【課題】
短時間の放射線照射で速やかに硬化して、各種基材に対し良好な接着性を示す放射線硬化性組成物のシリコーンゴム硬化物で封止又はコーティングされた電子部品、および電子部品の封止又はコーティング方法を提供する。
【解決手段】
(A) 複数のアクリロイル基および／またはメタクリロイル基を有するオルガノポリシロキサン、
(B) 放射線増感剤、および
(C) 式：−ＳｉＲ⁶₃（Ｒ⁶ は独立に炭素原子数１〜８のアルキル基またはアルコキシ基である）で表されるトリオルガノシリル基を有するイソシアヌレート化合物
（更に、好ましくは(D) チタネート化合物およびチタンキレート化合物より成る群から選ばれる少なくとも一種のチタン含有有機化合物）
を含有する放射線硬化性シリコーンゴム組成物に放射線を照射して得られたシリコーンゴム硬化物で封止又はコーティングされた電子部品、および該組成物でコーティング又はポッティングした電子部品に放射線を照射して該組成物を硬化させることを特徴とする、電子部品の封止又はコーティング方法。 （もっと読む）

本発明は、ジシリロキサン（disilyloxane）単位を含むシリコーン樹脂、シリコーン樹脂を含有するシリコーン組成物、及び、シリコーン樹脂の硬化生成物または酸化生成物からなる被覆基板に関する。前記シリコーン樹脂は、例えば、式：［Ｏ_{（３−ａ）／２}Ｒ^１_ａＳｉ−ＳｉＲ^１_ｂＯ_{（３−ｂ）／２}］_ｖ（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）_ｗ（Ｒ^１_２ＳｉＯ_２／２）_ｘ（Ｒ^１ＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ（ここで、各Ｒ^１は独立して−Ｈ、ヒドロカルビルまたは置換ヒドロカルビルであり；ａは０、１、または２であり；ｂは０、１、２、または３であり；０．０１≦ｖ＜０．３、ｗは０から０．８までであり；ｘは０から０．９９までであり；ｙは０から０．９９までであり；ｚは０から０．９９までであり；およびｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）を有する。 （もっと読む）

本発明は、カチオン重合性有機樹脂、カチオン光開始剤、少なくとも１つの加水分解性シラン化合物の加水分解物及び／又は縮合物、及び無機ナノ粒子を含む複合組成物を提供する。複合組成物は、特にフォトリソグラフィによる、パターン化コーティングを有する基体又はパターン化成形品の調製に好適である。得られるマイクロパターンは、高形状安定性及び優れた弾性率等の特性の改善を示す。 （もっと読む）

【課題】電子機器及び電子機器などの信頼性を低下させることのないシリコーンオリゴマーの製造法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン又はアルコキシ基を有するシランカップリング剤を固体酸触媒の存在下、アルコキシ基に対して０．１５〜０．５当量の水と反応させ、反応後、該固体酸触媒を除去することを特徴とするシリコーンオリゴマーの製造法。 （もっと読む）

【課題】従来のシルセスキオキサン骨格を有する酸無水物は、分子中にフレキシブルなメチレン結合を多数有するため、ガラス転移点や熱分解温度が低く、剛直で耐熱性に優れたかご型ケイ素骨格の特性を十分に発揮させるには至らなかった。
【解決手段】式（１）で示される酸無水物。ＸおよびＹはアルキル、シクロアルキル、アリールおよびアリールアルキルから独立して選択される基であり、Ｚは３価の脂環式基、または酸無水物基と共に環を形成する３価の飽和脂肪族基である。

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【課題】光加工プロセスに用い、光硬化性と耐光性のある感光性重合体組成物の提供。
【解決手段】下記式の化合物を用いて得られるかご型ケイ素化合物、金属錯体、および有機溶媒を配合して、感光性重合体組成物を得る。
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銅インジウム二セレン化物(CIS)をベースとする光起電デバイスが、銅、インジウムおよびセレンを含むCISをベースとする太陽光吸収体層を備える。このCISをベースとする光起電デバイスはさらに、シリコーン組成物から形成されるシリコーン層と、金属箔層とを備える基板とを備える。この基板は、シリコーン層および金属箔層の存在により、可撓性であると共に、デバイスの最大効率が得られるよう500℃を超えるアニール温度に十分に耐えることができる。
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【課題】機械的特性、熱的特性及び他の材料への密着性の経時劣化が極めて少ない硬化物を形成し得うる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂組成物に好適に用いられるポリシロキサン複合架橋粒子（Ｂ）は、架橋粒子（Ａ）中にポリシロキサンを含む。また、ポリシロキサン複合架橋粒子（Ｂ）は、水系分散媒中に分散された架橋粒子（Ａ）に、下記平均組成式（１）で表されるオルガノシロキサンを吸収させ、次いで、該オルガノシロキサンを縮合させて得られるポリシロキサンを、架橋粒子（Ａ）に複合することにより製造される。(Ｒ¹)_aＳｉＯ_b(ＯＲ²)_c （１）（式中、Ｒ¹は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ²は炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜４のアシル基または水素原子を表し、ａ〜ｃは、ａ＋２ｂ＋ｃ＝４、０≦ａ＜４、０≦ｂ≦１、および０≦ｃ≦４を満たす。） （もっと読む）

ヘテロアリールの単位およびＳｉ、Ｓｎ、ＧｅまたはＰｂの単位を含む前駆体ポリマ、これらの前駆体ポリマを製造する方法、導電性ポリマを調製するためにこれらの前駆体ポリマを利用する用途が本明細書中に開示されている。 （もっと読む）

【課題】飽和吸水率が極めて低く、気密性能を有し、耐熱性、化学的耐久性及び接着性が高く、低融点で透明な材料はなかった。
【解決手段】溶融性を有する原材料の濃縮、溶融後に減圧加熱処理を行い、さらに３００℃以上で高温熱処理する有機無機ハイブリッドガラス状物質の製造方法。溶融性を有する原材料はフェニル基およびＤユニットを含み、高温熱処理は３００℃以上５５０℃以下で行う特徴を有す。さらに、飽和吸水率が０．１重量％以下である有機無機ハイブリッドガラス状物質。さらに、吸水による膨張率および屈折率の変化量がそれぞれ０．１％以下、０．０００３０以下である有機無機ハイブリッドガラス状物質。軟化温度が５０℃〜３５０℃、溶融性を有し、１１００ｎｍでの光透過率を基準としたシラノール基の吸収による光透過の低下率が１０％以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】粗大粒子が少なく、かつ、硬化性が良好なポリカルボシラン、前記ポリカルボシランを含む塗布用シリカ系組成物、および前記塗布用シリカ系組成物を用いて形成されたシリカ系膜を提供する。
【解決手段】ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有するポリマーで、重量平均分子量が３００〜１，０００，０００であり、有機溶媒に可溶であるポリカルボシラン。該ポリカルボシランおよび有機溶剤を含有する塗布用シリカ系組成物、並びに、該塗布用シリカ系組成物から形成したシリカ系膜。 （もっと読む）

【課題】粗大粒子が少なく、かつ、硬化性が良好なポリカルボシランおよびその製造方法、前記ポリカルボシランを含む塗布用シリカ系組成物、および前記塗布用シリカ系組成物を用いて形成されたシリカ系膜を提供する。
【解決手段】ポリカルボシランの製造方法は、ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有する原料ポリマーを、有機溶剤中で塩基性触媒の存在下でアルコールと反応させた後、水と反応させる工程により製造する。 （もっと読む）

【課題】低照度および少エネルギー量の放射線、特にUV-LED光源から発生する紫外線の照射で容易かつ良好に硬化し、硬化後、速やかに各種基材に対する良好な接着性を示し、かつ過酷な条件下でも基材の防食効果に優れた硬化被膜を与える放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)複数個（２〜９個）の（メタ）アクリロイル基を有するケイ素含有基を分子鎖両末端におのおの３個ずつ有する特定のオルガノポリシロキサン（即ち、１分子中に１２〜５４個の（メタ）アクリロイル基を有する特定のオルガノポリシロキサン）、および(B)放射線増感剤を含有する放射線硬化性シリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン、リン、窒素等の原子を実質的に含有せず、高い難燃化効果を広い成形条件で安定的に発現するポリシロキサン化合物、及びこれを用いて難燃化された難燃性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】重量平均分子量が３００，０００以上であり、少なくともＳｉＯ_４／２単位を８５モル％以上含むポリシロキサン化合物であって、反応温度２０乃至７０℃、酸触媒量０．０５乃至１．５重量％の条件により、水系で乳化剤を用いて体積平均粒子径が０．０１〜５μｍの粒子状に合成されることを特徴とする、粒子状ポリシロキサン化合物、並びにそれを含有する難燃性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン、リン、窒素等の原子を実質的に含有せず、極めて高い難燃化効果を発現する難燃剤、及びこれを用いて難燃化された難燃性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ＳｉＸ_４単量体および／またはその部分加水分解縮合物（Ｘはハロゲン、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基から選ばれる置換基を示す。）とＲ_３ＳｉＸ単量体（式中、ＲはＳｉに結合可能な有機基、水素基から選ばれる置換基を示し、複数のＲは同一であっても異なっていても良い。Ｘはハロゲン、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基から選ばれる置換基を示す。）を必須原料として重合して得られるオルガノポリシロキサン化合物であって、予めＲ_３ＳｉＸ単量体がＳｉＸ_４単量体および／またはその部分加水分解縮合物中のケイ素原子１モルに対して１／１００モル以上存在する条件で重合して得られるオルガノポリシロキサン化合物を含有することを特徴とする難燃剤、該難燃剤を含有する難燃性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）で示される環状カーボネート変性シロキサン。Ｒ¹_aＡ_bＳｉＯ_(4-a-b)/2（１）（式中、Ｒ¹は水酸基、及びハロゲン原子に置換されていてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ置換アルキル基、カルボキシル置換アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基から選択される同一もしくは異種の一価の基であって、Ａは下記一般式（２）で示される環状カーボネート基。ａ、ｂは、それぞれ１．０≦ａ≦２．５、０．００１≦ｂ≦１．５の正数、ａ＋ｂは、１．００１≦ａ＋ｂ≦３。）


【効果】環状カーボネート変性シロキサンを含有する非水電解液を使用した電池は優れた温度特性及びサイクル特性を有する。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜形成用組成物に関し、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物を含む膜形成用組成物であって，該脂環式炭化水素構造とＳｉ原子を有する化合物が，粒径２ｎｍ〜１５ｎｍの粒子形状であることを特徴とする膜形成用組成物。 （もっと読む）

シリコーン系液晶またはベシクルが、まず、（Ａ）三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン；および、（Ｂ）モノ−アルケニルポリエーテルを、白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）が形成されるまで反応させる。ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）を、ついで、（Ｄ）不飽和炭化水素、たとえば、α，ω−ジエン；および、（Ｅ）水を、白金触媒の存在下、シリコーン系液晶またはベシクルが形成されるまで反応させる。シリコーン系液晶またはベシクルはまた、硬質な液晶ゲルまたはベシクルペーストが形成されるまで、加熱することも可能である。 （もっと読む）

ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）若しくはポリヘドラルオリゴメリックシリケート（ＰＯＳ）のための合成プロセスは、オレフィン基とアルキル若しくは芳香族基両方を含むシラノール及びシロキサイド分子を製造する。オレフィン担持ＰＯＳＳシラノール/シロキサイドは、更なるシラノール/シロキサイドを誘導する能力を保持しつつ、種々の化学物質に誘導体化される。 （もっと読む）

本発明は、強化シリコーン樹脂フィルムの製造方法であって、シリコーン樹脂を含むフリーラジカル硬化性シリコーン組成物中に繊維強化材を含浸させる工程と、この含浸繊維強化材中のシリコーン樹脂を硬化させる工程とを含む方法を提供する。この場合において、前記強化シリコーン樹脂フィルムは、10重量％〜99重量％の硬化シリコーン樹脂を含み、かつ、厚さが15μm〜500μmである。さらに、本方法によって製造された強化シリコーン樹脂フィルムを提供する。 （もっと読む）