【解決手段】 半導体素子及び／又は半導体素子を搭載した基板を有する半導体装置において、半導体素子を半導体封止剤により封止する前工程として、半導体素子及び／又は半導体素子を搭載した基板をプラズマ処理し、次いでプライマー組成物によりプライマー処理を行った後、半導体素子を半導体封止剤にて封止することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【効果】 本発明により製造した半導体装置、特にＬＥＤパッケージは、半導体素子又はこれを搭載した基板と封止樹脂との接着性を高め、装置の信頼性を向上させることができ、特にＬＥＤ装置に有効であるという特徴をもつ。 （もっと読む）

【課題】 シロキサン系の多孔質体の製造方法であって、孔径を容易に制御することができる方法を提供する。
【解決手段】 １）シロキサンを含有し、刺激応答性を有するゲルを得るステップ、および２）得られたゲルの溶媒の少なくとも一部を除去してシロキサンキセロゲルを得るステップを含むシロキサン系多孔質体の製造方法において、ゲルのシロキサン濃度などを調整することにより、前記多孔質体の孔径を制御する。さらに、前記ゲルの溶媒除去が凍結乾燥により行われる場合は、凍結条件を調整することにより孔径を制御する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用のＡｒＦレーザ光等に対する透過率が高いレジストカバー膜形成材料。
【解決手段】レジスト膜に対して液浸露光を行う際に該レジスト膜をカバーするレジストカバー膜を形成するのに用いられ、アルカリ可溶性基を有し一般式（１）〜（３）で表されるケイ素含有ポリマーから選択される少なくとも１つとを含むレジストカバー膜形成材料。






一般式（１）〜（３）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^６〜Ｒ^８の少なくともいずれかはアルカリ可溶性基を有する一価の有機基及びトリオルガノシリル基の少なくともいずれかを表し、Ｒ^２、Ｒ^５及びＲ^９は一価の有機基、トリオルガノシリル基及び水酸基の少なくともいずれかを表す。 （もっと読む）

【解決手段】 （Ａ）式（１）
Ｒ¹_aＲ²_bＲ³_cＲ⁴_d（ＯＲ⁵）_eＳｉＯ_{(4-a-b-c-d-e)/2} （１）
（Ｒ¹はエポキシド含有一価有機基、Ｒ²は非共役二重結合基含有一価炭化水素基、Ｒ³は（メタ）アクリル官能基含有一価有機基、Ｒ⁴は水素原子又は一価炭化水素基、Ｒ⁵は水素原子又は一価炭化水素基、０．２≦ａ≦０．９、０．１≦ｂ≦０．６、０≦ｃ≦０．６、０≦ｄ≦０．８、１．０≦ｅ≦２．０、かつ２．０≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦３．０）
で示され、含有するイオン性不純物（Ｎａ，Ｋ，Ｃｌ）が２．０ｐｐｍ以下であるオルガノシロキサンオリゴマー、
（Ｂ）希釈剤
を必須成分とするプライマー組成物。
【効果】 本発明のプライマー組成物は、電気電子部品における各種基板と保護層であるシリコーン樹脂との接着性が高く、部品の信頼性が向上し、各種電気電子部品に有効である。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜を提供できる膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）の化合物及び／又はその加水分解縮合物を含み、塩
基性である膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び、その製造方法。
Ｘ¹_(3-m)Ｒ¹_mＳｉＲ²ＳｉＲ³_nＸ²_(3-n) （Ｉ）
式中、Ｒ¹およびＲ³は水素原子または１価の置換基であり、Ｒ²はアルキレン基、アリーレン基またはこれらの組み合わせを表し、Ｘ¹およびＸ²は加水分解性基を表す。ｍおよびｎは０〜２の整数である。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子等の吸水剤として用いることができる、透明でありかつ吸湿性がある組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシロキサンの主鎖の末端又は側鎖に、下式
−ＭＸ_mＹ_n
（上式中、Ｍは２価以上の金属原子又はＢもしくはＰ＝Ｏより選ばれ、Ｘは水素、又は置換されたもしくは未置換のアルキル基、アルケニル基もしくはアルコキシ基であり、Ｙは置換されたもしくは未置換のアルコキシ基、シロキシ基、カルボキシル基またはジケトレートであり、ｍは１〜３であり、ｎは０〜２である）
で表される基を含有する化合物を含む湿気反応性組成物。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物および当該組成物より得られる絶縁膜。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物に、一般式（２）で表される化合物を添加して、加水分解、縮合して得られる化合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は、単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。
【化２】


一般式（２）中、Ｘ₂は、加水分解性基を表わし、Ｒ₂〜Ｒ₄は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はビニレン基を表わす。 （もっと読む）

【課題】優れた耐湿性及び高い接着性を有しかつ熱による着色が少ない実用性の高い光学材料用組成物、それを硬化してなる光学材料、その製造方法、並びに、それを用いた液晶表示装置及びＬＥＤを提供すること。
【解決手段】（Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、（Ｄ）１分子中に少なくとも１個のエポキシ基を含有する化合物、及び、（Ｅ）１分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を含有する化合物を含有する光学材料用組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、無機物の物性を損なうことなく、耐候性、表面撥水性、表面平滑性及び潤滑性等の特性を付与することが可能なポリオルガノシロキサン及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】 下記一般式（１）で表わされる数平均分子量が５００〜５００，０００である片末端アルコキシ変性ポリオルガノシロキサン。



ここで、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に同一または異なる１価の有機基であり、ｎは４〜１１００である。 （もっと読む）

ヘアまたはスキンコンディショニング組成物類であって、：（ａ）約０．１重量％〜約１０重量％の増粘ポリマー系；（ｂ）約０．１重量％〜約８．０重量％の、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、及びこれらの混合物から成る群より選択される界面活性剤系；（ｃ）約０．１重量％〜約１０重量％の疎水変性したアミドシリコーンコポリオール；並びに（ｄ）水性キャリアを含み、前記組成物の透過率が２５％以上であり、並びに／または前記組成物が、約１Ｐａ・ｓ（１，０００ｃｐｓ）〜約５０Ｐａ・ｓ（５０，０００ｃｐｓ）の粘度及び３０以上のずり減粘指数を有する、前記ヘアまたはスキンコンディショニング組成物類が開示されている。これら組成物類は、洗い流し型／リーブオン用途向けのヘアコンディショニング製品類のようなヘアケア製品類に特に適している。 （もっと読む）

【課題】 乾燥後の毛髪に優れた使用感を付与し、根元から毛先まで均一な柔軟性を付与することができる、特に化学処理により損傷の進んだ髪に適する毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】 次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）；
（Ａ）一般式（１）
【化１】


で表されるエーテル型陽イオン性界面活性剤
（Ｂ）脂肪族アルコール
（Ｃ）窒素原子を下記一般式（２）
【化２】


で表わされるポリ−（Ｎ−アシルアルキルイミン）単位と共に含有するアルキレン基に結合した１個以上のケイ素原子を有し、シリコーンセグメントの重量含有率が４０％以上であるオルガノポリシロキサン
を含有する毛髪化粧料組成物。 （もっと読む）

【課題】伝導性の有機無機複合体組成物及びその製造方法、組成物を利用して製造された伝導性の有機無機複合体薄膜、伝導性の有機無機複合体薄膜を備える有機電界発光素子、及び有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】伝導性の高分子単量体、酸化剤及びアルコール溶媒を含む混合溶液と、有機ケイ素化合物、水、酸触媒及びアルコール溶媒を含むシリカゾル溶液と、を混合して製造された伝導性の有機無機複合体組成物及びその製造方法、組成物を利用して製造された伝導性の有機無機複合体薄膜、伝導性の有機無機複合体薄膜を備える有機電界発光素子、及び有機電界発光素子の製造方法である。これにより、疎水性であり、かつ水及び有機溶媒に不溶性であり、機械的強度にすぐれ、熱的、化学的に安定しており、またその組成を多様に調節できる伝導性の有機無機複合体組成物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】耐候性、透明性に優れたシリコーン樹脂成型体用ワニスを合成し、これを用いてフィルム及びシート状シリコーン樹脂成型体を得る。
【解決手段】下記式（１）に示すようなシルセスキオキサン誘導体を用いて得られるシリコーン樹脂組成物及び溶剤を含有するシリコーン樹脂成型体用ワニスを合成し、これを用いてフィルム状及びシート状シリコーン樹脂成型体を得る。
【化１】


式（１−１）におけるすべてのＲは非置換のフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はｔ−ブチルであり、Ｙ¹は式（ａ−１）〜（ａ−５）及び（ｂ−１）のいずれかで示される基である。Ｒ^aはビニル、アリルまたはスチリル、Ｘ¹¹，Ｘ¹²，Ｘ¹³，Ｘ¹⁴及びＸ¹⁵は炭素数１〜４のアルキルまたは非置換のフェニルである。 （もっと読む）

本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

（もっと読む）

【課題】 誘電率が低く、機械的強度が高い絶縁材料を提供できる化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁膜などの絶縁材料を提供する。
【解決手段】 アダマンタン構造に連結基を介してケイ素を含有する基が置換した特定の化合物を加水分解及び／または縮合して得られるケイ素酸素架橋化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁材料。 （もっと読む）

【課題】厚膜でも全くクラックが入らず、さらに耐候性に優れた平坦化膜用塗布液および該塗布液を用いて形成される平坦化膜を提供する。
【解決手段】下記式（１）に示すシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体及び溶剤を含有する平坦化膜用塗布液を用いて平坦化膜を作製する。
【化１】


式（１）におけるすべてのＲは非置換のフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、又はｔ−ブチルであり、Ｙ¹は式（ａ−１）、（ａ−３）、（ａ−５）、（ａ−７）、（ａ−８）または（ａ−９）で示される基である。Ｒ^aがビニル、アリルまたはスチリルであって、Ｘ¹¹，Ｘ¹³，Ｘ¹⁵，Ｘ¹⁷，Ｘ¹⁹が炭素数１〜４のアルキルまたは非置換のフェニルである。 （もっと読む）

【課題】 アウトガス成分が少なく、透明性に優れ、その硬化物が高度の耐熱性を持ち、耐塩基性、耐クラック性に優れ、電気・電子材料等に有用なケイ素含有硬化性組成物の提供。
【解決手段】 （Ａ）成分として、下記の（α）成分及び（β）成分のそれぞれから選ばれる１種以上を、ヒドロシリル化反応して得られる１分子中に２個以上のＳｉ−Ｈ基を含有するプレポリマー（Ａ）と、（Ｂ）成分として、Ｓi −Ｈ基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に２個以上含有する環状シロキサン化合物（Ｂ）と、（Ｃ）成分として、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）を含有することを特徴とするケイ素含有硬化性組成物。 （α）成分： 下記の式（１）で示される、１分子中に２個以上のＳｉ−Ｈ基を含有する環状シロキサン化合物。


（β）成分： Ｓi −Ｈ基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に２個以上含有する化合物。 （もっと読む）

本発明の課題は、従来の固体高分子形燃料電池における問題点を解決し、耐熱性および高温下においてもプロトン伝導性に優れ、寸法安定性の高いプロトン伝導性膜、その製造方法およびこれを用いた燃料電池を提供することである。本発明のプロトン伝導性膜は、金属−酸素架橋構造からなる粒子１を有するプロトン伝導性膜であって、前記粒子１の表面にはスルホン酸基などの酸基が導入され、かつ、前記粒子１が連続体を構成する。そして粒子の間隙２は、前記プロトン伝導性膜の主表面から相対向する面に連通して、プロトン伝導路を形成している。
（もっと読む）

【課題】集積回路において階間誘電体として用いる場合の低誘電率材料及びそれを含む膜の性能の改良、並びにその製造方法について明らかにする。
【解決手段】これらの材料は、約３．７又はそれ未満の誘電率（ｋ）、前記材料の誘電率から部分的に導出される約１５ＧＰａ又はそれよりも大きい標準化壁体弾性率（Ｅ_ｏ′）、及び金属不純物レベルが５００ｐｐｍ又はそれ未満のものとして特徴づけられる。また、約１．９５未満の誘電率及び約２６ＧＰａを超える前記材料の誘電率から部分的に導出される標準化壁体弾性率（Ｅ_ｏ′）を有する低誘電率材料について開示する。 （もっと読む）

ポリオキシアルキレンMシロキシ単位及びアルキル官能性M及びTシロキシ単位の両方を含むシロキサン樹脂、ならびにこれらの水性組成物が開示されている。この水性組成物は、シロキサン樹脂によって安定化された分散粒子を含み、種々の個人用、家庭用および医療用活性剤の封入および送達に有用である。 （もっと読む）