【課題】ロール・トゥ・ロールプロセスでの使用に適応した高温安定性の平坦化フレキシブル誘電基板及びそれに用いる誘電被膜を提供すること。
【解決手段】式：［Ｒ_xＳｉＯ_(4-x)/2］_n（ここで、ｘ＝１〜４、Ｒはメチル、フェニル、ヒドリド、ヒドロキシ、アルコキシ又はこれらの組み合わせ（ただし、１＜ｘ＜４）で表されるシリコーン組成物を含む、導電性基板上に用いられる誘電被膜である。Ｒはまた、アルキル又はアリール基、アリールエーテル、アルキルエーテル、アリルアミド、アリールアミド、アルキルアミノ及びアリールアミノラジカルから独立して選ばれた他の１価ラジカルからなる。誘電被膜は網目構造を有する。光起電基板がまた開示され、その表面上に誘電被膜が設けられた導電性材料を含む。 （もっと読む）

本発明は、高いアリール含有率、Ｒ_２ＳｉＯ_２／２含有率およびアミン含有率を有するアミノ官能性シリコーン樹脂に関する。本発明のアミノ官能性シリコーン樹脂は、選択された有機物質、特にエポキシ含有有機物質と混合されたとき、強く、水、溶媒そして熱に対して抵抗性の合成混成物質を作るときに有用である。本発明の該アミノ官能性樹脂は、低いＣＴＥと溶媒抵抗を維持する一方、エポキシ化合物を柔軟化する能力を有する。本発明は上記アミノ官能性シリコーン樹脂を含有するマルジョン組成物にも関する。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ特性（エッチング耐性、透過性、解像度、感応性、焦点余裕度、ラインエッジラフネス及び粘着性）を改良した、フォトレジストとして好適なシルセスキオキサン樹脂；フッ素化官能基又は非フッ素化官能基をシルセスキオキサンの主鎖に組み入れる方法に関する。本発明のシルセスキオキサン樹脂は、一般構造（ＨＳｉＯ_３／２）_ａ（ＲＳｉＯ_３／２）_ｂを有する；式中、Ｒは酸解離性基であり、ａは０．２〜０．９の値を有し、ｂは０．１〜０．８の値を有し、且つ０．９≦ａ＋ｂ≦１．０である。 （もっと読む）

【課題】ポリオルガノシロキサンの提供。
【解決手段】本発明はポリオルガノシロキサンの総質量に基づき、0.8質量％を超える窒
素濃度をもつポリオルガノシロキサン、このようなポリオルガノシロキサンを含む組成物及びこのような組成物を用いた繊維材料の処理に関する。 （もっと読む）

本発明は、ホスホン酸エステル基を有するシランと反応性のケイ素化合物との反応によるホスホン酸エステルにより変性された有機ケイ素化合物の製造の方法に関する。 （もっと読む）

本発明は半導体または電気回路での低いｋ誘電性フィルムの製造方法に関し、前記方法は、一般式［（Ｒ_ａＸ_ｂＳｉＯ_１．５）_ｍ（Ｒ_ｃＹ_ｄＳｉＯ）_ｎ］（式中、ａ、ｂは０〜１であり、ｃ、ｄは１であり、ｍ＋ｎは３以上であり、ａ＋ｂは１であり、ｎ、ｍは１以上であり、Ｒは水素原子またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリール基であり、それぞれ置換されているかまたは置換されてなく、Ｘはオキシ、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、シリル、シリルオキシ、ハロゲン、エポキシ。エステル、フルオロアルキル、イソシアネート、アクリレート、メタクリレート、ニトリル、アミノまたはホスフィン基であり、またはタイプＸの少なくとも１つの前記基を有するタイプＲの置換基であり、Ｙはヒドロキシル、アルコキシまたはタイプＯ−ＳｉＺ_１Ｚ_２Ｚ_３の置換基であり、Ｚ_１、Ｚ_２およびＺ_３はフルオロアルキル、アルコキシ、シリルオキシ、エポキシ、エステル、アクリレート、メタクリレートまたはニトリル基であり、またはタイプＲの置換基であり、同じかまたは異なり、タイプＲの置換基が同じかまたは異なるだけでなく、タイプＸおよびＹの置換基もそれぞれ同じかまたは異なり、タイプＹの置換基として少なくとも１個のヒドロキシル基を有する）の不完全に縮合した多面体のオリゴマーシルセスキオキサンをフィルムの製造のために使用することを特徴とし、更にこの方法により製造される低いｋ誘電性フィルムに関する。 （もっと読む）

本発明は、反応性≡ＳｉＨ単位と≡ＳｉＯＨ単位との間の脱水素縮合によって架橋することができ且つイリジウム触媒錯体を使用するシリコーン組成物に関する。この触媒錯体は、
・一方の、次の式（Ｉ）：
（ＩｒΣΣ'₂）_n
｛ここで、
Ａ）ｎは１又は２であり、
ｎが１であるならば、Σは３電子ラジカル配位子ＬＸであり、
ｎが２であるならば、Σは、２個のイリジウム原子と共に３電子配位子ＬＸのように挙動する１電子ラジカル配位子Ｘであり、
Ｂ）Σ'は同一又は異なっていて（好ましくは、同一）、それぞれ２電子配位子Ｌを表わす。｝
のイリジウム錯体と、
・他方の、Ｒ₂Ｓ、Ｒ₂Ｏ、ＮＲ₃、カルベン及び有機燐化合物から選ばれる配位子Σ_d
とを一緒に反応させることによって得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の架橋性線状ポリオルガノポリシロキサンＰＯＳ、無機充填剤及び架橋触媒を含み、湿分の不在下において貯蔵安定性であり、水の存在下で架橋してエラストマーになる１成分型ポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）組成物であって、
前記ＰＯＳが非ヒドロキシル化官能化末端、特にアルコキシ、オキシム、アシル及び／又はエノキシタイプ、好ましくはアルコキシタイプの末端を有すること、
該組成物がヒドロキシル化末端を有するＰＯＳを本質的に含まないこと、並びに
前記触媒がバナジウム化合物であること
を特徴とする、前記組成物に関する。本発明はまた、硬化架橋したエラストマー状マスチックにも関する。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜中に規則的で均一なナノ気孔を形成させ得る新規星型高分子物質の提供。
【解決手段】アルコキシシラン末端基を有し、中心部にエーテル基を有する式（Ｉ）で表される星型高分子を気孔誘導体として用いると、規則的で均一に分布されたナノ気孔を有する低誘電性シリケート高分子薄膜が得られる。前記星型高分子は、環状モノマーを多価アルコールと開環重合させた後、得られた高分子をアルコキシシラン化合物と反応させることによって製造される。 （もっと読む）

式Ｉ又はII（式中、ｎ及びｍは、互いに独立して３〜５であり；ｏは、１０〜１６であり；ｐは、４〜８であり；Ｒは、フェニル−ＣＯ−ＣＯ−Ｏであり；Ｙ及びＹ’は、互いに独立してＣ_１〜Ｃ_１０アルキレン又は−［（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ］_ｃ−（式中、ａは、２〜１０であり、ｂは、０〜１０であり、ｃは、１〜３である）であり；但し、当該メチレン基が２個の酸素原子の間にあるならば、それらは、少なくとも１である）のポリマー光開始剤。
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組成物は、珪素原子及び酸素原子を含むポリマー網目構造物、可撓性結合基及び末端基を含む、前記ポリマー網目構造物内の複数の珪素原子に結合された第一の有機側鎖を含み、前記末端基が孤立電子対を提供する１個以上の原子を含む。組成物はプロトン伝導性膜の形成に使用しうる。例証となる実施例においては、前記ポリマー網目構造物は有機−無機ハイブリッド網目構造物であり、前記末端基は含窒素複素環を含みうる。
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生体適合性のマルチポリマーは、約１０重量％から約４５重量％の少なくとも一つの堅固なセグメント（１）及び約５５重量％から約９０重量％の柔軟なセグメント（２、３及び４）を含む骨格を有する。その柔軟なセグメント（２、３及び４）は、三つの群、合計の柔軟なセグメントの重量の５重量％から２５重量％の酸素の浸透可能な柔軟なセグメント（２）、合計の柔軟なセグメントの重量の５重量％から２５重量％の親水性の柔軟なセグメント（３）、及び合計の柔軟なセグメントの重量の５０重量％から９０重量％の生物学的に安定な相対的に疎水性の柔軟なセグメント（４）へ、分割される。 （もっと読む）

エラストマー系のシランまたはシロキサン、好ましくは第四級アンモニウム基を有するエラストマー系のシランまたはシロキサンを含む水中油型（Ｏ／Ｗ）および油中水型（Ｗ／Ｏ）のエマルジョンならびにマイクロエマルジョンは、一般的に、エポキシド基またはハロヒドリン基を有する有機第四級アンモニウム化合物を、アミノ基を有するシランまたはシロキサンと反応させることによって製造される。該反応は、架橋剤および界面活性剤を含む水性極性相中で行われる。該エマルジョンおよびマイクロエマルジョンは、髪、肌または腋の下の処理に特に有用である。 （もっと読む）

本発明は、一般式Ｉ
Ｒ_ｘＳｉＯ_{（４−ｘ）／２} （Ｉ）
［式中、
ｘは１、２又は３であり、
置換基Ｒは以下
（ｉ）以下
【化１】


から選択される有機官能基、ここで、Ｒ’は、１〜１８個の炭素原子を有する直鎖、分枝鎖又は環式アルキル基又は６〜１２個の炭素原子を有するアリール基である
（ｉｉ）ヒドロキシル、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、イソプロポキシ、ｎ−プロポキシ、イソブトキシ及び／又はｎ−ブトキシ基、及び
（ｉｉｉ）適当であれば、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、イソアルキル、シクロアルキル又はフルオロアルキル基
であるが、但し、ケイ素原子１個当たり１個以下の有機官能基（ｉ）が結合しており、ケイ素に対する成分（ｉｉ）のモル比の商が１〜２であり、かつ一般式Ｉの化合物のためのオリゴマー化度が２〜５０の範囲内である］
の、鎖状、分枝状及び／又は環式シロキサンを含有する混合物に関する。本発明は更に前記のシロキサン混合物の特別な製造法及びその使用にも関する。
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本発明は、構造的に異なるアミノポリシロキサンおよび／またはアンモニウムポリシロキサン化合物ａ１）とａ２）を含有させたポリオルガノシロキサン組成物、これの製造方法、これを基質、特に繊維型基質を親水性または柔らかにする処理で用いること、そしてそれを含んで成る製品、特に紙製品、例えばマット、紙パルプ、紙布、ペーパーサポートまたは紙層などに関する。 （もっと読む）