【課題】高発光効率の有機ＥＬ素子を製造する新規重合体とそのモノマーを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される芳香族化合物。式中、Ｘは、Ａｒ^１，Ｚ及びＡｒ^２の任意の位置に置換する。ｎは２以上の整数である。
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【課題】電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方を有する重合体と、トリフェニルスルホニウム塩化合物（Ｘ１）とを含有する感放射線性樹脂組成物。
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【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位と酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位の両方を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像とアルカリ水溶液による現像の２回の現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、有機溶剤とアルカリ水による２回の現像によって１本のラインを２本に分割し、マスクパターンの２倍の解像力を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度のパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１は、単結合又は＊−（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＯ−Ｏ−を表し、＊は−Ｏ−との結合手を表し、ｍは１〜４の整数を表す。Ｂ^１は、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｂ^２は、−ＣＨ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。環Ｗ^１は、置換基を有していてもよい芳香環を表す。］
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【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。


一般式（Ｉ）中、ＡＲは、アリール基を表す。Ｒｎは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。ＲｎとＡＲとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率異方性等の光学的性質を変化させることなく、耐熱性や強度に優れた光学部材を形成するために用いることができる重合性化合物を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、Ｐ−Ｘ−Ｍ−Ｘ−Ｐ（ここで、Ｍはコア部であり、Ｐは重合性基を含む末端部であり、Ｘは結合基である。）で表され、４官能以上であり、直鎖のみのアルキル鎖が比較的短い重合性化合物を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含む化合物（Ａ）と、−ＳＯ_２−を含む環式基を有し、かつ酸解離性溶解抑制基を有さない化合物（Ｈ）とを含有し、化合物（Ａ）及び化合物（Ｈ）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物；化合物（Ｈ）は、一般式（３−１）で表される基を含有する化合物であることが好ましい［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ａは０〜２の整数であり、Ｒ^８はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である］。
［化１］
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【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ’）を含有し、基材成分（Ａ’）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は単結合又は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
［化１］
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【課題】優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。
【化１】
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【解決手段】酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、アルカリ現像液に難溶の高分子化合物と、光酸発生剤と、アミノ基を発生する光塩基発生剤と、アミノ基を有し、光酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶媒とを含むレジスト材料を基板上に塗布、ベークし、透過率が１０〜４０％の範囲のハーフトーン位相シフトマスクを用いて露光、ベーク、現像の工程を経て、露光量の少ない未露光部分と露光量の多い過露光部分の膜を現像液に溶解させず、露光量が中間の露光領域を現像液に溶解させたパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、クエンチャーと光塩基発生剤基からのアミノ基の総量が光酸発生剤からの酸の量よりも多い組成のレジスト材料を用いると、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】電気特性を損なうことなく、耐久性が高く、かつ塗布成膜可能な新規な有機半導体材料となり得る重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される重合性化合物、この重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組成物、前記重合性化合物又は重合性組成物を重合して得られる高分子、この高分子を構成材料とする半導体装置。


〔式中、Ｘ_１及びＸ_２はＯ等を、Ａ_１及びＡ_２は特定のの芳香族基を、Ｙ_１〜Ｙ_６は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を、Ｚ_１及びＺ_２は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されることを特徴とする重合性モノマー。


（式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基である。Ｒ²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。Ｒ³は、酸不安定基である。ｍは、１〜４の整数である。）
【効果】本発明の重合性モノマーを（共）重合して得られる高分子化合物をベース樹脂とするポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、本発明によれば、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料等として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】画像表示装置等の光学機器を製造する際の加熱に対しても種々の光学的特性が安定している重合性液晶材料が硬化されてなる光学素子を製造する方法の提供。
【解決手段】支持体上に重合性液晶材料を塗布し、重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有するように重合性液晶材料を硬化させて光学機能層を形成し、前記光学機能層の形成後に、熱処理後の前記光学機能層の膜厚をＡ、前記光学素子の熱処理の後に再度同じ温度で６０分間加熱した後の前記光学機能層の膜厚をＢ、とした場合に、（Ａ−Ｂ）／Ａで定義される前記光学機能層の膜厚減少率が、５％以下となるように、前記光学機能層を熱処理する、ことを含んでなり、前記重合性液晶材料が、特定の重合性液晶モノマーと、特定の重合性カイラル剤と、重合開始剤として２−メチル−１[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オンとを、質量比で１００：５：５の割合で含む。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物を含有する液晶組成物において、析出物が発生せず、重合性化合物の反応性が高く、重合後の液晶表示素子の信頼性が高い液晶組成物を提供すること。
【解決手段】誘電率異方性Δεが負であるネマチック液晶組成物１００質量部に対し、下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を０．０１〜３質量部含有させてなる液晶組成物。


（式中、Ｃ¹、Ｃ²及びＣ³は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表し、これらの環の水素原子は、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アルコキシ基、Ｃ１〜３のアシル基、シアノ基又はハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｍ¹及びＭ²は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｚ¹は−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−等であり、Ｚ²は直接結合、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−等であり、ｑは０又は１を表す。） （もっと読む）

【課題】電圧の印加により光透過率が変化し、着色時の刺激純度が低い調光シート及び該調光シートを備える調光体を提供する。また、該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜及び該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供する。
【解決手段】エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と、支持電解質塩とエレクトロクロミック層の色調を補正する色調補正剤とを含有する色調補正電解質層とが積層されていることを特徴とする調光シート。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高屈折率透明樹脂の透明性を高度に維持しながら、耐衝撃性を付与できる、改質剤としての機能を有する重合体の提供を目的とする。
【解決手段】 本発明の重合体である高屈折率エラストマーは、芳香族チオアルキルアルコールの（メタ）アクリル酸エステルＡＭを主成分とする単量体の重合体であり、かつ、その屈折率ｎＡが１．５７０以上である、高屈折率エラストマーＡであって、前記ＡＭを主成分とする単量体の重合体であり、メチルエチルケトンなどの溶剤に不溶であり、そのガラス転移温度が−１０℃以下であり、かつ、その屈折率ｎＡＣが１．５７５以上である重合体ＡＣを含む。 （もっと読む）

【課題】螺旋誘起力が大きく、他の液晶化合物との溶解性に優れ、重合性を有する液晶性化合物及び重合体を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。この化合物を含有する液晶組成物、およびこの化合物または組成物を重合させることによって得られる重合体。


式（１）において、Ｑ^１〜Ｑ^４は独立して、式（２）、水素、ハロゲン、アルキルなどであり、Ｑ^１〜Ｑ^４の少なくとも２つはそれぞれ異なる基を表してもよい式（２）であり；式（２）において、Ａは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレンなどであり；Ｘは独立して、単結合、アルキレンなどであり；Ｚは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−などであり；ｎは、０〜３の整数であり；Ｐは、３種類の重合性基である。 （もっと読む）

【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式［Ｒ^１_ａＳｉＸ_４−ａ］で表されるシラン化合物、及び式［ＳｉＸ_４］で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも１種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つＧＰＣによる重量平均分子量が１０００〜２０００００であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるＲ^１はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｘは塩素原子、臭素原子又はＯＲ（Ｒ：１価の有機基）を示し、ａは１〜３の整数を示す。〕。 （もっと読む）

【課題】新規な化合物と、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、該樹脂を含有するレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［Ｌ^１は^＊１−Ｏ−^＊２、^＊１−Ｏ−ＣＨ_２−^＊２、又は^＊１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１−ＣＯ−Ｏ−^＊２を表す。＊１は−ＣＯ−との、＊２はＹ^１との結合手を表す。ｋ１は１〜３の整数を表す。Ｙ^１は炭素数４〜２０の２価の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^２は炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、スルホ基、炭素数２〜７のアルキルオキシカルボニル基又は炭素数２〜７のアシル基で置換されていてもよい。］
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【課題】透明光学樹脂、撥水撥油性処理剤等の樹脂を製造する際の原料モノマーとして有用である含フッ素芳香族（メタ）アクリル酸エステル化合物を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸ハライドや（メタ）アクリル酸無水物および多量の塩基を使用しないで、金属トリフラートのようなルイス酸触媒の存在下、フッ素化芳香族アルコールと（メタ）アクリル酸との脱水エステル化反応によって、含フッ素芳香族（メタ）アクリル酸エステル化合物を製造する。 （もっと読む）