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Fターム[4K022EA02]の内容

化学的被覆 (24,530) | 後処理 (544) | 洗浄、液切り、乾燥するもの (66)

Fターム[4K022EA02]に分類される特許

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【課題】 導体回路素子内の微細配線形成方法として使用されているいわゆるダマシン法ないしデュアルダマシン法にも適用し得るナノメータオーダーの微細パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の微細パターンの形成方法は、基板上に設けられた絶縁膜に形成された溝及び孔の少なくとも一方を、二酸化炭素及び不活性ガスの少なくとも一方、めっき液及び界面活性剤を含む超臨界流体又は亜臨界流体を用いためっき法により所定の金属で埋めることを特徴とする。この場合、めっき液として従来から使用されている電解めっき液や無電解めっき液を使用することができ、また、本発明の微細パターンの形成方法を実施する際には、脱脂部A、酸洗部B、触媒化部C及びめっき部Dを備える表面処理装置10を使用し得る。 (もっと読む)


【課題】 薬液混合率や銀鏡反応速度などの銀鏡反応条件の変化に原因して、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じることを抑制する。
【解決手段】 混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液A、Bを被処理物2の表面又はその近傍で反応させる状態で被処理物2に向けて噴出する薬液噴出手段3A、3Bと、この薬液噴出手段3A、3Bによる被処理物2に向けた薬液噴出に並行して被処理物2を回転させる回転手段5とを設けてある銀鏡薄膜形成設備において、回転手段5を、薬液噴出手段3による薬液噴出で被処理物2に付着する反応済み薬液を被処理物2から離脱飛散可能な回転速度で被処理物2を回転させる構成にする。 (もっと読む)


【課題】 メッキ面の保存性を損なわずに、スズメッキ後の水洗に際してメッキ面上への白色の微細粒子の発生を防止する方法を提供する。
【解決手段】 酸性無電解スズメッキ液に被メッキ物を浸漬してスズメッキを施し、水洗し、乾燥する無電解スズメッキ方法において、酸性無電解スズメッキ液によるメッキ工程の後で、且つ、水洗工程の前に、メッキ工程で使用した上記メッキ液とは異なる劣化のない酸性無電解スズメッキ液でメッキ面を洗浄することからなる後処理を施す無電解スズメッキの後処理方法である。メッキ直後に水洗せずに、劣化のない無電解メッキ液で洗浄するため、皮膜上の4価スズ塩は酸性を呈するメッキ液に溶解した状態でメッキ液と共に皮膜上から除去され、水洗後に白い微細粒子が凝集することを良好に防止できる。 (もっと読む)


【課題】物性を著しく改善する,無電解方式を用いたフィルム金属メッキシステムを提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルムを供給しながら,特定工程が実施される工程実行装置と水洗を実施する水洗装置とから構成される脱脂,エッチング,中和,カップリング,触媒部が,下部メッキ,メッキなどの工程を順次実施して,フィルムの片面又は両面に伝導性金属をメッキし,伝導性金属のメッキされたフィルムを乾燥装置部によって乾燥させ,乾燥した伝導性金属メッキフィルムを巻取装置部によって巻取ロールに巻き取る。各工程を実施する時,フィルムを液状物質に浸漬させた状態で通過させ,洗浄水で洗浄させながら洗浄水に浸漬してから引き出す湿式方法によって実施する。 (もっと読む)


【課題】 半導体デバイス等の基板の品質を低下させることなく、基板上の配線部に還元力の弱い還元剤を用いためっき液により無電解めっきを施すことが可能な無電解めっき装置を提供する。
【解決手段】 ウエハW上に形成された配線部に還元力の弱い還元剤を用いためっき液により無電解めっきを施すための無電解めっき装置を、ウエハWを支持する、導電性を有する押圧ピン64と、めっき液に接触するように押圧ピン64に設けられ、めっき液に接触した際に溶解して電子を発生させる金属部材64bとから構成し、金属部材64bが溶解して発生した電子を、押圧ピン64を介してウエハW上の配線部に供給する電子供給路とから構成する。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム膜を基体上に容易に形成するための組成物と方法を提供すること。
【解決手段】アミン化合物と水素化アルミニウム化合物との錯体および大気圧下での沸点が300℃より高く、23℃で液体であり且つ前記錯体と反応しない媒体とを含有するコーティング用組成物、ならびに上記組成物を基体上に塗布し、熱処理または光照射してアルミニウム膜を生成し次いで前記媒体を除去するアルミニウム膜の形成方法。 (もっと読む)


【課題】 亜鉛もしくは亜鉛合金製品の表面に低コストで、耐食性、密着性に優れた皮膜を形成しうる表面処理剤を得る。
【解決手段】 本発明の亜鉛もしくは亜鉛合金製品用表面処理剤は、アンチモンを含む水溶性化合物、該アンチモン化合物からアンチモン元素を析出させる還元剤、ならびに析出したアンチモン元素の皮膜を亜鉛合金製品表面に緻密に形成させる緻密皮膜形成剤、を含有する。好適には、さらに皮膜補強剤を含有し、もっと好適には着色向上剤、さらには界面活性剤を含有する。これらの表面処理剤を含有する水溶液に浸漬処理された亜鉛もしくは亜鉛合金製品を、それらの亜鉛もしくは亜鉛合金製品の色調に応じて選定された封孔処理剤を含有する水溶液に浸漬してピンホールを封孔するのが好適である。 (もっと読む)


【解決手段】基板の上に銅を形成するための方法であって、銅源溶液を混合器に供給する工程と、還元溶液を混合器に供給する工程と、銅源溶液と還元溶液とを混合して、約6.5より大きいpHを有するメッキ溶液を形成する工程と、メッキ溶液を基板に供給する工程と、を備え、基板は、触媒層を備え、メッキ溶液を基板に供給する工程は、触媒層を形成する工程と、制御された環境に触媒層を維持する工程と、触媒層の上に銅を形成する工程とを備える、方法が開示されている。また、銅構造を形成するためのシステムも開示されている。 (もっと読む)


【課題】コネクタとフレキシブル配線基板が接合される接触部に銀を含有する錫系のめっきを施すことにより接続部に加わる外部応力に起因して発生するウィスカーを抑制することができる電気コネクタの接続構造を提供する。
【解決手段】フレキシブル配線基板1用の電気コネクタ接合構造であって、フレキシブル配線基板1の接続部を挿入できる接続孔を有し、該接続孔より電気コネクタ6のハウジング7内部に向かって形成された端子装着空間に装着された複数の金属端子8と、隣接する金属端子8が接触しないように当該金属端子間を電気的に分離する分離壁と、フレキシブル配線基板1の接続部に電気コネクタ6の金属端子が圧接される導電層4部と、を備え、導電層4部は、所定の厚さの銅パターン上に銀を含有する所定の厚さの錫層が形成される。 (もっと読む)


【課題】置換めっき法を用いて、低コストで容易且つ大面積に柱状構造体を形成することができる構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】多孔質層13の孔14内へめっき物を充填する工程を有する構造体の製造方法であって、基板上1に、めっき物よりも電気化学的に貴な下地膜12を介して多孔質層を有する部材を用意する工程、置換めっき法により、該多孔質層の孔内へめっき物を充填する工程を有する構造体の製造方法。前記めっき物が、Zn、Fe、Co、Ni、Sn、Cu、Ag、Rh、Pd、Pt、Auから選ばれる少なくとも1種類以上を含むこと特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低コストで容易且つ大面積に柱状構造体を形成することができるナノ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板11上に設けられた細孔22内へめっき法により金属を充填するナノ構造体の製造方法において、少なくともめっき用の金属イオンを含み還元剤を含まない溶液I(27)および少なくとも還元剤を含みめっき用の金属イオンを含まない溶液II(26)を用意する工程、該溶液I(27)を基板の細孔内に充填する工程、溶液Iを充填した基板を溶液II(26)に浸漬し、溶液Iの金属イオンと溶液IIの還元剤による無電解めっきにより細孔内に金属28を析出する工程を有するナノ構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 下地に最適化された処理液で触媒付与処理等の活性化処理を行うことで、特に、配線等の表面に、該配線の電気特性を劣化させることなく、高品質の金属膜(保護膜)を効率よく形成できるようにする。
【解決手段】 液温を15℃以下に調整した処理液に、好ましくは15℃以下の所定の温度に冷却した基板の表面を接触させて該表面を活性化させ、この活性化させた基板の表面をめっき液に接触させて該表面に金属膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】軸受けの使用寿命が長く、磨耗耐性があり、油を含む潤滑性を具え、潤滑油による汚れなどを防ぐことができる部品の被覆層の製造方法を提供する。
【解決手段】a.スプレーで得た青銅ベースの合金の粉末は選別し、b.異径の粉末に微量の合金金属材と、必要に応じて潤滑剤を加え、c.混合し、d.混合粉末は、プレッシャーの中空金型内部に充填、押し圧成形し、e.成形圧力とパンチの接触面積、及び予想した胚細胞の密度とは関連があり、f.成形後の胚細胞の焼結処理を実施し、g.表面品質を改善し、被覆層の処理を行い、h.加熱による脱脂処理を行って、i.室温で攪拌、換気、ろ過を行い、j.表面の活性処理、表面の品質改善処理を実施し、k.未処理の電解液層の硬度は被覆処理後、高温焼き付けにより表面の被覆層に密着処理を行い、l.密着処理後、超音波洗浄を実施し、再度洗浄して電気化学反応で、未被覆表面の粒子を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】液冷式発電機における漏れを補修および防止するための改善された方法を提供すること。
【解決手段】ステータバー(16)の少なくとも一部を形成する冷媒を流すための内部液体通路を備えるステータバー(16)を封止する方法は、ステータバー(16)の濡れた内部表面の少なくとも一部分を無電解めっきするステップを含む。 (もっと読む)


【課題】基材の表面に銀鏡皮膜を形成する方法において、活性化処理液を用いて得られた基材の銀鏡皮膜の腐食ムラ(斑点状ムラ)を防止する。また第2に活性化処理液の保存安定性が良好であり且つ、活性化処理液の作成直後から長期間にわたり安定した銀鏡皮膜被形成表面に対する親水性を得ることが出来る活性化処理液を提供する。
【解決手段】基材の表面に銀鏡皮膜を形成する方法にあたり、前記基材の銀鏡皮膜被形成表面を活性化する活性化処理液が、塩酸以外の酸を含有し、かつ第1スズ化合物と第2スズ化合物を含有することを特徴とする活性化処理液。 (もっと読む)


【課題】基材の表面に銀鏡皮膜を形成する方法において、活性化処理液の保存安定性が良好であり且つ、活性化処理液の作成直後から長期間にわたり安定した銀鏡皮膜被形成表面に対する親水性を得ることが出来る活性化処理液を提供する。
【解決手段】基材の表面に銀鏡皮膜を形成する方法にあたり、前記基材の銀鏡皮膜被形成表面を活性化する活性化処理液が、第1スズ化合物と第2スズ化合物を含有し、第1スズ化合物と第2スズ化合物を合わせたスズ化合物の総モル量に対して第2スズ化合物が35乃至75モル%の範囲にあることを特徴とする活性化処理液。 (もっと読む)


【課題】 例えば酸素や銅に対する拡散防止効果を有する必要最小限の膜厚の合金膜を、配線パターンへの依存性を軽減しつつ、基板の全域に亘ってより均一な膜厚で形成した合金膜で配線を保護する。
【解決手段】 基板上の絶縁体内に形成した配線用凹部内に配線材料を埋込んで形成した埋込み配線の周囲の少なくとも一部に、タングステンまたはモリブデンを1〜9atomic%、リンまたはボロンを3〜12atomic%含有する合金膜を無電解めっきで形成した。 (もっと読む)


本発明は、基板にめっき処理を行ったり、基板を処理液に浸漬させて処理を行ったりするのに好適な基板処理装置に関する。本発明の処理装置(1)は、基板(W)の出し入れを行うロード・アンロードエリア(100)と、基板を洗浄する洗浄エリア(200)と、基板のめっき処理を行うめっき処理エリア(300)とを有し、ロード・アンロードエリア(100)には、ドライ仕様の複数のハンド(137,139)を有する基板搬送ロボット(130)と、基板収納カセットを搭載するロードポート(110)と、基板をフェースアップからフェースダウンに切換るドライ仕様の反転機(150)が配置されている。
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【課題】 溶融亜鉛めっき処理又は電気亜鉛めっき処理と、ゾルゲル法による表面処理とを組み合わせ、両処理の利点を相乗的に発揮させる表面処理方法であって、ゾル溶液の管理が極めて容易であり、また処理コストが低い鋼材に高耐候性を付与する表面処理方法を提供するとともに、それによって処理された高耐候性鋼材を提供する。
【解決手段】 鋼材表面に亜鉛めっき層を形成した後、該亜鉛めっき層の上に、ゾルゲル法によってSi、Al又はTiの酸化物で形成されたセラミックスコーティング層を形成する表面処理方法であって、Si、Al又はTiのアルコキシドを出発原料とし、この原料に水と塩基性触媒の水溶液を添加しながら攪拌し、pH9以上のアルカリ領域のゾル溶液を調製し、そのゾル溶液を鋼材表面に付着させてゲル化し、それを乾燥処理して前記セラミックスコーティング層を形成してなる。 (もっと読む)


銀などの金属でポリマー発泡体を金属処理する方法により、抗微生物材料を製造する金属処理ポリマー発泡体の製造方法。発泡材料はポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、またはこれらの組み合わせである。本方法は金属の3次元的な表面コーティングである。金属処理された基材は耐久性を有し、かつ高度に粘着性である。このように金属化された発泡体は高効率なフィルターおよび/または抗微生物製品である。ろ過機構はおもにファン・デル・ヴァール引力による。抗微生物活性は、部分的には刺激に応答した選択的な金属の放出によると思われる。 (もっと読む)


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