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Fターム[4K001AA31]の内容

金属の製造又は精製 (22,607) | 目的金属 (6,463) | Zr (68)

Fターム[4K001AA31]に分類される特許

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【課題】CCIM法を用いて、健全な長尺の鋳塊を安定して製造することができる長尺鋳塊の溶解製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】溶解原料を、第1の水冷銅製るつぼ内に装入し、溶解して溶湯プールを形成させた後、溶湯プールの下部を高周波コイルによる誘導加熱領域外に引き抜いて凝固させた状態で、るつぼ底の下方への移動を停止し、更に溶解原料を第1の水冷銅製るつぼ内へ装入して溶解させた後、次の引き抜きを行って溶湯プールを凝固させるという工程を複数回繰り返す1番目の溶製操作と、1番目の溶製操作で得られた長尺の鋳塊を上下反転した状態で、第1の水冷銅製るつぼより内径が大きい第2の水冷銅製るつぼ内に装入し、溶解後に凝固させる2番目の溶製操作を実施する。 (もっと読む)


【課題】真空アーク溶解炉を用いた金属の溶解方法において、生産速度を落とすことなく、合金成分の偏析の少ない合金インゴットを溶解する方法およびそのための装置を提供する。
【解決手段】消耗電極と鋳型との間にアークを発生させ、消耗電極を溶解して鋳型内にインゴットを形成する金属の真空アーク溶解方法であって、鋳型内に溶製されたインゴットと鋳型との間の空間にヘリウムガスを流しつつ溶解操業を行う。 (もっと読む)


【課題】複数の金属製造用還元炉を冷却する際に発生する廃熱のうち、高温にある廃熱を効率よく回収する方法の提供を目的としている。
【解決手段】金属塩化物を還元して金属を製造する複数の還元炉で発生する廃熱の回収方法であって、上記複数の還元炉から発生する廃熱を統合して再利用することを特徴とする金属製造用還元炉の廃熱回収方法。本発明では、還元炉の運転工程が、昇温工程、定常運転工程および冷却工程からなるバッチ方式で運転されており、定常運転工程または冷却工程にある還元炉のうち、廃熱回収下限温度以上の廃熱のみを統合して利用する。 (もっと読む)


【課題】工程数が少なく、二次廃棄物の発生量が少ない方法で、ハフニウムを含むジルコニウム化合物から金属ジルコニウムを得る製造方法を提供する。
【解決手段】金属ジルコニウムの製造方法は、ジルコニウム酸塩化物およびハフニウム酸塩化物を含む第1の物質からハフニウム酸塩化物を分離することにより、ジルコニウム酸塩化物の含有率が高くなった第2の物質を得る分離工程と、前記第2の物質を仮焼して、ジルコニウム酸塩化物およびジルコニウム酸化物の少なくともいずれかを含む第3の物質を得る仮焼工程と、前記第3の物質を陰極57に接触させた状態で溶融塩13中に保持し、陽極56との間に電圧を印加して直接還元することにより金属ジルコニウムを得る直接還元工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本願発明は、電子ビームを用いた高融点金属インゴットの製造方法であって、特に、鋳肌の優れた金属インゴットを効果的に溶製することができる溶解方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム溶解炉を構成する鋳型内に溶湯を供給して鋳型プールを形成しつつ、鋳型プールの底部近傍の冷却固化したインゴットを回転させながら引き抜く高融点金属インゴットの製造方法であって、インゴットの1回転当たりの引き抜き距離が、鋳型プールの深さよりも小さいことを特徴とする。また、鋳型プールのうち、鋳型に隣接した鋳型プールの周縁部に沿って電子ビームを照射することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属インゴット中のHDIおよびLDI等の不純物が極めて低いレベルに抑制された優れた品質のインゴットを製造する。
【解決手段】原料供給手段と、電子ビーム照射手段と、供給された金属原料を溶解保持するハースと、溶湯を冷却してインゴットを得る鋳型を備えた金属の溶解装置およびこの装置を用いる金属の溶解方法であって、ハース内の上流から下流に向けて形成されている溶湯の水平方向の溶湯流れに対して鉛直方向の上昇流を形成させた後、下降流を形成させる。 (もっと読む)


【課題】高融点金属の製造用の反応容器からの不純物金属による高融点金属の汚染を効果的に抑制することができる反応容器、およびその容器を用いた高融点金属の製造方法を提供する。
【解決手段】高融点金属の塩化物を還元して高融点金属を製造する反応容器において、反応容器の内壁表面に、製造される高融点金属と同じ金属と、反応容器を構成する金属との合金層を形成した高融点金属製造用反応容器。また、この高融点金属製造用反応容器に高融点金属の塩化物を装入し、この塩化物を還元することを特徴とする高融点金属の製造方法。 (もっと読む)


【課題】電子ビーム溶解中に生起される不純物混入を効果的に回避する装置構成を有する電子ビーム溶解炉およびこの溶解炉を用いた金属の溶解方法を提供する。
【解決手段】原料を供給する原料供給フィーダーと、原料を溶湯として保持するハースと、ハースの下流側に設けられた鋳型と、溶解炉本体の天井壁に設けられハースおよび鋳型内の原料を溶融させる電子銃とを備えた金属の電子ビーム溶解炉において、平面配置において、ハース領域、鋳型領域および原料供給フィーダー領域外に電子銃を配置する。また、この電子ビーム溶解炉を用いて、原料金属の溶解およびインゴットの製造を行う金属の電子ビーム溶解方法。 (もっと読む)


【課題】半導体の動作機能を保証するために障害となる不純物を低減させた高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉を、安全かつ安価に得ることのできる高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法を提供する。
【解決手段】ジルコニウム若しくはハフニウム原料を電子ビーム溶解して高純度化した後インゴットに鋳造する工程、得られた高純度ジルコニウム若しくはハフニウムインゴット又は切粉等を水素雰囲気中で500°C以上に加熱して水素化する工程、該インゴットを冷却し水素化ジルコニウム若しくはハフニウム粉をインゴットから剥落させて水素化高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉を得る工程、及び水素化高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の水素を除去する工程からなることを特徴とする高純度ジルコニウム若しくはハフニウム粉の製造方法。 (もっと読む)


金属および合金を生産する方法であって、当該方法は、少なくとも1つの金属酸化物を含む原料、ならびに炭素系還元剤および硬化結合剤を含む集塊物を当該金属酸化物の当該金属への還元をもたらすために加熱する工程を含み、各集塊物は少なくとも1つの成形された開口チャネルを有し、かつ、見かけ上の密度が当該チャネルのない同一の集塊物の見かけ上の密度の99%を超えない方法である。 (もっと読む)


【課題】従来のレアメタル、白金系金属抽出剤にない全く新しい構造を有し、優れた抽出性能を有するレアメタル、白金系金属抽出剤及びそれを用いたレアメタル、白金系金属抽出方法を提供することにある。
【解決手段】本発明におけるレアメタル、白金系金属抽出剤は、化1の一般式(1)
【化1】


の環状フェノール硫化物を溶解させた溶液に数種のレアメタル、白金系金属が溶解した溶液を接触させることにより、レアメタル、白金系金属が環状フェノール硫化物溶液に移行し、レアメタル、白金系金属が抽出される。 (もっと読む)


【課題】生産性に優れ、表面状態および平坦度の制御が容易であり、板厚精度を向上させたアルミニウム合金厚板の製造方法およびアルミニウム合金厚板を提供する。
【解決手段】Mgを所定量含有し、さらに、Si、Fe、Cu、Mn、Cr、Zn、Ti、Zrのうち少なくとも1種以上を所定量含有し、かつ、残部がAlおよび不可避的不純物からなるアルミニウム合金を溶解する溶解工程(S1)と、溶解されたアルミニウム合金から水素ガスを除去する脱水素ガス工程(S2)と、水素ガスを除去したアルミニウム合金から介在物を除去するろ過工程(S3)と、介在物を除去したアルミニウム合金を鋳造して鋳塊を製造する鋳造工程(S4)と、鋳塊を所定厚さにスライスするスライス工程(S5)と、スライスされたアルミニウム合金厚板を熱処理する熱処理工程(S6)と、をこの順に行うことを特徴とする。 (もっと読む)


電気伝導性金属材料を融解するための装置は、真空室と、該真空室に配設された炉床と、を含む。少なくとも1つのワイヤ放電イオンプラズマ電子エミッタが、該真空室内、またはその近傍に配置され、広域電子場が該真空室に向くように配設され、該広域電子場は、該電気伝導性金属材料をその融解温度まで加熱するのに十分なエネルギーを有する。該装置は、さらに、型および噴霧装置のうち少なくとも1つを含み、それは該真空室と連通し、該炉床から融解した材料を受け取るように配設される。該炉室内の圧力は、揮発性元素の蒸発を減少させるように、5.3Paを超えて維持されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 不純物金属含有量の極めて少ない高純度活性金属を工業的に効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 金属a又は金属a化合物と、不純物金属b又は不純物金属b化合物とを含む原料金属をハロゲンと接触させ、金属aの飽和ハロゲン化物と不純物金属bの飽和ハロゲン化物の混合飽和ハロゲン化物に変化させる第1の工程Aと、ハロゲンとの親和力において金属aとハロゲンとの親和力と同じかまたは弱くかつ不純物金属bとハロゲンとの親和力より大きい金属c材料と、混合飽和ハロゲン化物とを接触させ、不純物金属bの飽和ハロゲン化物を不純物金属bの不飽和ハロゲン化物に変化させる第1の工程Bと、金属aの飽和ハロゲン化物と不純物金属bの不飽和ハロゲン化物の混合物から不純物金属bの不飽和ハロゲン化物を除去する第2の工程と、金属aの飽和ハロゲン化物を還元して精製金属とする第3の工程とを有する高純度金属の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、媒体中に含まれる原子価が3以上の高原子価金属イオンを酸性下で効率良く選択的に捕集することができる捕集剤(キレート樹脂)を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明者らは、ヒドロキサム酸基を有する化合物を導入した担体を捕集剤として用いることで、媒体中に含まれる高原子価金属イオンを酸性下で容易に捕集できることを見出した。 (もっと読む)


【課題】本発明は、酸化チタンを用いて自動車等の排気ガスや排気粒子物質又は電気・電子機器廃棄物の分解処理法を提供することを課題とする。さらには、該処理方法による排気物質中の微量物質又は電気・電子機器廃棄物の希少金属の回収方法を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも粒子状物質(PM)を含む排気物質又は希少金属含む電気・電子機器廃棄物を、300〜600℃の範囲で加熱した酸化チタンと接触させて処理することを特徴とする処理方法による。また、排気物質又は電気・電子機器廃棄物を酸化チタンに接触させることで、排気物質中の微量物質又は電気・電子機器廃棄物中の希少金属を酸化チタンに吸着させて、回収することができる。 (もっと読む)


【課題】半導体の動作機能を保証するために障害となる不純物を低減する、すなわち特にNa、Kなどのアルカリ金属元素、U、Thなどの放射性元素、Fe、Ni、Co、Cr、Cu、Mo,Ta、Vなどの遷移金属若しくは重金属又は高融点金属元素、さらにはC、O等のガス成分の含有量を極めて低減させた高純度ジルコニウム又はハフニウム及びこれらを安価に得ることのできる高純度ジルコニウム又はハフニウムの製造方法の提供。
【解決手段】酸素、炭素などのガス成分を除く不純物含有量が100ppm未満であることを特徴とする高純度ジルコニウム。 (もっと読む)


本発明は、1又はそれ以上の誘導コイルに囲まれた反応容器内に不活性ガスを供給する工程と、反応容器に還元剤を設ける工程と、還元剤に第4B族金属の原料を加える工程と、1又はそれ以上の誘導コイルの少なくとも1つに撹拌交流電流を供給して、反応容器内で還元剤及び原料の循環を誘導する工程と、第4B族金属の原料を還元して、1又はそれ以上の副生成物を伴った中間型を形成する工程とを含む第4B族金属の中間スポンジ型の製造方法に係る。
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目的とする純金属 M 又は純金属合金 MxNy を製造する方法で、その方法はグラファイトで作られているアノード、あるいは、目的としている金属の金属酸化物と炭素とのコンポジットで作られているアノードを使用して、アルカリ金属ハライド又はアルカリ土類金属ハライド AX 又は AX2 の溶融塩電解質を電気分解し、カソードの所でアルカリ金属又はアルカリ土類金属 A を放出せしめ、且つ、アノードの所で発生期の塩素ガスを放出せしめ、それにより、目的とする金属のハロゲン化物 MXn 及び/又は NXn を生成せしめ、カソードで得られたアルカリ金属又はアルカリ土類金属 A でもって、金属ハライド MXn 及び/又はNXn を、別々にあるいは一緒にのいずれかで、金属熱還元せしめて、目的としている金属 M 又は金属合金 MxNy を粒子の形態で製造することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】Mg、Ti、Zr、Cr、Al等の活性金属を含有する銅合金を大気中において溶製する場合、これらの活性金属が酸化消耗するのをきわめて効果的かつ安定的に抑制し、その添加歩留まりを十分に向上することのできる炭素質還元剤の提供。
【解決手段】大気中で活性金属含有銅合金を溶製する際に該活性金属含有銅合金の溶湯表面に散布上置きして使用される炭素質還元剤において、前記炭素質還元剤の固定炭素の含有量が90%以上であり且つ灰分の含有量が1%未満であることを特徴とする活性金属含有銅合金溶製用炭素質還元剤及びこの炭素質還元剤を用いた活性金属含有銅合金の溶製法。 (もっと読む)


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