【課題】 高い耐熱性、透明性を有し、さらに良好な電気絶縁性、低吸水性、低誘電率を示し、特に光学材料用およびプリント回路基板用に好適なコーティング材および当該コーティング材の製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）で表される構造単位（１）と、（１）の置換基の一部がシリル基である構造単位とを特定の割合で含む環状オレフィン系付加重合体と、有機溶剤とを含むコーティング材を提供する。


［式（１）中、Ａ^１〜Ａ^４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基から選ばれる原子または基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高純度の（メタ）アクリル酸系水溶性重合体を工業的に容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸系水溶性単量体を水溶液重合して（メタ）アクリル酸系重合体を製造するに際し、重合後の反応液中の重合体の単量体換算濃度が３８〜７２重量％となるのに必要な（メタ）アクリル酸系水溶性単量体、重合開始剤及び次亜リン酸（塩）を水性媒体中に逐次導入して重合した後、中和する。このとき、上記（メタ）アクリル酸系水溶性単量体に加えて、全単量体に対して３０モル％未満である、不飽和スルホン酸系単量体を除く、（メタ）アクリル酸系水溶性単量体以外の他の単量体を用いる。 （もっと読む）

【課題】極性基を有する耐熱性に優れた重合体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】下式（１）で表される重合体。


（Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は元素の周期表第１６族の原子を表し、Ｒ¹およびＲ²は水素原子または炭化水素基を表し、Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴、Ａ⁵、Ａ⁶、Ａ⁷、Ａ⁸、Ａ⁹およびＡ¹⁰は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、２置換アミノ基、または炭化水素チオ基を表す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、解像力、ラインエッジラフネスが改良され、且つ液浸露光に於いてラインアンドスペースパターンを良好に解像し得るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、特定構造のモノマーによる繰り返し単位を有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

従来相反する物性である通液性と液吸い上げ特性とを両立させ、且つ液吸い上げ特性の低下が少ない吸水剤組成物を実現する。本発明の吸水剤組成物は、酸基含有不飽和単量体を重合して得られる架橋構造を有するポリカルボン酸系吸水剤を主成分とし、水不溶性の有機若しくは無機微粒子を含有する吸水剤組成物であって、（ａ）液拡散速度（ＬＤＶ）低下率が３０％以下、（ｂ）食塩水流れ誘導性（ＳＦＣ）が６０（単位：１０^−７ｃｍ^３・ｓ／ｇ）以上、（ｃ）質量平均粒子径（Ｄ５０）が２００〜４２０μｍ、（ｄ）粒度分布の対数標準偏差（σζ）が０．２５〜０．４０、（ｅ）粒子径１５０μｍ未満の粒子の割合が全体の３質量％以下、の条件を満たす。 （もっと読む）

【課題】極性基を有する耐熱性に優れた共重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下式で表される単位と、エチレン単位および／またはα−オレフィン単位とからなる共重合体およびその製造方法。


（Ｘ¹〜Ｘ⁴は周期表第１６族の原子を、Ｒ¹およびＲ²は水素原子または炭化水素基を、Ａ¹〜Ａ¹⁰は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、２置換アミノ基、または炭化水素チオ基を表す。） （もっと読む）

本発明は、（メタ）アクリロイル部分に付着する環状ジチアン部分を含む、少なくとも１つのモノマーを含む組成物を特徴とする。組成物は、所望により、歯科組成物において通常使用されるエチレン性不飽和化合物のようなさらなる重合性化合物を含有してもよい。 （もっと読む）

１種類またはそれ以上の付加重合性モノマーを重合するための方法および生じるポリマー組成物であって、該方法は付加重合性モノマーもしくはモノマーの混合物を、反応器もしくは反応器区域内で、少なくとも１種類の重合触媒および共触媒を含有する組成物と重合条件下で接触させることを含み、該重合の少なくとも一部は多中心シャトリング剤の存在下で行い、それにより組成物に二峰性分子量分布を持たせる。
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１種以上のビニル官能性カチオン性モノマー、１種以上の、炭素長４以下のアルキル側鎖を有する水不溶性又は疎水性ビニルモノマー、及び場合によっては、少量の、炭素原子数が４よりも大きい線状又は分岐鎖アルキル基、アルキルヒドロキシ、ポリオキシアルキレン、又は他の官能基を有する１種以上のビニルモノマーを溶液共重合することによるイオン誘発性カチオン性ポリマーの製造方法。溶液重合は、アセトンのような有機溶媒及び水の混合物中における遊離基重合によって行う。重合が完了したら、好ましくは有機溶媒を連続プロセスによって除去する。連続プロセスは、好ましくはプレート式蒸発器システムを用いて行う。 （もっと読む）

【課題】
従来用いられてきた樹脂組成物では、基盤との密着性が弱い為に現像液である有機アルカリ類の水溶液、特に半導体用途で一般的に使用されている２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液ではパターン剥がれが起こり、２．３８％より低濃度の専用現像液でなければ加工できないという課題があった。本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、その目的とするところは密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）酸性基を有する環状オレフィン系樹脂と、（Ｂ）光酸発生剤と、（Ｃ）１３０℃以上の温度で（Ａ）の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物と、（Ｄ）分子中に硫黄原子を有するシランカップリング剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低下したヒステリシス特性を示すエラストマー類及びタイヤを提供する。
【解決手段】新規なリチウムマグネシエート錯体を含むアニオン重合開始剤を提供して、低下したヒステリシス特性を示すジエンポリマーエラストマー類及びタイヤの製造に資する。 （もっと読む）

少なくとも滴下プレートの下面が少なくとも部分的に、滴下されるべき液体に対して少なくとも６０゜の接触角を有する、滴下プレートを用いた液体の滴下法。 （もっと読む）

半導体デバイス及びＭＥＭＳデバイス製造時に用いられる新規なフォトレジストを提供する。プライマー層は好ましくは、溶媒系に溶解または分散したシランを含む。フォトレジスト層は、スチレンモノマー、アクリロニトリルモノマー、およびエポキシ含有モノマーから調製されたコポリマーを含む。フォトレジスト層は光酸発生剤を含み、好ましくはネガ型である。 （もっと読む）

【課題】 自動車のタイヤ用材料として優れた性質を示すビニル・シスポリブタジエンゴム組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 第１重合槽で１，３‐ブタジエンをシス‐１、４重合した後、ひきつづいて、第２重合槽で１，３−ブタジエンを１，２−シンジオタクチック重合を連続的に行うポリブタジエンの製法において、第１重合槽と第２重合槽との間に添加剤混合槽を設置し、添加剤溶液を添加することによる改質ポリブタジエンの製法及び該添加剤溶液が、ポリジオレフィン溶液を主体とするパラフィン溶液であることを特徴と上記の改質ポリブタジエンの製法。。 （もっと読む）

【課題】重量平均分子量Mw20万以下、分子量分布Mw/Mn2.5以上のポリスチレン系樹脂を効率良く製造する。
【解決手段】Mw20万以下、Mw/Mn2.5以上のポリスチレン系樹脂の製造方法において、連続塊状又は溶液ラジカル重合を直列に配置した3つ以上の反応槽を用いて下記A)及びB)の条件を満たすようにして行う。A)重合を3つのステップに分け、樹脂合計量100質量%とするとき、a)第1ステップで20万≦Mw≦50万のポリスチレン系樹脂3-50質量%、b)第2ステップで10万≦Mw＜20万のポリスチレン系樹脂5-67質量%、c)第3ステップで4万≦Mw＜10万のポリスチレン系樹脂30-45質量%が各々生成するよう制御する。B)第1及び第3ステップの重合時間を各々θ₁、θ₃とし、第1〜3ステップの合計重合時間をθとするとき、0.20≦θ₁/θ≦0.40、0.20≦θ₃/θ≦0.40を満たすよう制御する。 （もっと読む）

高リン血症および血清中の高リン酸塩濃度に関連する他の疾病を治療するための重合体およびそのような重合体を利用する組成物が開示される。リン酸塩結合重合体、または該重合体の薬学的に許容される塩は、該重合体の骨格から延びるペンダント基を含む。各ペンダント基は、リン酸塩を結合させる少なくとも二つの窒素含有官能基を含む。そのような重合体および組成物の変型例が開示される。 （もっと読む）

【課題】溶融弾性が高く、真空成形、圧空成形、押出成形等の成形性に優れ、フィッシュアイの発生しないポリプロピレン系重合体の提供。
【解決手段】 重合触媒の存在する反応器にプロピレンを供給し、該反応器内でプロピレンを重合してプロピレン系重合体を製造する方法において、重合開始時に重合触媒及び所定量の水素を存在させ、水素とプロピレンの圧力比の自然対数が、下記式（１） Ｌｎ（Ｈ２／Ｃ３）ａ／Ｌｎ（Ｈ２／Ｃ３）ｂ＜０．３５・・・・（１）（式中、Ｈ２は水素圧、Ｃ３はプロピレン圧、ａは重合開始の時点、ｂは重合終了の時点を表す。）を満足し、かつ得られたプロピレン系重合体が下記式（２） ＬｎＭＦＲ−Ｌｎ（Ｈ２／Ｃ３）ａ＜２．７・・・・（２）（式中、ＭＦＲは２３０℃、２．１６ｋｇ荷重で測定されるメルトフローレート：単位ｇ／１０分を表す。）を満足することを特徴とするプロピレン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

実質的に同一の条件下での少なくとも２つの並行する連続的な重合反応器中での重合による吸水性ポリマー粒子の製造方法であって、その際この反応生成物が少なくとも１つの方法工程において一緒に後処理される、吸水性ポリマー粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、レジスト性能に悪影響を及ぼさないような高分子化合物を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物であって、ポリマー中の不純物としてのモノマー含有量が２重量％以下であることを特徴とする。このようなフォトレジスト用高分子化合物は、例えば、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物の溶液を、口径６ｍｍφ以下のノズルから貧溶媒中に供給して沈殿又は再沈殿させることにより製造できる。 （もっと読む）

第１メタロセン化合物、第２メタロセン化合物、活性剤−担体、及び有機アルミニウム化合物を含む触媒組成物が提供される。また、ポリオレフィンを製造するためのその様な触媒の製造及び使用のための方法も提供される。本明細書に開示される組成物及び方法は、約０．５〜約２５のＨＬＭＩ、約０．９２０〜約０．９６５のポリマー密度、及び約３．０〜約３０の多分散性を有するエチレンポリマーを提供する。 （もっと読む）