族含有置換基を有する水溶性樹脂と純水とを含む微細パターン形成用組成物。この組成物は、水溶性樹脂に結合した酸基を含むか、または組成物中に遊離の酸を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】接着剤の設計の自由度、高接着強度を実現できる(メタ)アクリル樹脂、及び樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される(メタ)アクリル樹脂。
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【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にKrF露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(ア)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂(A)中の全繰返し単位に対して、下記一般式(I)で表される繰返し単位の含有量が20モル%未満で、かつ一般式(I)以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。
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【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】式(I)で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは炭素数2〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基のうち、環Wと結合するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わらない。環Wは、炭素数2〜36の複素環を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる重合性組成物であって、硬化させると、均一な膜状態を維持し、配向制御及び光学特性に優れ、且つ基材への密着性に優れる重合膜が得られる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物(A)並びに(メタ)アクリレート基及びカルボキシル基を各々少なくとも一つ有する化合物(B)を含有する重合性組成物。下記式中、R1及びR2は、各々独立に水素原子又はメチル基を表し、環A1〜A3は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環等を表し、X、Y及びZは、各々独立にC1〜8アルキル基等を表し、L1〜L4は、各々独立に単結合、−COO−、−OCO等を表し、a、b及びcはそれぞれ環A1〜A3における置換基の数であって、環A1〜A3に含まれる6員環の数をvとすると、a、b及びcは各々独立に2v+2以下の整数を表す。
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【課題】トナーの帯電量および帯電量の立ち上がりが温湿度環境の変化に影響されやすく、プリント時に画像濃度の変化が生じたり、特に高温高湿下において、帯電量分布の不均一性にともなう画像かぶりなどの不具合が生じる場合があった。
【解決手段】帯電成分と、着色剤を含有するトナー粒子を有するトナーが、下記式(1)で表される部分構造を側鎖として有する重合体を含有することを特徴とする。


(R1は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1以上18以下のアルキル基、又は、炭素数1以上18以下のアルコキシル基を示す。R2は、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1以上18以下のアルキル基、又は、炭素数1以上18以下のアルコキシル基を示す。mは0以上3以下の整数を示し、mが2または3の場合、R1はそれぞれ独立して選択できる。nは1以上3以下の整数を示す。*は、重合体における連結位置を表す。) (もっと読む)


【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージン(DOF)が良好であり、あるいはマスクエラーファクター(MEF)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式(a)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。


[式(a)中、Rは、水素原子又はメチル基;Aは、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式(a−g1);sは0又は1;A10及びA12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基;A11は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は単結合;X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基;ただし、A10、A11、A12、X10及びX11の合計炭素数は6以下;Rは置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】抗体や抗原等のリガンドが温度によって失活しない温度で長期保存しても溶解状態及び分散状態が損なわれない、UCSTを示す温度応答性高分子の水溶液及び温度応答性粒子の水分散体を提供する。
【解決手段】含有水の状態で上限臨界溶液温度(UCST)を示す温度応答性高分子の水溶液又は該高分子を含有する温度応答性粒子の水分散体にUCST降下剤を所定量含有させて前記水溶液又は水分散体のUCSTを保存温度以下にせしめて保存する。 (もっと読む)


【課題】 酸素存在下における光硬化アクリレート樹脂の表面硬化性と透明性の両立を実現する光硬化性樹脂組成物とそれを用いた光硬化性樹脂組成物ワニス、光硬化性樹脂組成物硬化物を提供する。
【解決手段】 (A−1)一般式(I)に示すポリエチレンオキサイド構造を有する重合性(メタ)アクリレートまたは(A−2)一般式(II)に示すポリグリセロール構造を有する(メタ)アクリレートと、(B)ベンゾフェノン系光開始剤を必須成分として含む光硬化性樹脂組成物。
【化1】
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【課題】カチオン界面活性剤の吸着量、毛髪化粧料として用いたときの粘度や塗布時のなめらかさに優れた共重合体、それを含有する化粧料組成物及び毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を構造内に有するビニル系モノマー(A)に相当する構成単位と、特定の親水性ノニオンビニル系モノマー(B)に相当する構成単位と、特定の疎水性ビニル系モノマー(C)に相当する構成単位とを有する共重合体であって、共重合体の全質量に対してビニル系モノマー(A)に相当する構成単位の割合が15〜80質量%である共重合体。 (もっと読む)


【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を6μm未満のピッチで露光する際に、6μmピッチ露光時の最適パワーに対し、100%未満であり、かつ〔(ピッチ(μm)×75/6+25)−30〕〜〔(ピッチ(μm)×75/6+25)+15〕%のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が10未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】形成されるパターン上において異物の発生が少ない着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、着色剤が、キサンテン染料を含む着色剤であり、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種に由来する構造単位と、N−シクロヘキシルマレイミドに由来する構造単位とを有する共重合体である着色感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】重合性不飽和結合を有するフルオレン化合物を含んでいても、硬化物における基材に対する密着性や耐黄変性を改善又は向上できる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物を、重合性不飽和結合を有するフルオレン化合物(A)[例えば、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシアリール)フルオレン類、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシアリール)フルオレン類など]と、ヒドロキシル基およびカルボキシル基から選択された少なくとも1種の官能基を有する非フルオレン系(メタ)アクリルモノマー(B)(例えば、ヒドロキシル基を有する多官能性(メタ)アクリレート、カルボキシル基を有する(メタ)アクリレートなど)とで少なくとも構成する。 (もっと読む)


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