説明

Fターム[4J246BA12]の内容

珪素重合体 (47,449) | Si周りの酸素原子配置による分類 (3,467) | T単位が主量 (1,319) | T単位のみ←ラダー型、シルセスキオキサン (655)

Fターム[4J246BA12]に分類される特許

141 - 160 / 655


本発明は、オリゴマーのシロキサノールで官能化された熱分解法金属酸化物をベースとする、本質的に溶剤不含の水性組成物の製造法ならびに相応する組成物、ならびに防食処理および粘着促進のための該組成物の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】安価で高い断熱性能を有し、かつ量産性、柔軟性、施工性に優れた多孔質シリカ−繊維複合体の製造方法、多孔質シリカ−繊維複合体およびそれを用いた真空断熱材を提供する。
【解決手段】pH3〜4.5の酸性水溶液、非イオン性界面活性剤、水溶性の非プロトン性極性有機溶媒、および尿素を含む混合液に、アルキルトリアルコキシシラン、アリールトリアルコキシシラン、ビス(トリアルコキシシリル)アルカンからなる群より選択される1または複数を氷冷下添加し、シロキサンゾルを生成させ、これを繊維構造体に含浸後、その内部で前記シロキサンゾルを一定の温度で反応させ、多孔質の酸化ケイ素ゲルを生成させることにより多孔質シリカ−繊維複合体を調製後、内部に含まれる水をアルコール溶媒に置換し、常圧下で加熱乾燥させる多孔質シリカ−繊維複合体の製造方法。 (もっと読む)


高温オゾン処理を含むナノ細孔の超低誘電薄膜の製造方法及びこれによって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜が提供され、前記製造方法は、有機シリケートマトリックス−含有溶液と反応性ポロゲン−含有溶液とを混合して混合溶液を準備し、前記混合溶液を基材上に塗布して薄膜を形成し、前記薄膜を熱処理し、前記熱処理の過程中にオゾン処理を行うことを含み、このような製造方法によって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜は、高温のオゾン処理及び処理温度の最適化による薄膜内の細孔のサイズと分布度の改善を通じて、2.3以下の誘電率と10GPa以上の機械的強度とを有することができる。
(もっと読む)


【課題】Si−O結合に起因する高透明性及び高耐熱性を活かし、更に高屈折率を示すシクロファン構造を有する加水分解性シランを提供する。
【解決手段】シクロファンを含む加水分解性シラン。シクロファンが[n,n]パラシクロファン(ただしnは1〜6の整数)である加水分解性シラン。上記シランが下記一般式(1):


〔ただし、Rは下記式(2):


で示される化合物である加水分解性シラン。上記シランが式(3):


で示される化合物である加水分解性シランである。 (もっと読む)


本発明は、硬化性組成物に関する。本発明は、優れた加工性及び作業性を示し、且つ硬化し、優れた光抽出効率、クラック耐性、硬度、耐熱衝撃性及び接着性を示し、白濁などを誘発することなく、表面でのべたつきを防止する硬化物を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】繰り返し使用しても優れた耐摩耗性を維持し得る帯電部材、並びに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。
【解決手段】本発明は、表面層が、シルセスキオキサンが結合しているポリシロキサンを有することを特徴とする帯電部材である。 (もっと読む)


【課題】高い耐擦傷性を有しかつ透明性に優れる硬化塗膜を得ることができる活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有し、該ケイ素原子に直接に結合した有機基のうち、一部又は全部が、少なくとも1つの(メタ)アクリロイルオキシ基と少なくとも1つのイソシアヌレート環構造との両者を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物(A)、並びにシリカ微粒子(b−1)と、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を有する加水分解性シラン(b−2)とを反応させて得られる反応性粒子(B)を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】塗布ムラのない高度な平坦性(膜厚均一性)を有する層間絶縁膜を形成することができ、かつ優れた放射線感度及び現像マージンを有するポリシロキサン系のポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成される層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法の提供。
【解決手段】[A]シロキサンポリマー、[B]キノンジアジド化合物、並びに[C](c1)フッ化アルキル(メタ)アクリレートモノマー、(c2)側鎖にオキシアルキレン基を有する(メタ)アクリレートモノマー、及び(c3)シロキサン基を有する重合性化合物に由来する構造単位を有する共重合体を含有するポジ型感放射線組成物。 (もっと読む)


特定のアルキルアルコキシシランとカチオン性アルコキシシランとの水性エマルションは、種々の材料、特に、石造又はコンクリート表面に防水性を付与する。 (もっと読む)


本発明は、ポリオレフィン中にフリーラジカル部位を生成することができる手段の存在下、ポリオレフィンを、不飽和基を含有するシリコン化合物と反応させるステップを具え、該シリコン化合物が、式−X−CH=CH−R”(I)又はX−C≡C−R”(II)からなる少なくとも1つの基を含有する分岐シリコーン樹脂であり、式中、Xは、−CH=CH−又はC≡C−結合に対する電子求引効果を有する、及び/又は、芳香族環又はさらなるオレフィン二重結合若しくはアセチレン不飽和を含有する二価有機結合を表し、芳香族環又はさらなるオレフィン二重結合若しくはアセチレン不飽和は−X−CH=CH−R”のオレフィン不飽和と又はX−C≡C−R”のアセチレン不飽和と共役し、XはC−Si結合により分岐シリコーン樹脂に結合し、R”は水素又はCH=CH−若しくはC≡C−結合に対する電子求引効果若しくはその他の活性化効果を有する基を表すことを特徴とする、シリコーンをポリオレフィン上にグラフトするプロセスを提供する。ポリオレフィンはその上に分岐シリコーン樹脂をグラフトすることにより補強される。 (もっと読む)


【課題】高い絶縁性を実現しつつ、有機半導体分子を高いレベルで異方的配向させて優れたキャリア移動度を発揮可能な有機半導体素子用絶縁性配向膜を形成し得る有機半導体素子用絶縁性配向組成物を提供する。
【解決手段】光配向性基を有するポリオルガノシロキサン化合物と、ポリアミック酸及びポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体とを含有する有機半導体素子用絶縁性配向組成物である。上記光配向性基は桂皮酸構造を有する基であることが好ましい。上記桂皮酸構造を有する基は、特殊なフェニルアクリル酸構造を有する。 (もっと読む)


【課題】貯蔵安定性、成型性、及び硬化性が良好な半導体装置用の樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記成分を含む樹脂組成物。(A)特定構造の熱硬化性オルガノポリシロキサン(C)下記式(2)の硬化促進剤、および(D)直鎖状ジオルガノポリシロキサン。


(式中、Rは互いに独立に水素原子、特定炭素数のアルキル基、アリール基、又はヒドロキシル基、R3は互いに独立に水素原子、又は特定のアルキル基もしくはアルコキシ基) (もっと読む)


【課題】半導体基板への不純物拡散成分の拡散の際に拡散保護のために形成するマスクに好適に採用可能なマスク材組成物、当該マスク材組成物を用いた不純物拡散層の形成方法、および太陽電池を提供する。
【解決手段】マスク材組成物は、半導体基板への不純物拡散成分の拡散保護に用いられるマスク材組成物であって、下記式(a1)で表される構成単位を含むシロキサン樹脂(A1)を含有する。
【化1】


式(a1)中、Rは、単結合または炭素数1〜5のアルキレン基であり、Rは、炭素数6〜20のアリール基である。 (もっと読む)


本発明の主題は、第1工程で一般式Iのアルキルトリアルコキシシラン100質量部を、一般式IIのアルキルアルコキシシラン0〜5質量部、水400〜2500質量部及び乳化剤5〜50質量部と10〜100℃で混合し、その際にアルコールが生じ、第2工程で、前記第1工程で生じたアルコールを最大で0.5質量%のアルコールの全含有量にまで蒸留により除去する方法により製造可能なシリコーン樹脂エマルション(SE)である(その際、一般式Iのアルキルトリアルコキシシラン及び一般式IIのアルキルアルコキシシランは請求項1に記載されている)。本発明の主題は、石膏を、一般式III、IV、V、VI及びVIIの単位から構成されたH−シロキサン及びシリコーン樹脂エマルション(SE)で処理する石膏を疎水化する方法でもある(その際、一般式III、IV、V、VI及びVIIの単位は請求項4に記載されている)。 (もっと読む)


【課題】新規ポリマー、およびそのようなポリマーを含有するフォトイメージャブル組成物の提供。
【解決手段】非炭素四価化学種(Si、Ti、Ge、Zr、Sn)を有する新規ポリマー、およびそのようなポリマーを含有するフォトイメージャブル組成物が提供される。好ましいポリマーは、有機であり、たとえば1種類以上のポリマー繰り返し単位が炭素原子を含む。SiOまたはTiOの繰り返し単位を含むポリマーが特に好ましく、このようなポリマーは、短波長、たとえば300nm未満および200nm未満において画像形成されるレジストの樹脂成分として非常に有用となりうる。 (もっと読む)


【課題】本発明は液晶素子の高速応答を実現しつつ、電圧保持率や残像特性等の諸性能に優れた液晶表示素子を形成することができる液晶配向剤、その液晶配向剤から形成された液晶配向膜を備える液晶表示素子及び液晶配向剤に好適に用いられるポリオルガノシロキサン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は[A]ポリオルガノシロキサン化合物を含有し、この[A]ポリオルガノシロキサン化合物が、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンに由来する部分と、下記式(1)で表されるカルボキシル基を有する化合物に由来する部分とを有する液晶配向剤である。
(もっと読む)


【課題】 従来の欠点及び制限を軽減する、パターン形成性誘電体材料を提供する。
【解決手段】 本発明のパターン形成性誘電体材料は、シルセスキオキサン重合体であり、さらに、ネガ階調型光パターン形成性誘電体調合物中のシルセスキオキサン重合体、シルセスキオキサン重合体を含むネガ階調型光パターン形成性誘電体調合物を用いた構造体の形成方法、及びシルセスキオキサン重合体から作られる構造体を開示する。 (もっと読む)


【課題】塗布性に優れ、感光特性が十分であり、絶縁特性、低誘電性、耐熱性、厚膜性、透明性に優れたポジ型感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いたシリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜を備えた半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材を提供する。
【解決手段】(a)成分:特定の一般式で表される化合物を含むシラン化合物を、加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、(b)成分:フェノール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物、(c)成分:光酸発生剤又は光塩基発生剤、とを含有する感光性樹脂組成物。前記感光性樹脂組成物を用いたシリカ系被膜の形成方法。基板と、この基板上に前記シリカ系被膜の形成方法により形成されたシリカ系被膜とを備える、半導体装置、平面表示装置又は電子デバイス用部材。 (もっと読む)


【課題】耐擦傷性、耐クラック性及び基材密着性等の被膜性能に加えて、防汚性にも優れた無機系の透明硬化被膜を短時間で形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物、硬化被膜形成方法及び当該硬化被膜を形成した積層体を提供する。
【解決手段】2または3官能のオルガノシラン類(A)、特定の両末端反応性基含有ポリジメチルシロキサン(B)、及び特定の芳香族スルホニウム塩型活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(C)を含有する活性エネルギー線硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】より低温で高分子前駆体を高分子に変換可能な高分子前駆体組成物、及びその様な高分子前駆体組成物に利用可能な熱塩基発生剤を提供する。
【解決手段】下記化学式(1)で表わされ、且つ加熱により塩基を発生することを特徴とする、熱塩基発生剤である。


(式中の記号は、明細書に記載したとおりである。) (もっと読む)


141 - 160 / 655