【課題】水に溶解されずにイマージョンリソグラフィに使用されるとともに、フォトレジストパターン形成におけるフォトレジスト膜内の光の多重干渉を防止し、フォトレジスト膜の厚さ変動によるフォトレジストパターン寸法幅の変動を抑制できる上部反射防止膜の重合体およびこの製造方法を提供する。また、前記上部反射防止膜の重合体を含む上部反射防止膜の組成物およびこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】上部反射防止膜の重合体は、下記の化１のように示され、１,０００〜１,０００,０００の重量平均分子量を有す。化１において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素またはメチル基をそれぞれ示し、ａ、ｂ、ｃは、各単量体のモル分率として０．０５乃至０．９をそれぞれ示す。
【化１】
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【課題】
多量の有機溶剤等を使用しなくても不飽和基を含有する水性樹脂分散体を安定に製造する方法を提供する。
【解決手段】
ジシクロペンテニル基を含有する重合性不飽和モノマー（Ａ）及び該モノマー（Ａ）と共重合可能なその他の重合性不飽和モノマー（Ｂ）を含むモノマー成分を含むモノマー混合物（Ｉ）を、水性媒体中に平均粒子径が５００ｎｍ以下になるように微分散させ、得られる乳化物を重合させることを特徴とする水性樹脂分散体の製造方法。 （もっと読む）

以下の成分：すなわち、ａ）− ４以下の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ；− ¹³Ｃ−ＮＭＲで測定されるｒｒトライアッド５％〜５０％；− 示差走査熱量計（ＤＳＣ）で検出可能な融解エンタルピーが認められない；− １３５℃でテトラヒドロナフタレン（ＴＨＮ）中で測定した場合、０．８５ｄｌ／ｇ〜５ｄｌ／ｇの固有粘度（Ｉ．Ｖ．）；および− ０．５％未満の赤外結晶化度の特性を有する、５重量％〜９５重量％のアタクチック１−ブテンベースのポリマー；ｂ）− ¹³Ｃ−ＮＭＲによって測定されるアイソタクチックペンタッド（ｍｍｍｍ）８０％超；− ８０℃を超える融点；および− １３５℃でテトラヒドロナフタレン（ＴＨＮ）中で測定した場合、０．１ｄｌ／ｇ〜５ｄｌ／ｇの固有粘度（Ｉ．Ｖ．）の特性を有する、約５重量％〜約９５重量％のアイソタクチック１−ブテンベースのポリマーを含む１−ブテンポリマー組成物。 （もっと読む）

たとえば皮膚のような哺乳動物の身体組織に使用するのに適切な可塑性の架橋性重合体ヒドロゲルであって、一またはそれ以上のペンダントアニオン性基を含む第１のモノマーと、一またはそれ以上のペンダントカチオン性基を含む第２のモノマーとから形成された架橋性共重合体を含み、前記共重合体に含まれる前記モノマーの相対量は、アニオン性基とカチオン性基とが実質的に等モル量になるような量である。 （もっと読む）

【課題】ビニル付加ポリマー組成物、当該組成物の形成方法、エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクスデバイスを形成するための当該組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン型モノマーから得られる二つ以上の種類の区別される型の反復単位を有する主鎖を持ったビニル付加ポリマーからなり、第一型の反復単位は、式１に表わされるグリシジルエーテル置換ノルボルネンモノマーから得られ、第二型の反復単位はアラルキル置換ノルボルネンモノマーから得られる。


［式中、Ｘは−ＣＨ_２−，−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−Ｏ−Ｏ−から選択、ｍは０〜５，Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３およびＲ^４の少なくとも一つはグリシジルエーテル含有基］ （もっと読む）

式（１）で表される構成単位Ａ、式（２Ａ）及び／又は式（２Ｂ）で表される構成単位Ｂ、並びに式（３）で表される構成単位Ｃ〔Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示すが、Ｒ^１及びＲ^２が同時にメチル基になることはなく；Ｒ^３は炭素数１〜３の２価の炭化水素基を示し；ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し；ｍはオキシアルキレン基の平均付加モル数を示し、４≦ｍ≦１００の範囲の数であり；Ｒ^４は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、又はアシル基を示し、Ｒ^５ＣＯ及びＲ^６ＣＯは炭素数８〜２４のアシル基を示し；Ｒ^７は炭素数２〜４の２価の炭化水素基を示し；Ｘ及びＹは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム、又は有機アンモニウムを示す〕を必須構成単位として含む共重合体であって、構成単位Ａと構成単位Ｂ及び構成単位Ｃの合計とのモル比が７／３〜３／７であり、かつ構成単位Ｃを共重合体１モル中に１〜４モルの割合で含むリポソームなどの修飾に利用可能なリン脂質誘導体。

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【課題】 紫外線等の照射によって架橋による３次元硬化が可能な重合体、及びこれを含有する樹脂組成物において、反応成形時の収縮等による歪（ゆが）みや割れを防止することができ、最表面の硬化不良をも防止できるものを提供する。
【解決手段】下記に示すような１〜３個のエポキシ基及び１個のラジカル反応基を分子中に含むエポキシ基含有モノマーを、単独で、または１個のラジカル反応基を分子中に含む非エポキシ基含有モノマーとの組み合わせで、ラジカル反応基の重合により、可塑性、熱可塑性または液状の重合体を得る。この重合体は、エポキシ当量が２００〜２０００（ｇ／ｅｑ）であり、かつ、重量平均分子量が２０００〜２０万である。紫外線等の照射により、光カチオン重合機構による３次元架橋により硬化が行われる。この硬化の際の体積収縮率は２％未満とすることができ、各種光学材料として使用可能な硬化物を得ることができる。
【化１】
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【課題】 微細解像性に優れ、レジストパターンのＬＥＲおよびＳＷの少なくとも一方を改善できる化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むレジスト組成物であって、沸点が２２０℃以上の高沸点溶剤成分（Ｘ）を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

油相、水相、少なくとも１の油中水（Ｗ／Ｏ）系の乳化剤、および少なくとも１の水中油（Ｏ／Ｗ）系の乳化剤を含有し、２０重量％乃至７０重量％の、好ましくは２５重量％乃至５０重量％の架橋アニオン性高分子電解質を含有する組成物であって、前記高分子電解質は、部分的もしくは完全に塩化された２−メチル−２−［（１−オキソ−２−プロぺニル）−アミノ］−１−プロパンスルホン酸と少なくとも１の中性モノマーおよび任意に少なくとも１の弱酸性官能基を有するモノマーとが重合したコポリマーであり、部分的もしくは完全に塩化された２−メチル−２−［（１−オキソ−２−プロぺニル）−アミノ］−１−プロパンスルホン酸のモル比は、３０％未満１％以上であることを特徴とする組成物。化粧料における適用。 （もっと読む）

【課題】配線等のパターニングにおける従来の現像工程を省略し、サイドエッチングが無く、低コスト、高スループットを実現可能とした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板ＳＵＢ上に成膜した金属膜ＭＴを覆って酸現像タイプのネガ型ホトレジストＮＲＧを塗布し、所要の開口パターンを有するネガ型露光マスクＮＭＫを通してホトレジストを露光して露光部のホトレジストを硬膜化し、酸現像液を用いて硬膜化したホトレジストの露光部を残し、露光されなかった非露光部を除去するとともに、当該非露光部のホトレジストの除去で露出した金属膜ＭＴをエッチングして除去した後、ホトレジストＮＲＧを除去する。 （もっと読む）

産業用水溶液システム又は水に基づく産業用製品中へ、３０〜１００モル％のスチレンスルホン酸、０〜４０モル％のＮ−ビニルラクタム及び／又はＮ−ビニルアミン、及び、０〜３０モル％の別なフリーラジカル重合性モノマー、を含む、０．００１〜５質量％の水溶性又は水分散性ポリマーを、殺生物剤として添加することにより、微生物を防除する方法、及びそのような添加剤を含む抗微生物性水溶液組成物を施用することにより、製品を防護する方法。 （もっと読む）

下記一般式（１）で示される４級アンモニウム塩（Ａ）と、イオン性液体（Ｂ）とを含む高分子電解質用組成物を用いることで、イオン性液体の優れた特性を損なうことなく高分子化させることができ、安全性および導電性に優れ、しかも電位窓の広い電解質を得ることができる。


〔式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は互いに同一もしくは異種の炭素数１〜５のアルキル基、または反応性不飽和結合を有する置換基を示し、これらＲ^１〜Ｒ^３のいずれか２個の基が環を形成していても構わない。Ｒ^４は、メチル基、エチル基または反応性不飽和結合を有する置換基を示す。ただし、Ｒ^１〜Ｒ^４の内少なくとも１つは前記反応性不飽和結合を有する置換基である。Ｘは一価のアニオンを示し、ｍは１〜８の整数を、ｎは１〜４の整数を示す。〕
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【課題】特に高価かつ特殊な共重合モノマー、或いは触媒としての鋳型化合物を大量に用いることなく本質的に耐炎化工程を短縮且つ低温化し、繊維間の融着や熱分解を抑制することができる炭素繊維プレカーサ用共重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】アクリロニトリル、アクリル酸系化合物、及びアクリル酸エステル系化合物を主たる成分とする不飽和共重合成分を、鋳型化合物に接触させてアダクトとし、これを固相重合することによって高アイソタクティシティを有する炭素繊維プレカーサ用共重合体を製造する方法であって、該固相重合終了後に、前記鋳型化合物を回収し、１００℃以上の加熱処理により賦活した後、固相重合触媒として再使用する。 （もっと読む）

長鎖分岐ポリマーを調製するワンポット重合方法が提供される。本発明の長鎖分岐ポリマーの主鎖及び側鎖間の接合点として作用する“T”試薬も記載される。“T”試薬は２以上の官能基を有し、コモノマー及び連鎖移動剤の両方として作用する。任意に、まずα-オレフィン及び“T”試薬間の共重合反応がおこってポリオレフィン主鎖に“T”分子を組み込み、次いで組み込まれた“T”単位が成長ポリオレフィン連鎖と反応する連鎖移動剤として挙動して側鎖を形成する。特別な実施態様において、長鎖分岐ポリエチレン(PCBPE)及び長鎖分岐ポリプロピレン(PCBPP)を調製する重合方法が詳述される。 （もっと読む）

【課題】 ＤＯＦの広いポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分が、相互に構造が異なるｎ［ｎは４〜６の整数］種の構成単位からなる共重合体であり、該共重合体中の各構成単位の割合がいずれも０モル％超１００／（ｎ−１）モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むポジ型レジスト組成物において、前記樹脂成分（Ａ）が、フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、解像性がよく、ラインエッジラフネスが小さく、ディフェクトおよびパーティクルの生成も少ないレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】２−エチル−１，３，３，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチル−１，７，７，トリメチルビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２−イル−メタクリレート，２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−ｅｘｏ−２−イル−メタクリレート，２−エチル−エチルトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−ｅｘｏ−８−イル−メタクリレート等、エステル酸素と特定位置の炭素との間の結合が酸素によって開裂し脂環構造が脱離しうる構造特性を与える特定物質と、２−または３−シアノ−５−ノルボルニルメタクリレート，１−メタクリロイルオキシ−３−ヒドロキシアダマンチル等の特定物質を反応させてなるレジスト用重合体。 （もっと読む）

【課題】 分子量及び分子量分布の制御された高分子量のピペリジル基を有する重合体又は共重合体を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される構成単位より構成される、数平均分子量３０，０００以上であるピペリジル基含有高分子量重合体又は共重合体。
【化１】
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少なくとも二種の異なる特に選択されるモノマーを含む新規なグラジエントコポリマーと、これを含有する化粧品用又は皮膚の手入れ用組成物。本発明はまた上述した化粧品用組成物を体又は顔の皮膚、爪、毛髪及び／又は睫毛等のケラチン物質に適用することを含んでなるケラチン物質のメークアップ又は手入れするための美容方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 シワや毛穴をきれいに隠し、見た目や感触の違和感のない凹凸部隠し用化粧料や皮脂を吸収することによる皮脂対策化粧料に有用な膨潤型吸油ポリマー、及びそれを含有する化粧料の提供。
【解決手段】 （Ａ）炭素数１８〜２４の直鎖又は分岐鎖アルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート、（Ｂ）（Ａ）成分と共重合可能な１個の重合性不飽和基を有するビニルモノマー及び（Ｃ）２個以上の重合性不飽和基を有する架橋性モノマーを含有するモノマー成分を共重合させて得られるポリマー粒子であって、（Ａ）成分と（Ｂ）成分のモル比が、（Ａ）／（Ｂ）＝４５／５５〜９５／５であり、（Ｃ）成分の割合が、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量部に対して、０．００１〜５重量部であり、膨潤前の平均粒径が１〜４０μｍである、膨潤型吸油ポリマー粒子、並びにこの膨潤型吸油ポリマー粒子を含有する化粧料。 （もっと読む）