【課題】支持基体に対して、耐擦傷性、耐クラック性に優れた保護皮膜を形成することができる環境に優しい無溶剤の光硬化性コーティング剤組成物及びその硬化皮膜を有する物品を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記一般式（１）で表されるシラン化合物及び／又はその部分加水分解物、又はこれと、これ以外の加水分解性基含有有機ケイ素化合物とを（共）加水分解縮合することにより得られる、尿素結合を介して（メタ）アクリル基を含有するオルガノポリシロキサン化合物、［Ｃ］ラジカル系光重合開始剤、及び必要により［Ｂ］：［Ａ］成分以外の（メタ）アクリル基含有化合物を含有してなる無溶剤の光硬化性コーティング剤組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化性シルセスキオキサン樹脂をマトリックスとし、ガラス繊維を配合した透明複合材に関し、詳細には、透明性、機械強度、耐候性にすぐれた透明複合材、及びそれを用いた太陽電池や表示素子を提供する。
【解決手段】エポキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基及びオキセタニル基からなる群から選択される少なくとも１種の環状エーテル基を有する重量平均分子量１５００〜３００００のシルセスキオキサンと、重合開始剤又は硬化剤と、前記シルセスキオキサン１００重量部に対して平均粒子径１〜１００ｎｍの金属酸化物微粒子０．１〜１００重量部とから実質的になる硬化性樹脂組成物と、前記硬化性樹脂組成物１００重量部に対して１０〜３００重量部のガラス繊維とからなる透明複合材。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）熱硬化性シリコーン樹脂、（Ｂ）トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物、（Ｃ）白色顔料、（Ｄ）無機充填剤（但し、白色顔料を除く）、（Ｅ）酸化防止剤を含有し、（Ｅ）成分の酸化防止剤が、一般式（１）
Ｐ（ＯＲ¹）（ＯＲ²）₂ （１）
（Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異種の炭素数６以上の有機基である。）
で表されるホスファイト化合物であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との配合比率が質量比で５：９５〜９５：５である光半導体基板形成用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
【効果】本発明の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物は、硬化性に優れ、良好な強度を有すると共に、長期間にわたり耐熱性、耐光性を保持し、均一でかつ黄変の少ない硬化物を与えるものである。 （もっと読む）

【課題】レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れ、形成されるレリーフ層の弾性及びインキ転移性に優れたレリーフ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物、及び、（ｂ）バインダーポリマーを含有する。Ｒ¹は結合性基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ａは（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、ｋは０〜４の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表す。
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【課題】ｐ型材料とｎ型材料の組み合わせにかかわらず容易に形成することができる、ナノメートルオーダーのｐｎ接合界面を有するバルクヘテロ接合型の有機薄膜を備える光電変換効率に優れた太陽電池を提供すること。
【解決手段】第１の電極および第２の電極と、該電極間に、ｐ型またはｎ型のメソポーラス有機シリカとｎ型またはｐ型の材料とがバルクヘテロ接合している有機薄膜とを備えることを特徴とする太陽電池。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性があり、化学安定性に優れ、低含水条件下でも良好なプロトン伝導性を有し、且つ、メタノールのクロスオーバー現象を抑制するための低いメタノール透過性の両方を兼ね備えた燃料電池用固体電解質膜、および当該電解質膜の工業的に簡便かつ多量生産に適した製造方法を提供する。
【解決手段】
強酸性の特定のビス（パーフルオロアルカンスルホニル）メチド部位を有するメチド系シロキサン化合物と、特定のポリシロキサン化合物および特定のシラン化合物を架橋反応させることにより得られるシリコン樹脂を用いたことを特徴とする燃料電池用固体電解質膜およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの基板に形成されたナノオーダーのパターンを埋め込み乃至平坦化し、非磁性体として用いられるポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】フェニルシルセスキオキサンを含むハードディスク用被膜形成組成物。フェニルシルセスキオキサンが下記式（１）：


（式中Ｒ^１はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基である。Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、又はフェニル基である。）で示される加水分解性シランの加水分解縮合物である。 （もっと読む）

本発明の１つの態様は、複数の相互に連結された有機シリカナノ粒子を含む膨潤性ゾル−ゲル組成物を含む。本発明の別の態様は、複数の相互に連結された有機シリカナノ粒子、および非極性もしくは有機の被吸着物質に結合するかまたは非極性もしくは有機の被吸着物質と反応することができる微粒子物質を含む膨潤性複合材料を含む。乾燥時に、当該ゾル−ゲル組成物および膨潤性複合材料は、非極性または有機の被吸着物質と接触して置かれるときに、その乾燥体積の少なくとも２倍まで膨潤することができる可能性がある。 （もっと読む）

【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂を基材樹脂として含むネガ型レジスト組成物において、オキセタン構造が構造中に含まれる化合物として、次式（５）で表わされるケイ素含有重合体：


（上式において、ｎは、正の整数である）が含まれるように構成する。 （もっと読む）

【課題】（Ａ）〜（Ｅ）のうち、（Ａ）及び（Ｃ）を含む３つ以上に優れる宇宙空間用硬化性組成物、その硬化物、並びに、宇宙空間用複合膜を提供すること。（Ａ）原子状酸素耐久性、（Ｂ）紫外線による太陽光吸収率増加抑制性、（Ｃ）アウトガス抑制性、（Ｄ）表面非粘着性、（Ｅ）硬化膜追従性。
【解決手段】式（１）で表されるポリシロキサンを含むことを特徴とする宇宙空間用硬化性組成物、その硬化物、並びに、宇宙空間用複合膜。ｗは正の数を表し、ｖ、ｘ及びｙはそれぞれ独立に、０又は正の数を表す。
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【課題】硬化性を阻害することなく、造膜性、耐クラック性、可撓性、水蒸気バリアー性に優れた硬化皮膜を形成し得るコーティング用組成物及びその組成物の硬化皮膜が形成されてなる被覆物品を提供する。
【解決手段】（Ａ）ビスフェノールＡタイプのアルコキシシラン加水分解縮合物、（Ｂ）シリカコロイドゾル、及び（Ｃ）硬化触媒を必須成分とするコーティング用組成物、及びこの組成物の硬化皮膜が形成されてなる被覆物品。 （もっと読む）

【課題】シリコーンポリエーテルコポリマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】副反応またはその転換生成物によって生じる不飽和の官能基コポリマー中に存在しないことを特徴とする、式１の逆構造の新規なシリコーンポリエーテルコポリマー、およびその製造方法であって、この方法において、アルコキシシリル基で末端修飾および／または側鎖修飾されたポリエーテルを、１つまたは複数の加水分解不安定性基を有するシランおよび／またはシロキサンと、加水分解および縮合反応において反応させる。 （もっと読む）

【課題】キノンジアジド化合物との相溶性が高く、ＩＴＯ膜エッチング工程におけるレジスト剥離液耐性に優れた層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］シロキサンポリマー、及び［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有し、［Ａ］シロキサンポリマー中のアリール基のＳｉ原子に対する含有率が６０モル％を超え９５モル％以下であるポジ型感放射線性組成物である。［Ａ］シロキサンポリマーが、下記式（１）（式中、Ｒ^１は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表す。Ｒ^２は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表す。但し、これらのアルキル基、アルケニル基、及びアルキル基の水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。ｎは０から３の整数を表す）で示される化合物を少なくとも含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であってよい。
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【解決手段】式（１）
Ｘ_m（Ｒ²）_nＳｉ（ＯＲ¹）_(4-m-n)・・・（１）
（ＸはＣ_6-18の１価炭化水素基、Ｒ¹、Ｒ²は１価炭化水素基、ｍは１又は２、ｎは０又は１、ｍ＋ｎは１又は２）
で表される有機ケイ素化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む有機ケイ素化合物原料を、加水分解、重縮合することによって得られる環状体オルガノポリシロキサンとリニア体オルガノポリシロキサンを含有するオルガノポリシロキサンであって、ケイ素核磁気共鳴スペクトル分析における式（１）で表される化合物由来のピークのアルコキシ基が２つ加水分解縮合し、シロキサン単位となった成分（Ｔ２）において、環状体成分を表すピーク成分（Ｔ２ａ）とリニア体成分を表すピーク成分（Ｔ２ｂ）との比率（Ｔ２ａ／Ｔ２ｂ）が０．９以上であるオルガノポリシロキサン、
揮発性の有機溶剤
を含有する撥水剤組成物。
【効果】本発明は撥水性及び撥水接続性に優れたものである。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性、耐クラック性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】特定の四官能のシルセスキオキサン化合物（Ａ）、アルコキシル基数が異なる複数種のアルコキシシラン化合物によるシロキサンポリマー（Ｂ）、１，２−キノンジアジド化合物（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含有するポジ型感光性組成物を提供する。 （もっと読む）

シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、ＣＦ_４を含有する反応性イオンエッチングレシピを用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、有機系フォトレジストの上面全体を露出する。その後、Ｏ_２を含有する第２反応性イオンエッチングレシピを用い、有機フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
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シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、塩基水溶液の揮散剤又はＣＦ_４を含有する反応性イオンエッチング法を用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、フォトレジストの上面全体を露出する。次に、Ｏ_２を含有する第２反応性イオンエッチング法を用い、フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
（もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性等が優れると共に、ＩＴＯ基板密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成可能であり、かつ十分な解像性を有する感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］シロキサンポリマー、［Ｂ］低分子シラン化合物、並びに［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤を含有する感放射線性組成物である。［Ａ］シロキサンポリマーが加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であることが好ましい。［Ｄ］脱水剤をさらに含有するとよい。［Ｃ］感放射線性酸発生剤として、トリフェニルスルホニウム塩及びテトラヒドロチオフェニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種が用いられることが好ましい。 （もっと読む）

以下の式によって表されるエポキシシランと、
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基を表し、Ｘは、少なくとも１つのオキシラン環を有する有機基を表す）；
以下の式によって表されるフッ素化シランと、
【化２】


（式中、Ｒ_ｆは、３〜５個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基を表し、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^５〜Ｒ^７はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を表す）；
光酸と、を含む、硬化性組成物。フォトツールをコーティングすることによって、前記フォトツール上に保護コーティングを提供するための硬化性組成物の使用も開示される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性等の各種物性に優れ、しかも有機溶剤等の揮発成分を実質的に含まなくても、室温で液状で存在できる液状組成物、及び、それを用いたエレクトロニクス実装材料を提供する。
【解決手段】反応性基含有化合物、架橋剤及び特定構造を有するシラン化合物を含む液状組成物であって、該反応性基含有化合物は、室温で固化しており、かつ２００℃以下に融点を有する化合物である液状組成物。 （もっと読む）