【課題】電子線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像力、良好なパターン形状、ブリッジの発生の抑制、良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。


（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは電子求引性基を表す。Ｙは２価の連結基を表し、Ａｒ及びＡｒ’は、各々独立に、芳香族環を表す。ｎは１〜５の整数である。） （もっと読む）

【課題】無機基材との密着性、誘電特性、耐熱性、成形性に優れた、付加型ノルボルネン系樹脂、該樹脂を含む成形体、該成形体を備える複合部材等を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系モノマー、１０族遷移金属触媒、および式（１）で表されるシラン化合物、を含む反応液を塊状重合せしめて得られ、ケイ素原子の含有率０．０１質量％〜２．０質量％、数平均分子量５万〜１０００万である付加型ノルボルネン系樹脂。
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【課題】硬化物の硬度及び屈折率が高いハードコート性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子内に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ９，９−ビスアリールフルオレン骨格を有するフルオレン含有硬化性モノマーと、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能硬化性モノマーと、分子内に１つの（メタ）アクリロイル基を有する単官能希釈モノマーとを含むハードコート性樹脂組成物を調製する。この組成物の硬化物は、屈折率が１．５５以上であり、かつ鉛筆硬度が３Ｈ以上である。前記単官能希釈モノマーは、Ｃ_３−７アルキル（メタ）アクリレート（特に、分岐Ｃ_４−６アルキル（メタ）アクリレート）であってもよい。 （もっと読む）

【課題】耐熱性などの特性が改善された新規なポリマー（特に熱可塑性ポリマー）およびこのポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマー（例えば、単官能性（メタ）アクリル酸エステル）に、重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基など）を有するフルオレン化合物（例えば、２以上の重合性不飽和結合を有する９，９−ビスアリールフルオレン類）を共重合させる。このような方法では、少量の（例えば、重合成分全体の１０モル％未満の割合で）フルオレン化合物を共重合させるだけでも、ベースとなる重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマーの単独重合体に比べて、耐熱性などの特性を十分に改善又は向上できる。 （もっと読む）

【課題】重合性官能基を有する新規重合性単量体と、それを熱重合等で得られる塗布型の有機デバイス用材料、特に正孔注入輸送層を均一に形成できる正孔注入輸送材料として好適な重合体を提供する。
【解決手段】Ｚが下記式（２）で表わされる基であり、重合性官能基を含む基が、Ｌ、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｐ及びＱの少なくとも１つに結合する下記式（１）で表わされる重合性単量体。
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【課題】残膜率が優れたパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含み、樹脂がナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位を樹脂の全構造単位１００モルに対して、５０モル以上有する樹脂であるレジスト組成物。ナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位は、式（Ｉ）で表される構造単位であることが好ましい。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ａ^１は、単結合、−ＣＯ−Ｏ−^＊又は−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂）_kａ−ＣＯ−Ｏ−^＊を表し、ｋａは１〜７の整数を表し、＊はナフチル基との結合手を表す。］
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【課題】屈折率が高い感圧接着剤を提供する。
【解決手段】芳香族モノマーを単独で重合したもの、又は、炭素数４〜１２の非第三級アルキルアルコールのモノマーアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステルからなる群より選ばれた少なくとも１種のアクリルモノマー及び前記芳香族モノマーと共重合可能な少なくとも１種の極性モノマーの存在下で前記芳香族モノマーを重合したものを含む感圧接着剤であり、かつ屈折率が少なくとも１．５０である組成物であり、前記芳香族モノマーが以下の式から選択される組成物。
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【課題】レジスト溶剤への溶解性が高い、スルホニウム塩含有高分子化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１ａ）、（２）及び（３）で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃を示す。Ｒ²〜Ｒ⁴は、いずれか１つ以上は４−フルオロフェニル基である特定の置換基。Ｒ⁸はＨ、又はアルキル基を示す。ｐは０又は１、Ｂは単結合又は２価の有機基を示す。ａは０〜３の整数、ｂは１〜３の整数、Ｘは酸不安定基を示す。） （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から分離可能な積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、光透過性の支持体と被支持基板と接着層と支持体および被支持基板との間に設けられ、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有している分離層とを備えており、重合体は支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する。 （もっと読む）

【課題】半硬化物の変形性をコントロールすることにより、成形時のバリの発生が抑制され、成形後の良品率が高く、リフロー工程に用いられる程度に耐熱性が高い硬化物の製造方法の提供。
【解決手段】（メタ）アクリレートモノマー、非共役ビニリデン基含有化合物、および熱ラジカル重合開始剤を含有する硬化樹脂組成物に対して光照射および加熱のうち少なくとも一方を行って、２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度が１０⁵〜１０⁸ｍＰａ・ｓの半硬化物を得る工程と、前記半硬化物を成形型に入れ加圧変形し、加熱して熱重合させて硬化物を得る熱重合工程と、を含む硬化物の製造方法（但し、非共役ビニリデン基含有化合物は、（メタ）アクリレートモノマーを含まない。前記半硬化物を得る工程が前記硬化樹脂組成物に対して光照射する工程を含む場合は、前記ラジカル重合開始剤がさらに光ラジカル重合開始剤を含む。）。 （もっと読む）

【課題】不要な熱線（赤外線）のみを選択的に反射させ、有用な光を透過させる赤外線反射層を提供することにあり、更には、光電変換素子等の素子やデバイス自体の温度上昇を防ぎ、発電効率を維持できる光電変換デバイス（特に太陽電池）を提供すること。
【解決手段】赤外線反射層として、下記一般式（１）で表される重合性光学活性イミド化合物（Ａ）、液晶化合物（Ｂ）及びラジカル重合開始剤（Ｃ）を含んでなり、上記重合性光学活性イミド化合物（Ａ）と上記液晶化合物（Ｂ）の含有量の合計を１００質量部としたときの、該重合性光学活性イミド化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０質量部である重合性組成物を重合させた重合物を用いる。


尚、上記一般式（１）の具体的な内容については、本願明細書に記載の通りである。 （もっと読む）

【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の２０〜１００モル％の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、第１のレジスト膜上に第１のレジスト膜を溶解させない炭素数３〜８のアルキルアルコールを溶媒とする第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第１と第２のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第２層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物
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【課題】陽極及び陰極からなる一対の電極と、前記陽極上に形成されたテーパ状のバンクと、該バンクにより区切られた層形成領域と、該層形成領域に形成された、発光層を含む少なくとも一層の有機層とを有する有機電界発光素子において、液体状の有機半導体又は液晶性を有する有機半導体を用いて、湿式法により発光層を形成する際に、ハンドリング性に優れ、発光層とその下層との間での混合を防止できる有機電界発光素子を提供すること。
【解決手段】ゲル化した架橋ポリマー、及び液体状の有機半導体又は液晶性を有する有機半導体を含む発光層、並びに、架橋剤により架橋された正孔注入層又は正孔輸送層を有する有機電界発光素子。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、１級又は２級の水酸基を備えた繰り返し単位（Ｃ）とを含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】置換アセチレンの重合に対して高い触媒活性を有し、分子量分布の狭い末端に官能基が導入された置換ポリアセチレンを製造することができる新規なフェロセン骨格を有するホスフィン−パラジウム錯体の提供。
【解決手段】下式１


（式中、Ｒ^１はフェニル基又はフェノキシ基を示す。Ｒ^２はハロゲン基、トシル基、トリフラート基及びメシル基から選ばれる基を示す。Ｒ^３は置換アリール基を示す。で表わされるフェロセン骨格を有するホスフィン−パラジウム錯体。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された共重合体と光学素子、およびそれらを得るための新規な化合物を提供する。
【解決手段】
新規なビニルエーテル化合物は下式で表される。
CH₂=CH-O-(CH₂)_m-R-(CH₂)_n-O-w¹-(E¹)_h-w²-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R¹………（１）
式中、Ｒはアルキレン基、ポリフルオロアルキレン基等、Ｒ^１はアルキル基、シアノ基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、
ｗ^１，ｗ^２はカルボニル基または単結合を示す。 （もっと読む）

【課題】露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは直接結合又はフェニレン基を表し、Ａはナフチル基又はアントラセニル基を表す。）で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位（Ａ）、
前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位（Ｂ）、及び
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）