【課題】本発明は、従来の技術に比べて処理費用が低く、色相の再現性が優れ、美麗かつ多様で、装飾性が優れたカラー酸化被膜層の形成することを課題とする。
【解決手段】素材をニッケルメッキまたはクロムメッキしてメッキ層を形成する工程（Ｓ10）と、メッキ層を形成した素材を２００℃〜５００℃の酸化性雰囲気下において１分〜２０時間、酸化熱処理して前記メッキ層上にカラー酸化被膜層を形成するカラー工程(S
30)を具備することを特徴とするカラー酸化被膜層の形成方法。 （もっと読む）

【課題】凹凸形状の微細加工に適し、製造効率を向上させた複合金属箔、複合金属箔の製造方法、成形金属箔及び成形金属箔の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】凹凸形状を有する複合金属箔ならびに成形金属箔の製造において、作製すべき複合金属箔ならびに成形金属箔の凹凸形状に対応する凹凸形状をキャリア基材表面に形成する工程と、前記凹凸形状が形成されたキャリア基材の表面に沿うようにして気相成長法を用いて被覆金属層を形成する工程とを含む製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物、該ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物を有する電気メッキ溶液及び該電気メッキ溶液を用いる表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明によるニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物はニッケル塩、コバルト塩、リン酸含有化合物、並びに、トリエチレン・テトラアミン、ジエチレン・トリアミン及びヒドラゾベンゼンを含む多座キレート剤を有する。また、前記ニッケル・コバルト・リン電気メッキの組成物を含む電気メッキ溶液とこの電気メッキ溶液を用いる材料表面処理方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスなどの冷却用ヒートシンク局部の鍍金方法を提供する。
【解決手段】 鍍金液材料をヒートシンクの鍍金を必要とする領域１１１に対応する容器１２内に貯留し、鍍金を必要とする領域に接触させて、被鍍金領域に接触する容器壁により囲われた局部に鍍金層を形成する。
めっき液は、下地層としての亜鉛めっき、ニッケルめっきに適用することができると共に、不必要な箇所へのめっきがされないため、めっき材料の損失が無く、生産効率がよい。 （もっと読む）

【課題】孔開き金属箔について、特にエッチングやめっきしにくい金属でも製造できる孔開き金属箔の製造方法とこれにより製造された孔開き金属箔を提供する。
【解決手段】作製すべき孔開き金属箔の面形状と同じ表面形状を持ち、且つ一定の厚みを有する型枠層をキャリア基材表面に形成し、前記型枠層の上面に乾式薄膜形成法により金属箔を形成した後、前記キャリア基材ならびに型枠層を金属箔から剥離する孔開き金属箔の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】鉛を含有しない滑り層を有する滑り部材を提供する。
【解決手段】本発明は支持要素及び滑り層、これら両者の間に介在する軸受メタル層を有し、滑り層がビスマスまたはビスマス合金から形成され、滑り層のビスマスまたはビスマス合金の結晶子の配向が、格子面(012)のミラー指数で表される好ましい方向をなし、格子面(012)のX線回折強度が他の格子面のX線回折強度と比較して最大である滑り部材において、2番目に大きいX線回折強度を有する格子面のX線回折強度が格子面(012)のX線回折強度の10%を最大限とする。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金素材とめっき皮膜の密着性を良好に維持しながら、めっき皮膜の耐食性を向上させることができる、アルミニウムまたはアルミニウム合金素材のめっき前処理方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金素材に脱脂処理およびエッチング処理を施した後、素材を硝酸溶液に浸漬して第１回目の硝酸浸漬処理を行った後にジンケート処理液に浸漬して第１回目のジンケート処理を行い、その後、素材を硝酸溶液に浸漬して第２回目の硝酸浸漬処理を行った後にジンケート処理液に浸漬して第２回目のジンケート処理を行い、その後、素材を硝酸溶液に浸漬して第３回目の硝酸浸漬処理を行った後にジンケート処理液に浸漬して第３回目のジンケート処理を行う。 （もっと読む）

【課題】接続端子の摺動部などに好適なめっき材料、および前記めっき材料を用いて挿抜性を改善した、嵌合型多極コネクタなどの電気電子部品を提供する。
【解決手段】導電性基体１上にＮｉなどの下地層２が設けられ、その上に銅または銅合金の中間層３が設けられ、その上にＣｕ−Ｓｎ金属間化合物からなる最外層４が設けられためっき材料５。めっき材料５を、端子などの摺動面に用いたとき、最外層４が硬質のＣｕ−Ｓｎ金属間化合物層からなるため、端子間の接触圧力を小さくしても、フレッティング現象が起き難い。従ってめっき材料５を摺動面に用いた端子はめっき層を薄くするなどして挿抜性を高めることができる。めっき材料５は、製造中または使用中の基体成分の熱拡散が前記下地層２により防止され、下地層成分の熱拡散が中間層３に阻止されるので、最外層４のＣｕ−Ｓｎ金属間化合物層が汚染されず、その機能が良好に保持される。 （もっと読む）

【課題】異物埋収性の向上を図ることができ、ひいては非焼付性の向上を図る。
【解決手段】基材を構成する軸受合金２の表面に被覆層６を設けたすべり軸受において、被覆層６は、摺動面側の表面から見て樹脂領域部３と軟質金属領域部４とが混在した複合化領域部５を有する構成とする。軟質金属領域部４は、軟質金属が主体の領域で、樹脂領域部３に比べて柔らかいため、異物埋収性に優れる。表面から見てこのような軟質金属領域部４と樹脂領域部３とが混在しているため、樹脂領域部３のみに比べて異物埋収性を向上でき、ひいては非焼付性の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 シリンダのサイズを問わずにブツやピット等の欠陥を生じることなくシリンダの全長に亘ってより均一な厚みの銅メッキを施すことができ、シリンダの両端部近傍が直胴部に比べて厚くメッキされるのを大幅に抑止して、事後的にメッキの厚みを均一化する研磨等の処理を不要乃至簡略化することのできるシリンダ用メッキ方法及び装置を提供する。
【解決手段】 長尺シリンダの外周表面に不溶性電極を用いてメッキを施すようにしたシリンダ用メッキ方法であって、前記不溶性電極を多数の分割電極に分割するとともに前記シリンダの長手方向の少なくとも両端部近傍に対応する前記不溶性電極部分をそれぞれ少なくとも３つの分割電極群に分割し、各分割電極群が１個以上の分割電極を有し、該分割電極群の電位を制御して該シリンダの両端部外周表面のメッキ層の厚みを調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】加工の手間や管理が煩雑にならず、押し忘れやスタンプインクに含有される成分の潤滑油への影響等の問題がおこらない表面処理種類識別マーク付加が可能なマスキング方法を提供する。
【解決手段】ワーク部品の表面処理不要面をマスキング治具７で覆い、その後、前記ワークの被処理面を表面処理液で満たすことにより前記ワーク部品の被処理面のみに表面処理を施す表面処理のマスキング方法において、前記マスキング治具７の少なくとも１箇所に孔部９を設けることで、ワーク部品の表面処理と同時に識別マークを付けることができるので、識別マークの付け忘れがなく、また、表面処理前のワーク部品を共用することができ、識別マークの加工工程は不要となる。 （もっと読む）

【課題】より少ないメッキ液の使用量で、被メッキ材に対して均一な膜厚のメッキを形成させることができる電解メッキ装置を実現する。
【解決手段】本発明に係る電解メッキ装置５０は、メッキ処理槽９内のメッキ液４に、カソード電極１５に接続された半導体基板１とアノード電極２とを対向させて浸漬し、アノード電極２とカソード電極１５とを通電させることにより半導体基板１に電解メッキを行う。電解メッキ装置５０は、半導体基板１とアノード電極２との間に、半導体基板１の中央部と対向して設けられた貫通口を有する絶縁体から成り、アノード電極２から半導体基板１の外縁部に印加される電界を遮蔽する遮蔽板３を備えるとともに、アノード電極２と遮蔽板３とを、一体的に揺動させる揺動手段を備えている。 （もっと読む）

【課題】経時的な酸化を抑制したり、はんだ付け時等に起こり易い酸化を抑制することができるフラーレン複合めっき電線及びその製造方法並びにフラーレン複合めっきエナメル電線を提供する。
【解決手段】金属芯線１１と、その金属芯線１１上に形成されたフラーレン複合めっき皮膜１２とを有するように構成した。フラーレン複合めっき皮膜１２は、フラーレンとして、フラーレンＣ６０、フラーレンＣ７０及び高次フラーレンの中から選ばれる１種又は２種以上を含有することが好ましく、また、フラーレン複合めっき皮膜が、銅、ニッケル、鉄、クロム、金、銀、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム及びそれらの合金の群から選ばれるいずれかを含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 基材に対し、耐食性を有しかつ難めっき材のアルミニウム独特のピンホールやブツやクレータ状のへこみの外観不具合がないめっき処理方法を提供すること。
【解決手段】 基材に下地金属めっきを形成した後、乾式の加工工程で下地めっきの欠陥をつぶし均一な表面状態にした後に、再度下地めっき表面を活性化し、後工程のめっきを行うことにより、耐食性を有しかつブツやクレータ状のへこみの外観不具合がないめっき部材が提供できた。 （もっと読む）

本発明の一実施例は、相互接続技術に関する。ダイ上には、ナノ構造隆起部が形成される。ナノ構造隆起部は、ナノ寸法の開口を定形するテンプレートと、該ナノ寸法の開口から延伸する金属ナノワイヤとを有する。ダイは、ナノ構造隆起部を介して、基板に取り付けられる。
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【課題】 非磁性基材の片面の少なくとも一部に磁性材料層が形成された電磁誘導加熱用複合材において、磁性材料層などの発熱体層を薄くしても高出力が可能な電磁誘導加熱用複合材、及び電磁誘導加熱用調理器具を提供すること。
【解決手段】 非磁性基材の片面の少なくとも一部に、透磁率が高い合金からなる磁性材料層と、該磁性材料よりも電気抵抗率が低い金属材料（但し、Ｃｕを除く）からなる金属材料層とが、この順で交互に少なくとも１組形成された電磁誘導加熱用複合材であって、該磁性材料層が、ニッケル合金、鉄合金またはコバルト合金からなる合金メッキ層であり、該金属材料層が、Ａｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、ＭｇまたはＮｉからなる金属メッキ層であり、該磁性材料層の全体厚みが３０〜１００μｍであり、かつ、該金属材料層の全体厚みが３〜２５μｍであることを特徴とする電磁誘導加熱用複合材、及び該複合材からなる電磁誘導加熱用調理器具。 （もっと読む）

一実施形態では、エンボス加工ドラムが、外テーパを備えた外面を有するマンドレル（４）と、マンドレル（４）の第１の端部から延びる主ジャーナル（１０）と、マンドレル（４）の第２の端部から延びる副ジャーナル（１２）と、内テーパを備えたスリーブ内面を有し、マンドレル（４）の周りに配置されて、実質的に一定の外径を有するドラムを形成するスリーブ（６）と、副ジャーナル（１２）に係合し、スリーブ（６）の最小内径を有する第１のスリーブ端部が隣接して配置される着脱可能なジャーナル支持部（３０、５０）とを有している。一実施形態では、ドラムシステムのメンテナンス方法が、エンボス加工ドラムシステムにおけるジャーナル支持部（３０、５０）を解放することと、マンドレル（４）から外して副ジャーナル（１２）の上へスリーブ（６）を滑らせることとを含んでいる。
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【課題】現像ゴーストの発生を長期にわたって抑制することができる現像剤担持体、現像装置、画像形成装置及び前記現像剤担持体の製造方法を提供すること。
【解決手段】粗面化された中空円筒状の基体上に、金属で構成される表面層を有し、該表面層の６０度鏡面光沢度Ｇｓ（６０°）が１０以上４０以下の範囲であることを特徴とする現像剤担持体、該現像剤担持体を有する現像装置及び画像形成装置、並びに前記現像剤担持体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】密着性の高いメッキ膜を煩雑な化学的前処理（下地処理）を施すことなく作製し得る方法を提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される方法は、金属製基材（２）の表面にメッキ膜（４）を作製する方法であって、表面が粗い硬質の微粒子から成る硬質微粉（Ｐ）を前記基材の表面に投射して該基材表面（２Ａ）に微視的な凹凸（２Ｂ）を形成すること、および、該凹凸の形成された基材表面にメッキ処理を施すことを包含する。本方法では、チタン、アルミニウム等の難メッキ性金属から成る基材表面に高密着性メッキ膜を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム系材料からなる基材の表面の少なくとも一部に、優れた耐食性と電気絶縁性とを兼ね備えた耐食絶縁性被膜が形成されてなる被膜付きアルミニウム材を提供する。
【解決手段】被膜付きアルミニウム材の耐食絶縁性被膜は、アルミニウム系基材の上に形成された耐食下地層と、その耐食下地層の上に形成されたポリイミド（ＰＩ）樹脂層とから構成される。耐食下地層は、前記基材の上に形成されたＺｎ置換メッキ層と、その上に形成されたＣｕ層と、その上に形成されたＮｉ層と、その上に形成されると共に前記ＰＩ樹脂層の直下に位置する貴金属のメッキ層とを積層したものである。貴金属は、最も好ましくは金（Ａｕ）である。 （もっと読む）