シルセスキオキサン樹脂ワックス組成物、これの調製方法、ならびに、パーソナル、家庭、自動車、および医療ケア組成物における使用が、開示される。本シルセスキオキサン樹脂ワックスは、粗精製油ワックス制御用のような、油（オイル）およびガス分野での種々の適用においても、有用性を見出し得る。 （もっと読む）

多分枝有機／無機ハイブリッドポリマー及びその製造方法。ハイブリッドポリマーは有機ブランチを有する無機コアの形態である。コアは最初に、構造：Ｘ−Ｂ−Ｓｉ（−Ｙ）_３（式中、ＸはＮＲ_１Ｒ_２であり、Ｒ_１、Ｒ_２は水素、アルキル及びアリールから選ばれ、又は、Ｒ_１、Ｒ_２は酸、アルコール、フェノール、アミン、アルデヒド又はエポキシドなどの１つ以上のタイプの化合物の縮合生成物又は付加生成物から選ばれる。Ｂはアルキレン及びアリーレンから選ばれる結合基であり、酸素、窒素、硫黄、リン、珪素及びホウ素を含んでよい。Ｙはアルコキシ、カルボキシル及びハロゲンなどの加水分解可能な残基から選ばれる。有機ブランチは、Ｘ−Ｂ基上のＮ−Ｈ水素原子を、第一級及び第二級アミンに典型的な反応によって置換させること、及び／又は、コア中のＸ−Ｂ基のＮ原子に付加することができる酸を添加することによって成長される。ハイブリッドポリマーの特定の使用も開示する。 （もっと読む）

第一の対向面と第二の対向面とを有する基材；第一の対向面の上に重ねられている第一の電極層；第一の電極層の上に重ねられている発光エレメント（発光エレメントには正孔輸送層及び発光／電子輸送層が含まれており、正孔輸送層及び発光／電子輸送層は互いの上に直接重ねられ、かつ正孔輸送層には硬化ポリシロキサンが含まれ、硬化ポリシロキサンは、フィルムを形成するためにシリコーン組成物を適用する工程、及び前記フィルムを硬化する工程により製造され、前記シリコーン組成物には、カルバゾリル基、フルオロアルキル基、及びペンタフルオロフェニルアルキル基から選択される基を有するポリシロキサンが含まれる）；及び発光エレメントの上に重ねられている第二の電極層、を含む有機発光ダイオード。
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（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）_ａ、（Ｒ^２_２ＳｉＯ_２／２）_ｂ、（Ｒ^３ＳｉＯ_３／２）_ｃ及び（ＳｉＯ_４／２）_ｄ単位（ただし、Ｒ^３基の少なくとも４０モル％はプロピルであるものとする）を含むＭＱ−Ｔプロピルシロキサン樹脂を開示する。また、ＭＱシロキサン樹脂をＴプロピルシロキサン樹脂と反応させることにより、かかるシロキサン樹脂を調製する方法も開示する。これらのシロキサン樹脂は、パーソナルケアや、家庭用品ケア及び医療用ケアの種々の適用用途において、特に、顔料含有の化粧料配合物における樹脂添加剤として有用である。 （もっと読む）

少なくとも一つの複素環を有し、プロトン交換膜（ＰＥＭ）の製造に使用できるポリマー、ポリマー先駆体及び他の材料を記載する。代表的な例において、該複素環はフッ素化されたイミダゾール環である。該複素環は低い値のｐＫａを有するために選択でき、及びトリアゾール環、他の窒素含有複素環又はこれらの誘導体であってもよい。ポリマー及び複合物が優秀なプロトンで伝導性をもって調製された。これら材料の適用は、燃料電池及び他のイオン伝導性用途を含む。 （もっと読む）

例えば半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができ、かつ、比誘電率が小さく、機械的強度や密着性に優れ、均一な膜質を有する膜を形成することができるポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜を提供する。
本発明のポリマーの製造方法は、（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランが、以下のポリマー（Ｉ）である。
（Ｉ）（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種とを、有機溶媒中でアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下にて反応させて得られるポリマー（Ｉ）：
Ｒ^１_ｋＣＸ_４−ｋ ・・・・・（１）
Ｒ^２_ｋＳｉＹ_４−ｋ ・・・・・（２）
Ｒ^３_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^４_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（３）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

ポリ（エチニレンフェニレンエチニレンシリレン）ポリマーのアセチレン結合への、ただ１つの反応性官能基を含有する化合物の選択的付加によって得ることができるポリ（エチニレンフェニレンエチニレンシリレン）タイプの被毒変性ポリマー。これらの変性ポリマーを含有する組成物。これらの変性ポリマーを調製する方法。ポリ（エチニレンフェニレンエチニレンシリレン）タイプの新規な自己被毒ポリマー。前記変性ポリマー又は自己被毒ポリマーの熱処理によって得ることができる硬化製品。ポリマー及び硬化製品は、優れた熱特性を保持しながら、改善された機械特性を有する。 （もっと読む）

本発明は、エポキシ基およびシラン基を有するオリゴマーおよびポリマーの加水分解物および／または縮合物であって、少なくとも１つのエポキシ基（ａ１）と少なくとも１つの加水分解可能なシラン基（ａ２）を有する少なくとも１種のオリゴマーおよび／またはポリマー（Ａ）を加水分解および／または縮合させることによって得られる加水分解物および縮合物に関する。また本発明は、側方および／または末端のエポキシ基（ａ１）と側方および／または末端の一般式（ＩＩ）：ＳｉＲ_ｍＲ^１_ｎ（式中、添え字および変数は明細書で定義された通りである）の加水分解可能なシラン基（ａ２）を有する（メタ）アクリラートコポリマー（Ａ）に関する。基（ａ１）：（ａ２）のモル比は１．５：１〜１：１５、有利には１．３：１〜１：１３、特に１．１：１〜１．１：１である。また本発明は前記の物質の製造方法およびその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】オキサ‐シラシクロペンタン類と同様の環状有機珪素化合物の合成を、１段反応で完結させる製造法を提供する。組成の制御が容易であり、かつ経時的に安定な、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造法を提供する。
【解決手段】遷移金属触媒の存在下、下式(1)のオレフィン類及び下式(2)のアルコキシシランを反応させて下式(3)の環状有機ケイ素化合物を製造する。
【化１】



［式中、Zは末端炭素原子がC=C結合を形成している炭素数2〜5のアルケニル基、Rはメチル基または水素、Meはメチル基。］
【化２】



［式中、R₁は、炭素数1〜3のアルキル基又はアルコキシル基、R₂は炭素数1〜3のアルキル基。］
【化３】



［式中、Z’は炭素数2〜5のアルキレン基。］

上式(3)の有機ケイ素化合物、又はこれと多官能アルコキシシランからなる混合物を加水分解及び縮合してなる、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂。
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【課題】 １９３ｎｍ以下の波長にて改善された透明性を有し、像ぼやけを最小にする、レジスト組成物及びフォトリソグラフィ・プロセスに有用な改善されたシルセスキオキサン・ポリマー構造を提供すること。
【解決手段】 本発明は、シルセスキオキサン・ポリマーと、こうしたシルセスキオキサン・ポリマーを含有するレジスト組成物を提供するものであり、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部はフッ素化部分を有し、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部は、酸触媒による開裂反応のための活性化エネルギーが低く、光学密度の高い部分の存在を最小化又は回避する、溶解抑制型ペンダント酸不安定部分を有する。本発明のポリマーはまた、水性アルカリ溶液中でのレジストのアルカリ溶解を促進するペンダント極性部分を有する。本発明のポリマーは、ポジ型レジスト組成物に特に有用である。本発明は、基板にパターン形成された構造体を形成する際にこうしたレジスト組成物を用いる方法、特に多層（例えば二層）フォトリソグラフィ方法を包含し、この方法は１９３ｎｍ及び１５７ｎｍのような波長にて高解像度の像を生成できる。 （もっと読む）

放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。 下記一般式（１） Ｒ_ｅＳｉ（ＯＲ_１）_３ （１） （式中Ｒ_ｅは、エポキシ基を有する置換基を示す。Ｒ_１はＣ_１〜Ｃ_４のアルキル基を示す。）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式（１）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式（２） Ｒ_ｆＳｉ（ＯＲ_２）_３ （２） （式中Ｒ_ｆは、フッ素原子を１〜２０個有する置換基を示す。Ｒ_２はＣ_１〜Ｃ_４のアルキル基を示す。）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるエポキシ基含有ケイ素化合物（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、並びに必要によりフッ素原子を有する高分子化合物（Ｃ）、一次粒径が１〜２００ナノメートルのコロイダルシリカ（Ｄ）及び側鎖に（ポリ）シロキサン構造を有する高分子化合物（Ｅ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ロール・トゥ・ロールプロセスでの使用に適応した高温安定性の平坦化フレキシブル誘電基板及びそれに用いる誘電被膜を提供すること。
【解決手段】式：［Ｒ_xＳｉＯ_(4-x)/2］_n（ここで、ｘ＝１〜４、Ｒはメチル、フェニル、ヒドリド、ヒドロキシ、アルコキシ又はこれらの組み合わせ（ただし、１＜ｘ＜４）で表されるシリコーン組成物を含む、導電性基板上に用いられる誘電被膜である。Ｒはまた、アルキル又はアリール基、アリールエーテル、アルキルエーテル、アリルアミド、アリールアミド、アルキルアミノ及びアリールアミノラジカルから独立して選ばれた他の１価ラジカルからなる。誘電被膜は網目構造を有する。光起電基板がまた開示され、その表面上に誘電被膜が設けられた導電性材料を含む。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ特性（エッチング耐性、透過性、解像度、感応性、焦点余裕度、ラインエッジラフネス及び粘着性）を改良した、フォトレジストとして好適なシルセスキオキサン樹脂；フッ素化官能基又は非フッ素化官能基をシルセスキオキサンの主鎖に組み入れる方法に関する。本発明のシルセスキオキサン樹脂は、一般構造（ＨＳｉＯ_３／２）_ａ（ＲＳｉＯ_３／２）_ｂを有する；式中、Ｒは酸解離性基であり、ａは０．２〜０．９の値を有し、ｂは０．１〜０．８の値を有し、且つ０．９≦ａ＋ｂ≦１．０である。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜中に規則的で均一なナノ気孔を形成させ得る新規星型高分子物質の提供。
【解決手段】アルコキシシラン末端基を有し、中心部にエーテル基を有する式（Ｉ）で表される星型高分子を気孔誘導体として用いると、規則的で均一に分布されたナノ気孔を有する低誘電性シリケート高分子薄膜が得られる。前記星型高分子は、環状モノマーを多価アルコールと開環重合させた後、得られた高分子をアルコキシシラン化合物と反応させることによって製造される。 （もっと読む）

式Ｉ又はII（式中、ｎ及びｍは、互いに独立して３〜５であり；ｏは、１０〜１６であり；ｐは、４〜８であり；Ｒは、フェニル−ＣＯ−ＣＯ−Ｏであり；Ｙ及びＹ’は、互いに独立してＣ_１〜Ｃ_１０アルキレン又は−［（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ］_ｃ−（式中、ａは、２〜１０であり、ｂは、０〜１０であり、ｃは、１〜３である）であり；但し、当該メチレン基が２個の酸素原子の間にあるならば、それらは、少なくとも１である）のポリマー光開始剤。
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