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Fターム[4K022DB24]の内容

化学的被覆 (24,530) | 被覆手段 (3,746) | 加熱、冷却 (175)

Fターム[4K022DB24]に分類される特許

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【課題】無電解メッキ装置及び無電解メッキ方法を提供する。
【解決手段】メッキ槽110と、メッキ槽の底面に隣接するように配置される熱交換器140と、熱交換器140に隣接するように配置されてメッキ槽110の内部にメッキ液を供給する供給部130と、メッキ槽110の内部に配置されてメッキ対象物を収容するバスケット120a、120bを含む無電解メッキ装置は、熱交換器140をメッキ槽110の底に位置させ、メッキ液の噴射方向を熱交換器140に向くようにして、メッキ条件を均一化し、メッキ層の信頼性を向上させることができる。 (もっと読む)


本発明は導電膜形成のための銀ペーストに関するものであって、炭素数0〜12の脂肪酸銀0.1〜60重量%;銀粉末1〜80重量%;バインダー0.1〜15重量%;及び有機溶媒残量で構成される導電膜形成用ペーストを提供する。
本発明の銀ペースト組成物を用いると、従来のペーストで形成された伝導性パターンと比較して相対的に薄い厚さ、または狭い線幅でもはるかに低い電気抵抗の特性を示し、高価なナノスケールの銀粒子を用いなくても非常に低い温度で熱処理が可能である、良好な微細構造を有する導電膜を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】例えば半導体ウェーハ等の基板の表面に露出した金属表面に磁性膜、特に合金磁性膜を選択的かつ容易に成膜することができるようにする。
【解決手段】基板の表面に露出した金属表面に磁性膜を選択的に成膜する磁性膜成膜装置であって、磁性膜成膜装置22は、めっき槽40内のめっき液38に表面を接触させて配置した基板Wの周囲に該基板Wと平行な磁場を発生させる磁場発生装置34を有する無電解めっき装置36からなる。 (もっと読む)


本発明は導電膜形成のための金属ペーストに関するものであって、ヘテロ原子P、S、OまたはNを有する反応性有機溶媒に溶解された金属溶液;金属粉末;バインダー;及び粘度調節用極性または非極性溶媒残量で構成される導電膜形成用ペーストを提供する。
本発明の金属ペースト組成物を用いると従来のペーストで形成された伝導性パターンと比較して相対的に薄い厚さまたは狭い線幅でもはるかに低い電気抵抗の特性を示し、高価なナノスケールの金属粒子を用いなくても非常に低い温度で熱処理が可能である、良好な微細構造を有する導電膜を得ることができる。特に本発明の金属ペーストは銀ペーストを提供し、この銀ペーストは経済的に製造でき、さまざまな表面に適用できる。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、セラミックス微粒子を用いた湿式コーティング法によるセラミックス膜の製造において、平滑で良好な特性を有する膜を得ることのできるセラミックス膜の製造方法を提供する。
【解決手段】塗布液組成物を基体上に塗布し加熱焼成してセラミックス膜を形成する湿式コーティングと焼成による膜製の造方法であり、分散媒中にセラミックス粒子を分散させてなる塗布液組成物(A)を基体上に塗布し、乾燥および/または焼成して得られた被膜基体上の最上層に有機酸金属誘導体を溶解させてなる塗布液組成物(B)を塗布し、焼成する工程によるセラミックス膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】安価な装置において、基板のパターン内部において異方性高くエッチング処理や成膜処理を行うこと。
【解決手段】パターンが形成された基板が吸着保持された処理容器内に、微少な気泡であり、負電荷を持つナノバブルを窒素ガスやCF系のガスなどからなる処理ガスにより形成し、このナノバブルを純水やフッ化水素水溶液などの処理液中に分散させて、更にこの処理液に電界を加えて、ナノバブルと共に処理液をパターン内に引き込むことで、安価な装置で異方性を持つ処理を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】金属基板との密着性、膜硬度、耐擦傷性、耐水性、化学的耐久性に優れ、しかも、膜厚が5μm以下の薄膜状の貴金属被膜を形成することが可能な貴金属被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の貴金属被膜の形成方法は、ケイ素(Si)と、ジルコニウム(Zr)と、アルカリ金属(M)と、酸素(O)とを含有し、ケイ素(Si)を酸化ケイ素(SiO)に、ジルコニウム(Zr)を酸化ジルコニウム(ZrO)にそれぞれ換算したとき、酸化ケイ素(SiO)の、酸化ケイ素(SiO)及び酸化ジルコニウム(ZrO)の合計量に対する重量百分率が10重量%以上かつ90重量%以下である下地膜を、金属基板上に形成し、次いで、この下地膜上に貴金属被膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】ガスタービンエンジン内のタービン部品用のコーティングに関する。
【解決手段】コーティング403及びコーティング403の形成方法が開示される。この方法は、エンジンの運転中に燃焼ガス流の外部にあって冷却用空気に暴露される金属表面を有するガスタービンエンジンタービン部品の表面を被覆する段階を含んでいる。セラミック金属酸化物前駆体を含むゲル形成溶液を用意する。ゲル形成溶液を第一の予選択温度で第一の予選択時間にわたり加熱してゲルを形成する。次いで、ゲルを金属表面に堆積させる。その後、ゲルを第一の予選択温度より高い第二の予選択温度で焼成することで、ジルコニア、ハフニア及びこれらの組合せからなる群から選択されるセラミック金属酸化物を含むセラミック耐食性コーティング403を形成する。セラミック耐食性コーティング403は約127μm以下の厚さを有するとともに、約1000°Fを超える温度で密着性を保つ。 (もっと読む)


【課題】基板温度を目標温度まで到達させる時間を短縮し、熱効率を向上させた透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明導電膜の形成方法は、一主面上に金属を含む絶縁性の酸化膜を配してなり、ガラスから構成される基板を用い、前記基板に熱処理を施し、該基板の他主面上に透明導電膜を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ムラがなくベース金属層との密着性の高いめっき層を容易に形成することができるめっき方法を提供する。
【解決手段】めっき液を用いて無電解めっきすることにより基板上に設けられたベース金属層の表面に金属成分を析出させてめっき金属層を形成する際、基板上にゲル状のめっき液を塗布し、このゲル状のめっき液によってベース金属層が覆われた状態でベース金属層のみを加熱する。 (もっと読む)


【課題】亜臨界流体又は超臨界流体を使用し、半導体層の表面に形成された絶縁膜上に誘導共析現象を利用して短時間で均一な金属被膜を無電解めっきで得られるようにした無電解めっき方法を提供すること。
【解決手段】金属基体試料22の表面に無電解めっきする際に、無電解めっき液19中に金属粉末を分散させた状態で超臨界流体ないしは亜臨界流体を使用して無電解めっきを行う。そうすると、誘導共析現象を利用して短時間で均質な厚いめっき層が得られる。本発明の無電解めっき方法では、金属粉末として平均粒径は1nm以上100μm以下のものを使用でき、半導体素子内の微細金属配線形成方法であるダマシン法ないしデュアルダマシン法にも適用可能である。 (もっと読む)


【課題】良好な耐食性および導電性を有するTiまたはTi合金製の燃料電池用のセパレータを容易に製造することができる燃料電池用セパレータの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の燃料電池用セパレータ1の製造方法は、TiまたはTi合金製の燃料電池用セパレータとしての基板2の表面の少なくとも一部にガスを流通させるガス流路11を形成するための凹部を形成する形成工程S1と、前記凹部を形成した前記基板2の表面にRu,Rh,Pd,Os,Ir,PtおよびAuから選択される少なくとも1種以上の貴金属の塩化物を含む有機溶剤を塗布する塗布工程S2と、貴金属の塩化物を含む有機溶剤が塗布された基板2を熱処理することで、貴金属を含んでなる島状の結晶3を形成する熱処理工程S3と、を含む。 (もっと読む)


【課題】大気圧で熱処理した場合に比べて、電気抵抗を大幅に低減した金属膜を得る。
【解決手段】金属コロイド粒子が金属粒子と粒子表面に配位修飾した保護剤とにより構成され、保護剤が分子中に窒素又は酸素のいずれか一方又はその双方を含む炭素骨格を有し、かつ窒素、酸素、窒素を含む原子団及び酸素を含む原子団からなる群より選ばれた1種又は2種以上をアンカーとして金属粒子表面に配位修飾した構造を有し、保護剤がハイドロキシアルキル基を分子構造に含み、金属コロイド粒子を水系又は非水系のいずれか一方の分散媒又はその双方を混合した分散媒に所定の割合で混合して分散させた金属コロイドを基材表面に塗布する工程と、塗布した金属コロイド中の分散媒を自然乾燥により除去する工程と、基材を1.0×103Pa以下の真空雰囲気下、200℃以下で熱処理することにより、基材表面に金属膜を形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】基材上にセラミック膜を、焼成工程を経ずに、短時間で形成できる方法を提供する。
【解決手段】基材上に、セラミック前駆体を含有するセラミック前駆体膜を形成し、該セラミック前駆体膜上に、水を含有する水層を形成した後、レーザ光またはマイクロ波を照射して前記セラミック前駆体膜をセラミック膜に転化させる工程を有することを特徴とするセラミック膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】市販のインクジェット装置(プリンタ)等の低コストの装置を用いて容易に金属のパターンを製造することができる方法を提供する。
【解決手段】金属化合物溶液13を基体14の表面に付着させることにより金属化合物のパターン16を基体14表面に固定し、次に還元剤17を用いて金属化合物パターン16を還元することにより、固体金属のパターン18を生成する。この方法では、高温の溶融金属を用いた従来法とは異なり、常温で取り扱いが可能な金属化合物溶液13を用いるため、市販のインクジェット装置等を用いて容易に金属パターンを製造することができる。また、還元剤の供給に特別の装置を必要としないため、この点でも装置を低コスト化することができる。更に、基体の材料に対する制約が殆どないため用途に応じた材料を選択することができる。そして、還元後に洗浄処理を行うことが可能であるため、目的の金属のみから成るパターンが得られる。 (もっと読む)


次世代溶媒流体中のタンタル金属膜を例えば金属シード層として有用な基板上および/または沈着表面上に沈着させるための方法と装置が開示される。沈着は、混合前駆体溶液の液体状態、近臨界状態、または超臨界状態での液体および/または圧縮性溶媒流体中の低原子価かつ酸化状態の金属前駆体を必要とする。金属膜の沈着は、熱的活性化および/または光分解的活性化を介して達成される。本発明は、半導体、金属、ポリマー、セラミック、並びに同様の基板または複合物の製造および加工に応用される。

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【課題】コネクタ端子の接点部などに微細に硬質金めっきをすることが可能な部分めっき方法を提供すること。
【解決手段】めっき液を接触させた被めっき材34のめっきする部分に、波長が330nm以上450nm以下であるレーザ光を照射して部分めっきをする。このとき、めっき液中に被めっき材34を搬送すると良い。このめっき液中を搬送される被めっき材34の動きにレーザ光を一定時間同期させて被めっき材34のめっきする部分に照射する。被めっき材34の同一のめっきする部分を一定時間照射した後は、レーザ光を走査開始位置に復帰させるようにする。 (もっと読む)


【課題】無電解めっき溶液中の金属溶液及び還元剤溶液の濃度を測定する方法が開示されている。
【解決手段】ラマン分光器法を用いて、混合した後の無電解めっき溶液中の各溶液の濃度を測定する。溶液をめっき浴に提供する前に各溶液の濃度を測定することにより、個々の溶液の濃度を調整して、各溶液の目標濃度を得ることができる。更に、各溶液は他の溶液と混合する前にラマン分光法を用いて個々に分析することができる。混合前の個々の溶液のラマン分光法測定値に基づいて、各溶液を形成する個々の成分を混合前に調整して目標の成分濃度を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】母材金属中にセラミックス繊維を含有する複合材を効率よく且つ低コストで得るべく、金属被覆セラミックス繊維を効率よく且つ低コストで作製する。
【解決手段】セラミックス繊維に対して直流電源の負極のみを電気的に接続した後、前記セラミックス繊維に対し無電解メッキを施すか、又は、前記セラミックス繊維の表面に有機金属塩を付着させた後に前記有機金属塩を熱分解して金属とすることで、前記セラミックス繊維の表面に金属皮膜を設けて金属被覆セラミックス繊維とし、さらに、この金属被覆セラミックス繊維に対して成形加工を施し成形体26とする。なお、成形加工の最中、又は終了後に、成形体26に対して通電を行う。次に、この成形体26に対して金属を溶浸すれば、複合材が得られるに至る。 (もっと読む)


【課題】膜厚ムラの発生を抑制できる薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】開口部Kを有する処理槽52内に貯留された処理液Lに処理対象物WFを浸漬して、薄膜を形成する。処理槽52を介して処理液Lの温度を調整する第1温度調整装置73と、開口部Kに臨む処理液Lの温度を調整する第2温度調整装置72とを有する。第1温度調整装置73は気体を用いて処理液の温度を調整し、第1温度調整装置73及び第2温度調整装置72の双方に温度調整された気体を供給する。また、第2温度調整装置72は蓋体54と処理液の液面との間の気体を介して処理液の温度を調整する。 (もっと読む)


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