【課題】微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるピラゾール誘導体およびこの誘導体を連鎖移動剤として用いた重合により得られる酸解離性基含有重合体およびこの誘導体を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）において、Ｒ、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基、脂環族基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示し、ｎは０〜３の整数である。また、Ｒ²とＲ³はそれぞれ互いに結合して１つ以上の環を形成してもよい。Ｒ¹は、水素原子、或いは置換若しくは非置換の、アルキル基又は脂環族基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 低誘電率であり、高周波領域でも誘電損失が小さく、かつフリップチップ封止に適した液状の封止用樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）ビニルベンジルエーテル化合物、
（Ｂ）シアネートエステル樹脂、オキセタン環含有化合物、ジビニルベンゼン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される少なくとも１種以上の化合物、並びに
（Ｃ）カチオン硬化触媒
を含む封止用樹脂組成物である。 （もっと読む）

本発明は、水性懸濁液中の無機物の粉砕を補助するための試剤としての低イオン含量の水溶性コポリマーの使用に関するものであり、高粘度、低粘度および時間的に安定なＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ（商標）粘度であり得る乾燥物質濃度を有し、イオン滴定により測定されたイオン負荷が低い色素表面を示す、精製無機物の水性懸濁液を得ることを可能にする。本発明はまた、結果として得られる無機物水性懸濁液および紙、塗料およびプラスチック材料におけるそれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】加工性が良好であるとともに、転がり抵抗の小さいゴム組成物を得ることができる共役ジエン系共重合ゴムの製造方法を提供する。
【解決手段】第一の共役ジエン化合物、及び第一の芳香族ビニル化合物を含有する反応系で共重合反応させた後、反応系に、第一の多官能単量体、必要な場合に第二の共役ジエン化合物、及び必要な場合に第二の芳香族ビニル化合物を添加して更に共重合反応させ、次いで、反応系に、変性剤を添加して反応させることを含む共役ジエン系共重合ゴムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高分子固体電解質から含水溶液への酸成分の溶出を抑制し、イオン伝導性能を損なわず、耐久性を充分に有し、低いメタノール透過性有する固体電解質の提供。
【解決手段】一般式（１）で示す繰り返し単位および一般式（２）で示す繰り返し単位を含む高分子固体電解質。一般式（１）


（式中、Ａは酸残基、Ｌ¹は２価の連結基、ｘは５以上の整数を表す。）一般式（２）


（式中、Ｌ²は２価の連結基、ｙは５以上の整数、Ｒ²はアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基、ｍ２は１〜３の整数を表す） （もっと読む）

本発明は、１種以上のエチレン性不飽和化合物のラジカル重合法に関し、これは、エチレン性不飽和化合物の全質量に対して、少なくとも８０．０質量％のエチレン性不飽和化合物を前装入し、少なくとも１種のラジカル重合用の重合開始剤を少なくとも２段工程で添加し、その際、第２工程で第１工程より多くの重合開始剤を添加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＬＥＲの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物からなる酸発生剤、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（ａ２−１）［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基であり；Ａは２価の有機基であり；Ｂは１価の有機基であり；Ｘは硫黄原子又はヨウ素原子であり；ｎは１又は２であり；Ｙは少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。］で表される構成単位（ａ２）と、極性基含有脂肪族多環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを有する高分子化合物。
【化１】
（もっと読む）

【課題】要求品質を満足し、また、吸水性樹脂にあっては吸水性能に優れた親水性樹脂を提供する。
【解決手段】炭素数８〜１０の環状不飽和炭化水素類の総含有量が５０質量ｐｐｍ以下の原料モノマーを重合して親水性樹脂を製造する。この炭素数８〜１０の環状不飽和炭化水素類は、炭素数９〜１０の、アルキル基で置換された六員環の芳香族炭化水素の１種又は２種以上である。原料モノマー中の特定の環状不飽和炭化水素類の含有量を特定の値以下に抑制することにより、要求品質を満足し、また、吸水性樹脂にあっては吸水性能に優れた親水性樹脂を製造することができる。 （もっと読む）

本発明は、以下の
Ａ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）［式中、Ｒ^１はそれぞれ互いに無関係に水素又はメチル基であり、Ｒ^２はそれぞれ互いに無関係に直鎖状又は分枝鎖状の脂肪族又は脂環式の基又は置換又は非置換の芳香族又は複素芳香族の基であり、かつｍ及びｎはそれぞれ互いに無関係に０以上の整数であるが、ｍ＋ｎ＞０を意味する］の化合物並びにＢ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合物とは異なる少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマー（Ａ）を含有する混合物に関する。また本発明は前記混合物の重合法法、こうして得られる高透明ポリマー並びにその使用に関する。
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【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ^bは炭化水素基（但し、隣接する酸素原子との結合部位に第３級炭素原子を有する炭化水素基を除く）を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるα−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

【課題】ペリクル、および該ペリクルを用いた露光処理方法を提供する。
【解決手段】ペリクル膜が枠体に接着されてなる露光処理用のペリクルであって、ペリクル膜が式ＣＸ^１Ｘ^２＝ＣＸ^３（ＣＦ_２）_ｎＯＣＸ^４＝ＣＦ_２の環化重合により形成されたモノマー単位を必須とする含フッ素重合体からなるペリクル（ただし、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、およびＸ^４は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子を示し、少なくとも１つは水素原子である。ｎは１または２を示す。）。該ペリクルを用いる露光処理方法。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ^bは酸脱離性基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表されるα−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

【課題】 生産性が高く、かつ貯蔵に特別な配慮の必要がなく、さらに十分な低温特性を有し、圧縮永久歪が小さく、架橋性の優れた含フッ素エラストマー、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 四フッ化エチレン、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）およびＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｂｒを、共重合比率が４５〜５８／４２〜５５／０．０１〜１０（モル比）の割合になるように乳化重合することにより含フッ素エラストマーを得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からＰｅｎｇ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ式を用いて算出した臨界定数の換算温度が０．９５以上、換算圧力が０．８０以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式（１）：
Ｒ_f¹・Ｉ_x （１）
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物、および一般式（２）：
ＣＨ₂＝ＣＨ（ＣＦ₂）_nＩ （２）
で示される化合物を共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 第１の目的は、低濃度での増粘性に優れた中和粘稠液を与えるカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法を提供すること。第２の目的は、低濃度での増粘性に優れた中和粘稠液を与えると共に、高濃度においても容易に水に分散、溶解が可能なカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明は、α，β−不飽和カルボン酸と、エチレン性不飽和基を２個以上有する化合物とを、ラジカル重合開始剤の存在下に反応させるカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法において、下記一般式（１）；
【化１】


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を、ｎは１または２を示す。）で表される（メタ）アクリル酸誘導体の存在下、好ましくは不活性溶媒中で反応させることを特徴とするカルボキシル基含有水溶性重合体の製造方法。 （もっと読む）

フッ化オレフィンと、エチレン、プロピレンおよびその混合物から選択される炭化水素オレフィンと、のコポリマーを製造する方法であって、任意にフルオロポリマー粒子の存在下および／またはフッ化オレフィンと炭化水素オレフィンとの共重合を改善するのに適した形態のフッ素化液体の存在下にて、前記フッ化オレフィンと前記炭化水素オレフィンとを実質的に乳化剤非含有の水性乳化重合することを含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、Ｒ¹、Ｒ²のうち少なくとも一方は炭化水素基である。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す）
で表される少なくとも１種のモノマー単位を含む高分子化合物。 （もっと読む）

深紫外線、特に１９３および２４８ｎｍでフォト画像形成可能な上部層コーティング、高解像度のフォトリソグラフィーを行う二層レジストシステムをつくるのに好適な新規なコポリマー。化学的に増幅されたフォトレジスト組成物、および新規なコポリマーを使用するＡｒＦおよびＫｒｆフォトリソグラフィーで使用するための材料として好適である、フォト画像形成可能なエッチングに耐えるフォトレジスト組成物のためのバインダー樹脂中で使用するのに好適な有機シリコン部分構造を提供する。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。式中に示されるカルボキシル基は塩の形態であってもよい）
で表されるβ−カルボキシ−α−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 （もっと読む）

本発明は、特定の中和剤で中和された、ポリエチレングリコール(メタ)アクリラートモノマー、カチオン性モノマー、及び場合によっては両性、アニオン性及び／又は親水性の非イオン性モノマーを含有する、新規のエチレン性コポリマーに関する。また本発明は、前記コポリマーを含有する特定の化粧品用又は製薬用組成物、並びに該コポリマーの調製方法、及びそれらを使用する美容処理方法に関する。 （もっと読む）