【課題】
有機溶媒との相溶性が高く、また、シラノール基が極めて少なく、分子量分布が狭い低分子ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製造方法の提供。
【解決手段】
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜２０，０００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜３．０の範囲で占められ、式〔１〕及び式〔２〕
で表される繰り返し単位、並びに式〔３〕で表される末端基を有し、上記式〔１〕中の３つの酸素原子が結合したケイ素原子が７０ｍｏｌ％以上、上記式〔２〕中の２つの酸素原子と１つの水酸基が結合したケイ素原子が３０ｍｏｌ％以下であり、上記式〔３〕中の１つの酸素原子と２つの水酸基が結合したケイ素原子が１ｍｏｌ％以下で構成されてなることを特徴とするポリオルガノシルセスキオキサン。 （もっと読む）

【課題】 感光性樹脂組成物の感光剤成分として有用である新規なシルセスキオキサン骨格を有するキノンジアジドスルホン酸エステル誘導体を提供し、またその前駆体のフェノール誘導体を該組成物における添加物として提供する。
【解決手段】 ４〜１２個のケイ素と、それぞれのケイ素に結合している酸素及び一価のＲとによって構成される基本構造を含み、端部に前記酸素を有していてもよく、端部の前記酸素にはＲが結合していてもよいし、また端部の二つの前記酸素に、二つのＲが結合している一つのケイ素が結合していてもよいシルセスキオキサン誘導体のＲの少なくとも一つに、特定のキノンジアジドスルホン酸系の基か又は水酸基を含有する特定の基を導入して、ポジ型感光性組成物における感光性化合物又は添加用化合物とする。 （もっと読む）

オルガノシルセスキオキサンを含む組成物の生成方法は、（１）式ＲＳｉＹ_３（式中、Ｒは有機基であり、Ｒ−Ｓｉ結合は非加水分解性結合であり、Ｙ基は各々、互いと同一であるか又は異なり、且つ各Ｓｉ−Ｙ結合が加水分解性であるように化学反応性基から選択されて、Ｓｉ−ＯＨ結合を形成する）を有する第一の加水分解性無機モノマー前駆体の少なくとも５０モル％を含む加水分解性無機モノマー前駆体を部分加水分解して無機モノマーを生成し、且つ無機モノマーの部分縮合を可能にして、無機オリゴマーを含む液体組成物を生成する、部分加水分解する工程、（２）無機オリゴマーの完全縮合前に、工程（１）で用いられた水並びに工程（１）における無機モノマーの縮合により遊離された任意の水と組み合わせて、存在する加水分解性無機モノマー前駆体すべての完全加水分解を達成するのに必要とされる化学量論量の水を上回る量の水で液体組成物をクエンチングする工程、及び（３）組成物を乾燥する工程を包含する。 （もっと読む）

本発明は、シルセスキオキサン−チタニアハイブリッドポリマーであって、チタニアドメインサイズが約５ナノメートル未満であるポリマーに関する。このようなポリマーは、例えばマイクロ電子デバイスの製造において、反射防止コーティングを形成するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】新規なポリマー、特に、電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜形成組成物に用いられるポリマー、さらには膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合またはアセチレン性三重結合を分岐末端にもつデンドリマーとケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも２つ以上有する化合物とをヒドロシリル化反応させて得られるポリマー、該ポリマーを含有する膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率で機械的強度の高い絶縁膜を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも２つ以上のアセチレン基を持つ下記一般式（３）で表される化合物（Ａ）と、少なくとも２つ以上のヒドロシリル基をもつポリシロキサン（Ｂ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とするポリマー。
【化１】


一般式（３）中、
Ｒ^４は、炭素原子１０個以上で形成されるカゴ型構造を含有する基を表す。
Ｒ^５は各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはシリル基を表す。
ｒは２〜２０の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜形成用組成物に関し、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物を含む膜形成用組成物であって，該脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物が，粒径２ｎｍ〜１５ｎｍの粒子形状であることを特徴とする膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】透明であり、耐光性に優れた封止材用組成物及び封止された発光ダイオードなどの光学デバイスを提供する。
【解決手段】反応性基がシラノール基のみであるシルセスキオキサン化合物を含有する封止剤用組成物。前記シルセスキオキサンはカゴ状シルセスキオキサンであることが好ましい。また、光学デバイスは、基体上に搭載された光学素子と、前記光学素子上に被覆され、前記封止材用組成物を硬化させてなる封止材と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】重合体が有機溶媒可溶性及び良好な成膜性を有し、かつ成膜後に焼成した膜が有機溶媒に不溶であり、かつ耐クラック性を満たすようなかご状シルセスキオキサン重合体を提供すること。
【解決手段】本発明のかご状シルセスキオキサン重合体は、かご状シルセスキオキサン構造が少なくとも２箇所で他のかご状シルセスキオキサン構造と結合しているシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造は、環状構造を含む官能基を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐ＵＶ性、耐熱衝撃性に優れた、光素子に好適なトランスファー成形封止用組成物を提供する。
【解決手段】Ｒ_１Ｓｉ（ＯＲ）_３（複数のＲは各々独立してメチル基またはエチル基を、Ｒ１はアルキル基、又は、フェニル基を表す。）で表されるトリアルコキシシラン（Ａ）と、Ｒ_２Ｓｉ（ＯＲ）_３（複数のＲは各々独立してメチル基またはエチル基を、Ｒ２は反応性環状エーテル基を含有する置換基を表す。）で表されるトリアルコキシシラン（Ｂ）とを共加水分解、共縮合することによって得られるラダー型又はランダム型構造のシルセスキオキサン誘導体、及び硬化剤からなりＢステージ化されてなる光半導体封止用樹脂組成物。 （もっと読む）

ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）若しくはポリヘドラルオリゴメリックシリケート（ＰＯＳ）のための合成プロセスは、オレフィン基とアルキル若しくは芳香族基両方を含むシラノール及びシロキサイド分子を製造する。オレフィン担持ＰＯＳＳシラノール/シロキサイドは、更なるシラノール/シロキサイドを誘導する能力を保持しつつ、種々の化学物質に誘導体化される。 （もっと読む）

【課題】オルガノシロキサンが結合したイミドを高純度、高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】トリオルガノシリルアミノ基含有オルガノシロキサンと、ジカルボン酸無水物とを反応させることにより、アミド酸トリオルガノシリルエステルを得た後、脱トリオルガノシラノール反応により、閉環イミド化させる、式（５）のオルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法。


（Ａ¹はＣ１〜２０の二価有機基、Ａ²はＣ２〜４０の二価有機基。Ｓｘはケイ素数２〜２，０００のオルガノシロキサニル基を表す。αは該オルガノシロキサニル基の価数を表し、１〜１００の整数。） （もっと読む）

【課題】 撥水、撥油、耐薬品性、すべり性、難付着性、耐摩耗性などの含フッ素有機基の有する特徴を種々の固体に対して効果的に付与することのできる、複数個の含フッ素有機基を有し、且つ反応活性の高い新規なケイ素化合物を提供する。
【解決手段】 以下の式（I）で表される含フッ素有機基を有する完全縮合型構造シルセスキオキサン誘導体を提供する
【化１】


化合物（１）において、Ａはハロゲン化シリル基を有する基であり、Ｒ¹は独立して炭素数１〜４０のアルキル、アリール、またはアリールアルキルから選ばれる基であって、いずれも、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている基である。 （もっと読む）

【課題】 撥水、撥油、耐薬品性、すべり性、難付着性、耐摩耗性などの含フッ素有機基が有する特性を固体表面に効率的に付与することのできる新規なケイ素化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で示される、含フッ素有機基とアルコキシシリル基とを同時に持つシルセスキオキサン誘導体を提供する
【化１】


化合物（１）において、Ａはアルコキシシリルを有する基であり、Ｒ¹は炭素数１〜４０のアルキル、アリール、またはアリールアルキルから独立して選択される基であって、いずれも、任意の少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている基である。 （もっと読む）

【課題】 かご状シルセスキオキサン、特にｎ＝８のＴ−８シルセスキオキサンを高い選択率で簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】 三官能性シランを、極性溶媒及び四級アンモニウム塩の存在下で加水分解、重縮合反応させる工程において、加水分解における水の添加量を、三官能性シランに対して化学量論的に必要な量以下とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、低誘電性に優れた新規な可溶性のポリヘドラルシルセスキオキサンを提供し、そのポリヘドラルシルセスキオキサンによって形成された膜により、所要の透明性、耐熱性、表面硬度、密着性を満たすとともに、リワーク性に優れ、また下地基板上に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜を形成しうる硬化性樹脂組成物、該組成物から形成された保護膜、ならびに該保護膜の形成方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるポリヘドラルオルガノシルセスキオキサン、およびこれより得られる膜
【化１】


〔式（１）中、RPｈ基はRで置換されたフェニル基を表し、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基、あるいは、オリゴジメチルシロキサニル基などのオリゴシロキサニル基を表す。〕 （もっと読む）

シランカップリング剤を前駆体として用いる、ポリオレフィン多面体オリゴマーシルセスキオキサン、並びにこれらのアミノ誘導体、イソシアネート誘導体およびアルコール誘導体の連続的な大量製造のための方法。 （もっと読む）

低誘電率重合体は、一般式I：(Ｒ¹-Ｒ²)_n-Ｓｉ-(Ｘ¹)_4-n（ここで、Ｘ¹はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、Ｒ²は任意の基であって１〜６個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、Ｒ¹はポリシクロアルキル基であり、ｎは整数１〜３である）で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 （もっと読む）

【課題】 誘電率が低く、厚膜を形成することができるＴＦＴ層間絶縁膜材料を提供すること。
【解決手段】 カゴ状シルセスキオキサン化合物を含有することを特徴とする薄膜トランジスタ用層間絶縁膜材料。 （もっと読む）

【解決手段】一般式(1)


(Yは官能基を有してもよい脂肪族有機基、又は官能基を有してもよい芳香族構造を含む有機基、X¹，X²，X³はH、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を示す。)
で示される側鎖に嵩高い置換基を有する3官能性シランを含むシラン原料を酸又は塩基を触媒とする第1段の加水分解後、第2段として上記シラン原料に強塩基触媒の存在下、縮合による生成する水を反応系外に除去する操作を伴う脱水縮合反応を行う側鎖に嵩高い置換基を有する縮合度100％であるシルセスキオキサン型化合物高含量のシルセスキオキサン系化合物混合物の製造方法。
【効果】本発明によれば、嵩高い置換基を有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン型化合物の存在比の高いシルセスキオキサン系化合物混合物を容易かつ確実に得ることができ、この混合物は、ポジ型レジスト組成物に好適な材料である。 （もっと読む）