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Fターム[4K022DB24]の内容

化学的被覆 (24,530) | 被覆手段 (3,746) | 加熱、冷却 (175)

Fターム[4K022DB24]に分類される特許

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【課題】耐酸化性、及び耐エロージョン性の2つの特性を同時に向上させることができ、かつ、製造工程が簡易で製造コストが安価な蒸気タービン翼及び蒸気タービンを提供する。
【解決手段】蒸気タービン3は、タービンロータ4と、タービンロータ4に植設される動翼5と、動翼5の上流側に配設される静翼6と、静翼6を支持するとともにタービンロータ4、動翼5、静翼6を内包するタービンケーシング13とを具備し、動翼5と静翼6との対により一つの段落7を形成すると共にタービンロータ4の軸方向に複数の段落7を並べて蒸気通路8を形成した構成である。静翼6表面、動翼5表面の少なくとも一部に非晶質セラミックマトリックス中にビッカース硬度が800以上の結晶質からなる硬質粒子が分散して存在するコーティング皮膜が形成されている。 (もっと読む)


本発明は、金属の複合的な支持要素を備えており、当該支持要素の外面がガラス質の保護被覆によって覆われている、調理用の複合的な調理器具に関する。また、本発明は当該調理器具の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】高原子価金属化合物から金属膜を直接製造することができる組成物、金属膜の製造方法、及び金属粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】銅、銀またはインジウムの高原子価化合物、直鎖、分岐または環状の炭素数1から18のアルコール類およびVIII族の金属触媒から成ることを特徴とする、銅、銀またはインジウムの金属膜製造用組成物を用いて被膜を形成し、次いで加熱還元することにより、銅、銀またはインジウムの金属膜を製造する。また、銅、銀またはインジウムの高原子価化合物かの代わりに、銅、銀またはインジウムの高原子価化合物からなる表層を有する銅、銀またはインジウムの金属粒子を用い、同様にして、銅、銀またはインジウムの金属膜を製造する。 (もっと読む)


ガラス基板を被覆する方法が記載される。被覆は、導電金属酸化物被覆であり、透明でもよい。導電薄膜で被覆されたガラス基板は、例えば、ディスプレイ装置、太陽電池用途および多くの他の急伸する産業および用途において使用できる。
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本発明は、チタン又はその他のバルブ金属基体に適用(塗布)される、スズ、ルテニウム、イリジウム、パラジウム及びニオブの酸化物を含有する触媒層を含む電極配合物に関する。タンタル、ニオブ又はビスマスのような他の元素の酸化物で改質された酸化チタンをベースにした保護層を前記基体と前記触媒層との間に間置してもよい。このようにして得られた電極は、塩素製造のための電解セルにおけるアノードとして使用するのに適切である。 (もっと読む)


【課題】光の照射のない状態においても長期にわたり親水性を有する膜を提供し、さらに空調機、吸収冷却器、冷凍機器、蒸散機器、熱交換器、ヒートパイプ、ヒートポンプ等の熱交換素子に好適な金属部材を提供することを課題とする。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられた親水性膜において、該親水性膜は膜中に分散されたフィロケイ酸塩を含む微粒子とバインダーから形成され、該バインダーが、前記微粒子同士、および、前記微粒子と基材とを接合していることを特徴とする親水性膜。 (もっと読む)


【課題】種々の部材の高性能化に寄与できる積層体を提供する。
【解決手段】ニッケル源である硝酸ニッケルを含有し、かつ、溶媒としてニッケル酸化物の単結晶2を形成可能な単結晶形成可能溶媒である水、メタノール、エタノールまたはアセトンとジケトン類またはケトエステル類とを含有するニッケル酸化物膜3形成用溶液を、ニッケル酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材1に接触させることにより、前記基材上にニッケル酸化物膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ナノメーターサイズの三次元連結孔を有する多孔質アルミニウム酸化物膜を有する積層体を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材上に形成され、平均細孔径500nm以下の三次元連結孔を有する多孔質アルミニウム酸化物膜と、を有することを特徴とする積層体を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、多孔質基材の孔部を金属酸化物で効率良く埋めることができ、表面平滑性および緻密性等に優れた金属酸化物膜を形成することができる積層体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した多孔質基材に噴射することにより、上記多孔質基材上に金属酸化物膜を形成する積層体の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液の噴射方向を、上記多孔質基材側に向け、かつ、上記多孔質基材表面の法線方向に対して傾けることを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】任意の基板上に任意の形状を有する、外観、デザイン性に優れたハーフミラーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るハーフミラーの製造方法は、3つ以上の反応基を有する付加重合性化合物と、酸性基を有する付加重合性化合物と、親水性官能基を有する付加重合性化合物と、を含有する下地組成物を、透明基板または透明フィルム上に塗布し、重合して、有機膜を形成する有機膜形成工程と、上記酸性基を金属(M1)塩にする金属塩生成工程と、上記金属(M1)イオンよりもイオン化傾向の低い金属(M2)イオンを含有する金属(M2)イオン水溶液で処理することによって、上記酸性基の金属(M1)塩を、金属(M2)塩とする金属固定工程と、上記金属(M2)イオンを還元して上記有機膜表面に金属膜を形成する還元工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 簡便で安価な塗布法によりルテニウム膜を形成するための組成物およびこの組成物を用いて塗布によりルテニウム膜を形成する方法の提供。
【解決手段】
テトラ(μ−トリフルオロアセタト)ジ(アセトン)ジルテニウム、テトラ(μ−ペンタフルオロプロピオナト)ジ(アセトン)ジルテニウムの如きルテニウム化合物と、溶媒とを含むことを特徴とするルテニウム膜形成用組成物、ならびに基体上に、該ルテニウム膜形成用組成物を塗布し、次いで加熱及び/又は光照射することにより、前記基体上にルテニウム膜を形成することを特徴とする、ルテニウム膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】金属粒子の表面がメソポーラス材料で被覆されている複合体を提供する。
【解決手段】界面活性剤を鋳型として用いて前記金属粒子の表面にメソポーラス材料を生成させる工程と、前記界面活性剤を溶媒抽出により除去する工程とを有する方法により、金属粒子の表面がメソポーラス材料で被覆されている複合体を製造する。この方法によれば、メソポーラス材料の孔が金属粒子の表面から略垂直な方向に貫通している複合体を好適に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】低過電圧で、塩素ガス中の酸素ガス濃度が低く、優れた長期耐久性を有する塩素発生用電極を提供すること。
【解決手段】本発明の塩素発生用電極は、導電性基材上に、酸化パラジウム(PdO)および白金からなる電極触媒被覆層を最表面に有する電極であって、該酸化パラジウムが白金を固溶していることを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】粉末支持体に炭素層を作製する方法は、水に85〜99.9重量%で親水性ポリマー(PH)を溶解し、ピロメリット酸(PMA)またはピロメリット酸二無水物(PMDA)を0.1〜15重量%で添加したのち、この混合物に粉末支持体を1〜99重量%で添加することを含む。懸濁液は濃縮乾燥され、生成された複合前駆体は300〜1500℃で熱分解処理される。 (もっと読む)


本発明の目的は、たとえば基材を無電解金属被覆するため、基材(ポリマー)に特定の物性、特に表面ナノ細孔質を与えることを可能とし、かつスルホクロム酸での酸洗いによる表面処理を完全に置き換える、表面処理プロセスを提供することである。この目的を達成するため、本発明の表面処理は、基材表面に対するハイブリッドUV/コロナ処理と、これに続く無電解金属被覆処理とを含む。本発明はまた、これらのプロセスを実行するための装置に関する。
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【課題】基板面内で均一な膜厚形成を実現すること
【解決手段】この処理液供給装置は、略水平に保持した基板の処理面にめっき液を吐出する供給孔を有するノズルと、所定の枚数の基板処理に必要な量のめっき液を収容し、収容しためっき液を所定の温度に調節する温度調節部と、ノズルおよび温度調節部の間に配設され、温度調節部により温度調節されためっき液を所定の温度に維持する保温部と、温度調節部により所定の温度に調節されためっき液を、保温部を介してノズルの供給孔に向けて送り出す送り出し機構とを具備する。 (もっと読む)


【課題】ホット・プレート状の基板加熱手段を利用して、基板面側から金属ナノ粒子分散液塗布膜を加熱処理する手法を適用して、下地層に対する優れた密着性と、高い導電性を有する金属ナノ粒子焼結体厚膜層を基板上に形成する方法の提供。
【解決手段】表面に塗布膜が描画された基板を、温度Tplateに加熱されたホット・プレート状の基板加熱手段上に配置し、基板加熱手段に接する基板裏面側から加熱を行い、
塗布膜の基板面側の温度:Tbottom(t)を、150℃〜250℃の範囲であって、塗布膜中に含まれる分散溶媒の沸点Tb-solventよりも低く選択される温度とし、
塗布膜の表面温度:Ttop(t)を、温度差ΔT(t)={Tbottom(t)−Ttop(t)}≧10℃となる範囲に維持して、該塗布膜に対する加熱処理を行って、含まれている金属ナノ粒子の低温焼結を起させる。 (もっと読む)


電解質基板上にゾルゲル由来の触媒薄膜を形成する方法は、カソード前駆体ゾルおよび/または複合カソードスラリーを形成し、前記カソード前駆体ゾルまたはスラリーを前記電解質上に沈着させ、前記沈着した膜を乾燥してグリーン膜を形成し、前記グリーン膜を加熱してゾルゲル由来の触媒薄膜を形成する、各工程を有してなる。固体酸化物燃料電池などの電気化学セルは、ゾルゲル由来の触媒薄膜を含みうる。
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【課題】余計なプロセスを省きながら形成可能な膜厚の自由度が高いパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】コロイドに微粒子を分散させた液体材料2を基板1に接触させ、基板1上にエネルギービーム7を照射することで液体材料2中の少なくとも一つの成分を基板1上に固定する際に、基板1の少なくとも一部が液体材料2に接触しておらず、かつその液体材料2に接触していない部分からエネルギービーム7を入射することを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、半導体デバイスの製造プロセス中のパターン化もしくは構造化されたSiO2層またはSiO2ラインの生成に有用であり、インクジェット処理での塗布に適した組成物に関する。また、本発明は、これらの新たな組成物を利用する、半導体デバイス製造の改良プロセスに関する。 (もっと読む)


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