本発明はアミノ基を有するオルガノポリシロキサンの製法に関し、該方法は（A）平衡化触媒の存在で、末端にSiC−結合アミノ基を有する実質的に線状のオルガノポリシロキサンと、末端にSi−結合ヒドロキシル基を有する実質的に線状のオルガノポリシロキサン及び／又はシクロシロキサンの平衡化により得られる、アミノ基とSi−結合ヒドロキシル基を有する有機ケイ素化合物と、式（IV）のシラザン（B）を反応させることを特徴とする（式IV中の基と係数は請求項１に記載の意味を有する）。
（もっと読む）

【課題】高温で長時間使用した場合にもコントラスト低下が小さい、耐熱性に優れたＳＰＤが得られる、偏光粒子を分散させるための分散樹脂組成物を提供する。前記分散樹脂組成物を含有する、コントラストの耐熱性低下が小さいＳＰＤが得られる硬化性組成物及びＳＰＤ用フィルムを提供する。
【解決手段】炭素原子数８〜１８のモノアルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（Ａ）とメタクリロイル基を有するｌｏｇＰ＝−５〜０の重合性モノマー（Ｂ）との共重合体（Ｘ）とを含有してなる懸濁粒子デバイス用分散樹脂組成物、（メタ）アクリロイル基を含有するシリコーン樹脂、偏光性粒子及び前記の懸濁粒子デバイス用分散樹脂組成物を含有する懸濁粒子デバイス用硬化性組成物、これら懸濁粒子デバイス用分散樹脂組成物または懸濁粒子デバイス用硬化性組成物を用いた懸濁粒子デバイス用フィルム。 （もっと読む）

【課題】シルセスキオキサン骨格をケイ素系重合体の主鎖に含み、かつ耐熱性に優れるシリコーン膜を提供する。
【解決手段】
シルセスキオキサンを主鎖に含む特定のケイ素化合物と、このケイ素化合物中の水酸基と反応する四つ以上の架橋性官能基を有する架橋性ケイ素化合物とを含有する架橋性組成物を、例えば架橋性組成物の膜において前記水酸基と架橋性ケイ素化合物とを反応させて硬化させ、シリコーン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】有機媒体への分散性に優れ、長期に分散安定性を保持できる表面改質された無機化合物微粒子を提供すること。
【解決手段】本発明に係る表面改質された無機化合物微粒子は、無機化合物微粒子の表面の金属原子に、酸素原子を介して、下記一般式（１）：


｛式中、Ｒ¹〜Ｒ⁵は、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、有機シリル基又は有機シロキシ基を示し、Ｒ¹〜Ｒ⁵は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁶は２価の連結基を示し、ａ≧１であり、そしてＳｉ^*で表されるケイ素原子の３つの結合手の内の少なくとも１つは、酸素原子を介して無機化合物微粒子の表面の金属原子と結合している。｝で表される基が結合している。 （もっと読む）

【課題】 ポリシロキサンはＳｉ−Ｏ結合に起因する高透明性及び高耐熱性を活かし、更に高屈折率を示す臭素化又は塩素化ベンゼンを有機基として持った加水分解性シランを提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


〔式（１）中、Ｒ^１は式（２）：
【化２】


（式（２）中、Ｒ^４〜Ｒ^８は臭素原子、塩素原子、水素原子、又は１価の有機基である。）で表され、Ｒ^２は１価の有機基であり、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれＳｉ−Ｃ結合でケイ素原子と結合している。Ｒ^３はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示す。ａは１〜２の整数を、ｂは０〜１の整数を、ａ＋ｂは１〜２の整数を示す。〕で示される加水分解性シランであり、その加水分解物、又はその加水分解縮合物を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】成型加工性、透明性、耐熱性、耐光性に優れ、さらには、耐クラック性、耐冷熱衝撃性に優れる、特には液状の多面体構造ポリシロキサンを用いることを特徴とするポリシロキサン系組成物と硬化物を提供する。
【解決手段】アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）に対して、前記（ａ）成分とヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する化合物（ｂ）を変性して得られた多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）、および、シリコーン系粒子（Ｂ）、を必須成分としてなるポリシロキサン系組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）水酸基又は加水分解性基を有するジオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）下記一般式（１）


（Ｒ、Ｒ¹及びＲ²は一価炭化水素基で、ａは２又は３。）
で表されるシリルケテンアセタール型化合物、その部分加水分解縮合物又はそれらの混合物、
（Ｃ）微粉末シリカ、煙霧質シリカ、シリカエアロゲル、沈降シリカ、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、カーボン、及びこれらの表面をシラン処理したものから選ばれる１種又は２種以上の充填剤、
（Ｄ）有機金属触媒
を含有してなる室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
【効果】本発明の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、特に耐湿性、耐水性、耐寒性に優れた硬化物を与え、更に例えば６ヶ月間の貯蔵後でも、空気中に曝すと速やかに硬化して、優れた上記物性を示す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、硬化反応を円滑に行うことが出来、未反応や低分子シロキサンが揮発することがないか、揮発量が極めて微量となる、ハイブリッド組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応によって得られるハイブリッド組成物により、低分子シロキサンの残留する量が極めて少ない、あるいは全く含まないハイブリッド組成物を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】既知量の揮発成分を含有した不揮発性液体又は固体を密閉空間内に設置することを特徴とする前記密閉空間内における揮発成分の蒸気濃度のコントロール方法。
【効果】本発明の低分子シロキサン等の揮発成分濃度のコントロール方法は、特殊な装置を用いることなく、容易に一定濃度の低分子シロキサン等の揮発成分濃度を作り出すことができる。また、不揮発性液体又は固体中の低分子シロキサン等の揮発成分濃度を測定することにより、再度、低分子シロキサン等の揮発成分を添加して濃度調整を行い再利用も可能であることから、余分な廃棄物も出さない優れた方法である。 （もっと読む）

【課題】トランスファー成型性などの成型加工性が良好であり、高い耐光性および耐熱性を有する半導体のパッケージ用硬化性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、およびヒドロシリル化触媒を必須成分として含有する樹脂組成物を用いて半導体のパッケージとして用いることができる。 （もっと読む）

【課題】汚れが付き難い、目立ち難い、及び、拭き取り易いという３つの要求のバランスが取れた表面を与える表面処理剤を提供することを目的とする。
【解決手段】下記式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル残基含有ポリオルガノシロキサン及びそれを含む表面処理剤である。



［式（１）中、Ｒｆは２価のパーフルオロポリエーテル残基、ＱはＲｆ基とＺとを連結する２価の基、Ｚはシロキサン結合を３個以上有する３〜１１価のポリオルガノシロキサン残基、Ｒは炭素数８〜４０の１価の有機基、ｎは１〜８の整数、Ａは下記式（２）に示した基であり、ｋは１〜９の整数、但し、ｎ＋ｋ＝（Ｚの価数−１）である。



（式（２）中、Ｒ’は炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｂは２〜１０の整数である。）］ （もっと読む）

【課題】高い力学物性と低い水膨潤性を有する新規な有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法を提供する。
【解決手段】水溶性有機高分子（Ａ）と、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）と、シロキサンネットワーク（Ｃ）とが複合化して形成された三次元網目の中に水（Ｄ）が包含されている有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法であって、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）と水（Ｄ）との共存下に、前記水溶性有機高分子化合物（Ａ）の原料モノマー（Ａ’）の重合と、シリコンアルコキシド（Ｃ’）の加水分解及び重縮合とを並行して行わせることを特徴とする有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】厚さが１００μｍ程度又は１００μｍ以下であって、熱伝導性、耐熱性、絶縁性及び柔軟性に優れる熱伝導シートを提供する。
【解決手段】シリコーン系共重合体と熱伝導性フィラーとを含有する熱伝導シートであって、前記シリコーン系共重合体は、シロキサン構造からなる繰り返し単位と、極性基を有する構造からなる繰り返し単位とを有し、かつ、重量平均分子量が１万〜１００万であり、
前記熱伝導性フィラーの含有量が３０〜９０体積％である熱伝導シートである。 （もっと読む）

【課題】長期間にわたる過酷な自然環境下においても、優れた水蒸気バリア性能を発現・維持することが可能な、耐候性および耐湿性に優れた太陽電池バックシート用積層体を提供すること。
また、前記太陽電池バックシート用積層体を有する太陽電池バックシート及び前記太陽電池バックシートを備える太陽電池モジュールを提供すること。
【解決手段】塩化ビニリデン系樹脂層と、前記塩化ビニリデン系樹脂層上に積層されるシリコーン変性アクリル系樹脂層と、を有する太陽電池バックシート用積層体。 （もっと読む）

【課題】透過特性に優れ、かつ膜応力が小さくクラックの発生がないケイ素化合物膜を提供する。
【解決手段】第一段階で、ガラス基板１上に、アルキル基がＳｉに結合されたシロキサン骨格の低分子材料に溶媒，シリカ粒子を混合したペースト材料２ａをダイコートを用いて塗布する。塗布後、低沸点の溶媒を揮発させるために、６０〜１００℃の範囲で大気中にて乾燥し、その後、２００℃〜３００℃の範囲で大気雰囲気中において熱処理によって硬化反応させ、酸化ケイ素を主体とする膜２ｂを形成する。第二段階では、含まれるシリカ粒子が溶媒を除いた固形分の体積比で１５％含有するペースト材料３ａを、第一段階で形成した膜２ｂ表面上に塗布する。塗布量は硬化後の膜３ｂの膜厚が約０．５μｍとなるように塗布し、乾燥，熱硬化処理を行い、前記膜２ｂを酸化ケイ素を主体とした膜４とする。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂マトリックスをポリカーボネート樹脂と他樹脂のアロイとする手法を採用することなしに、高流動性、良好な表面外観性を有し、難燃剤を含有しなくとも、良好な難燃性を有し、成形品の変形が小さく、耐熱性、剛性、耐衝撃特性及び低異方性に優れたガラス繊維強化難燃性ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形品を提供すること。
【解決手段】ポリカーボネート共重合体を含有するポリカーボネート樹脂４０〜９９質量部及びガラス繊維（Ｂ成分）１〜６０質量部の合計１００質量部に対し、有機スルホン酸アルカリ（土類）金属塩０．００５〜１質量部及び反応性官能基を有するシリコーン化合物０．０１〜３．０質量部を含むガラス繊維強化難燃性ポリカーボネート樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】未硬化時は固体又は半固体で硬化後は可撓性に優れ、表面のタック性が少ない硬質樹脂硬化物を形成する付加硬化型シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｒ¹ＳｉＯ_1.5単位、Ｒ²₂ＳｉＯ単位、及びＲ³_aＲ⁴_bＳｉＯ_(4-a-b)/2単位からなり（Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は独立に水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、Ｒ⁴はビニル基、アリル基又は水素原子を示し、ａは０、１又は２で、ｂは１又は２で、かつａ＋ｂは２又は３である。）、
上記Ｒ²₂ＳｉＯ単位の少なくとも一部は連続して繰り返してなり、その繰り返し数が５〜３００個である構造を含む分子中にケイ素原子結合アルケニル基及びヒドロシリル基を有する樹脂構造のオルガノポリシロキサン、並びに、
（B）白金族金属系触媒
を含有してなる付加硬化型シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】皮膜形成剤や樹脂等の様々な熱又は光硬化性組成物に添加して用いられ、該組成物への相溶性が高く、かつ該組成物の硬化物が、撥水・防汚性、すべり性等のシロキサン本来の特性を充分に発揮させる、（メタ）アクリル変性シロキサン化合物及びそれを含有してなる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】シロキサンの片末端を少なくとも１つの（メタ）アクリル基で変性した（メタ）アクリル変性シロキサン化合物であって、前記シロキサンと前記（メタ）アクリル基とのスペーサーが、エーテル結合を少なくとも３つ有する直鎖、又はエーテル結合を少なくとも１つ有する分岐構造である（メタ）アクリル変性シロキサン化合物。 （もっと読む）

【課題】 埋め込み性に優れ、かつ凹凸の緩和にも優れ、機械強度の高い電子部品を得るための塗布型シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法及びシリカ系被膜を有する電子部品を提供する。
【解決手段】 （ａ）ＳｉＸ_４（Ｘは、加水分解性基を示し、同一でも異なっていてもよい）を加水分解重縮合して得られるシロキサン樹脂、
（ｂ）熱分解又は揮発する熱分解揮発性化合物であって、ポリオキシプロピレン単位を有する化合物、
（ｃ）前記（ａ）及び（ｂ）成分を共に溶解できる溶媒
からなる塗布型シリカ系被膜形成用組成物であって、（ｂ）成分の配合割合が（ａ）成分のシロキサン樹脂重量に対して３〜１５重量％である塗布型シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法及びシリカ系被膜を有する電子部品。 （もっと読む）

【課題】イオン伝導物質として働くイオン化合物を提供する。
【解決手段】このイオン化合物においては、アニオン性の装填物が非局在化されている。化合物は、アミド又はその塩の一つを含んでおり、該アミド又は塩は、少なくとも１つのカチオン部分Ｍ^＋ｍと結合されたアニオン部分を全体的な電子的な中性を確保するに十分な数だけ含んでいる。化合物は、更に、ヒドロキソニウムとしてのＭ、ニトロソニウムＮＯ^＋、アンモニウム−ＮＨ_４^＋、イオン化ｍを有する金属カチオン、イオン化ｍを有する有機金属カチオン、あるいは、イオン化ｍを有する有機金属カチオンを含んでいる。アニオン部分は、組成式Ｒ_Ｆ−ＳＯ_ｘ−Ｎ−Ｚに一致し、Ｒ_Ｆは、過フッ化基であり、ｘは、１又は２であり、Ｚは、電子吸引性の置換基である。化合物は、イオン伝導物質、電子伝導物質、着色剤、及び、種々の化学反応の触媒として使用することができる。 （もっと読む）