【課題】構成層の剥離や透明導電膜の劣化を防止することにより、長期にわたり優れた性能を発揮することが期待できる透明導電膜付ガスバリアフィルムを提供。
【解決手段】環状ポリオレフィン系材料からなる基材１０の両主面に対し、それぞれガスバリア層２０Ａ、２０Ｂ、保護層３０Ａ、３０Ｂを順次積層してフィルム積層体２を構成する。保護層３０Ａ、３０Ｂはシロキサン系熱硬化性樹脂で構成する。ＡＰＣ層４０の両面にＩＴＯ膜５０Ａ、５０Ｂを積層して透明導電膜積層体３を構成する。このフィルム積層体２と透明導電膜積層体３とを積層して、透明導電膜付ガスバリアフィルム１を構成する。 （もっと読む）

【課題】ブラスト処理を行っても蓋と本体との磁力による吸引力の著しい低下を防ぐことができるマスキング装置を提供すること。
【解決手段】ブラスト処理によって本体１０の磁性が劣化しても、磁力補強板３０を本体１０の下面１０ｂに追加的に配置することにより、本体１０の磁性劣化を補償して回復させることができる。そのため、マスキング装置１００を繰り返し多数回使用できるため、新しく作製する必要性を極めて低減することができる。これにより、試作設備や生産設備等におけるマスキング装置１００のセットの再段取りによる工数の増加や新しいマスキング装置１００の作製によるコストを抑えることができる。また、本体１０に磁力補強板３０を取り付ける構成のため、磁性劣化から再生までの期間を短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】格子状凸部を有する基材上に形成された金属層をエッチングして金属ワイヤを形成するエッチング工程を有するワイヤグリッド偏光子の製造方法において、当該エッチング工程を簡略化すると共に、得られるワイヤグリッド偏光子の光学特性のばらつきを低減することを目的の一とする。
【解決手段】表面に格子状凸部を有し、且つ格子状凸部上に金属層が設けられた基材フィルムがロール状に巻かれてなる原反ロールから、搬送用ロールを介して基材フィルムを巻取ロールに搬送する間に、基材フィルムをエッチング液に接触して金属層の一部をエッチングした後に基材フィルムの光学特性を測定するロール・ツー・ロール方式のワイヤグリッド偏光子の製造方法において、基材フィルムの光学特性の測定結果に基づいてロール・ツー・ロール方式のライン速度を制御し、基材フィルムをエッチング液に接触する期間を制御する。 （もっと読む）

【課題】小スペースで可撓性基板の予備加熱、脱ガス及び材料改質のための処理を容易に行うことが可能であり、かつ高い精度と応答性で温度及び処理条件の制御を行うことが可能な可撓性基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】長手方向に沿って搬送される可撓性基板１の表面処理を行う可撓性基板１の処理装置において、可撓性基板１の巻出し室３に巻出しロール６を配置するとともに、巻出しロール６のコアに予備加熱及び脱ガス処理を行う加熱機構のロールコアヒータ１１を設けている。 （もっと読む）

【課題】 支持体上に無機膜を成膜する際に、性能を劣化させることなく安定的に搬送し、無機膜の割れ／抜け等の欠陥が少なく、生産性の高い、高品質の機能性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
裏面側にラミネートフィルムが付与され自己支持性を有する長尺の支持体１２を送出し機５６から成膜室５２に送り出し、真空下の成膜室５２内で支持体１２を搬送しながら、支持体１２の表面側に無機材料を成膜し、支持体１２を巻取り機５８によりフィルムロール４８に巻き取り、機能性フィルム１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】波長ムラが生じにくく低屈折率の薄膜、及び、薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】薄膜１１は、基板１２上に形成されている。薄膜１１は、蒸着材料からなる蒸着膜により形成されている。また、薄膜１１は、基板１２に形成された複数のナノ構造体１３の集合層から構成されている。ナノ構造体１３は、基板１２の略垂直方向に柱状に延びるように形成されている。また、ナノ構造体１３の集合層は、薄膜１１全体として、蒸着材料と空気とが一定割合で混合しており、この割合（薄膜の膜充填密度）により、薄膜１１全体の屈折率が決定される。 （もっと読む）

【課題】高温高湿の環境下に長期間曝された際や、レトルト処理後であっても、ガスバリア性の低下が少なく層間剥離が起こらない、優れたガスバリア性及び層間密着性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、（Ａ）第１無機薄膜層、（Ｃ）ガスバリア性樹脂組成物層及び（Ｄ）第２無機薄膜層が、他の層を介して又は介さずにこの順に積層されており、（Ｃ）ガスバリア性樹脂組成物層が、エチレン−ビニルアルコール系共重合体からなるガスバリア性樹脂（ａ）と無機層状化合物（ｂ）とカップリング剤及び架橋剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤(ｃ)とを含んでなるガスバリア性樹脂組成物から形成され、無機層状化合物（ｂ）の含有量が、ガスバリア性樹脂（ａ）、無機層状化合物（ｂ）及び前記添加剤(ｃ)の合計１００質量％中０．１質量％〜２０質量％である。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性および耐久性の良好な光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材１の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜３３を物理的蒸着により形成することとを有する。透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素、ケイ素、ゲルマニウムのいずれかを含む第１の化合物群に含まれる少なくとも１種を含む第１の気体をイオン化することを含む。 （もっと読む）

【課題】基材とガスバリア層との密着性が、従来よりも大幅に改善されたガスバリア性フィルムを、高い生産効率で提供する。
【解決手段】連続して走行する基材１０上にガスバリア層を形成するガスバリア性フィルムの製造方法であって、金属ロール電極１と、これに沿った円弧状の対向電極である接地電極２とを備えるＲＩＥ処理装置を用い、両電極１，２の間に、少なくとも酸化用ガスを含む1種類以上のガスと、気化した有機シリコン化合物とを導入する手段、及び処理空間内の圧力を３Ｐａ以上３５Ｐａ以下とし、電源周波数を３０ｋＨｚ以上４ＭＨｚ以下の高周波として、両電極１，２の間に、プラズマを発生させる手段により、基材１０の表面にプラズマ化学気相蒸着法により、厚さ３ｎｍ以上の中間密着層を形成する工程と、中間密着層の表面に、真空蒸着法によりガスバリア層を形成する工程とを備える製造方法。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバー（１）内で、基板（２）上で、ホスト材料及びドープ材料を含んだ透明で伝導性の層を堆積する方法であって、ホスト材料は、亜鉛酸化物又はインジウム酸化物からなり、かつドープ材料は、第３主族又は第４主族からの少なくとも１つの金属又は半金属の元素の酸化物を含む前記方法において、ＰＶＤ法を使用したホスト材料の堆積の間に、酸素及び前駆物質が真空チャンバー（１）内に供給され、前駆物質は、第３主族又は第４主族からの少なくとも１つの元素を含み、かつドープ材料の濃度が、勾配を有する層厚推移において形成される。本発明はさらに金属合金酸化物でできた透明で伝導性の層に関する。
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【課題】 本発明の目的は、ガスバリア性に優れ、異なるポリエステルを積層しているにも関わらず平面性及び層間接着力に優れるポリエステル系積層フィルム、及びそれを用いた蒸着フィルムを提供することである。
【解決手段】 化学式１に示す構造を７０モル％以上有するポリグリコール酸からなる樹脂層（Ａ）と、ジカルボン酸成分とグリコール成分からなるポリエステルを主体とする樹脂層（Ｂ）を少なくとも有する積層フィルムであって、カール量が１０ｍｍ以下であることを特徴とする積層フィルムによって達成される。
【化１】
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【課題】スパッタ法により、酸化物半導体膜上に薄膜を成膜する際に、酸化物半導体膜のプラズマダメージを膜面内均一性良く抑制して成膜する。
【解決手段】基板Ｂ上に成膜された、Ｉｎと、Ｇａ，Ｚｎ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｓｂ，ＣｄおよびＧｅからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素とを含む酸化物半導体膜１上に、基板ＢとターゲットＴとを対向させて、プラズマを用いるスパッタ法によりターゲットＴの構成元素を含む薄膜２を形成する成膜方法において、薄膜２の成膜時のプラズマ中のプラズマ電位Ｖｓ（Ｖ）と、基板Ｂの基板電位Ｖｓｕｂ（Ｖ）との電位差を０Ｖ超２０Ｖ以下とする。 （もっと読む）

【課題】なるべくスプラッシュを発生させず、蒸発源に安定して供給できるシリコン材料を提供する。
【解決手段】薄膜を製造する際の蒸発源にシリコンを供給するために用いられる、棒状のシリコン材料であって、長軸方向に垂直な断面における中心から外周部に向かって、長さ９０％の位置に存在する、それぞれ粒界で囲まれた複数の第一領域と、前記中心から前記外周部に向かって長さ５０％の位置に存在する、それぞれ粒界で囲まれた複数の第二領域と、を含み、前記第一領域は長径の面積加重平均値が２００μｍ以下であり、かつ前記第二領域は、長径の面積加重平均値が１０００μｍ以上である、棒状のシリコン材料。 （もっと読む）

【課題】加飾層として、絵柄部分と絵柄背景部分の間に明確な段差が形成されていない金属薄膜を有する加飾シートを提供すること、及びそのような加飾シートを簡便な操作によって製造する方法を提供する。
【解決手段】被加飾物に固定可能な加飾層２を基体シート１の表面に有してなる加飾シートであって、該加飾層２は金属薄膜４を有し、該金属薄膜４は絵柄背景又は絵柄５として透明化部分４１を有している、加飾シート。 （もっと読む）

【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に、透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層を有機物により形成する工程、前記アンダーコート層上に、スパッタリング法により透明導電体層を形成する工程、および前記透明導電体層を、エッチングしてパターン化する工程を有することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】平滑性、硬化性が良好で、かつ過酷な条件下でも金属蒸着膜との付着性に優れた金属蒸着用アンダーコート層形成用被覆材組成物を提供する。
【解決手段】カプロラクトンにより変性されたモノ又はポリペンタエリスリトール（ポリ）（メタ）アクリレート化合物、分子中に少なくとも１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレート（但し（Ａ）以外の化合物）、ビニル系単量体の重合体又はビニル系単量体混合物の共重合体を含む金属蒸着用アンダーコート層形成用被覆材組成物。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性に優れるガスバリア性フィルム、このガスバリア性フィルムを用いた装置、このガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム１は、含有されるオリゴマー量が１質量％以下であるプラスチックフィルム２、プラスチックフィルム２上に設けられた紫外線硬化型樹脂からなる有機層３、及び有機層３の上に設けられた無機層４、を有し、有機層３の厚さが、プラスチックフィルム表面における最大高低差よりも大きくなっている。これによりガスバリア性に優れるガスバリア性フィルム１を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】照明器具において、変色原因のガスを確実に遮断することで、銀反射膜が変色し難くなり、高い反射率を維持する。
【解決手段】照明器具１は、基材３と、基材３に収容される反射鏡２と光源と、を備える。反射鏡２は、基材３上に設けられ、銀を有する銀反射膜８と、銀反射膜８の片面又は両面上に設けられる酸化物膜７、９と、酸化物膜７、９の銀反射膜８が配置されている側と反対側の面上に設けられる金属膜６、１０と、を備える。酸化物膜７、９は、酸化物膜７、９とそれぞれ接している金属膜６、１０が有する金属元素と同じ金属元素の酸化物を有する。反射鏡２は、高い密着性で銀反射膜８と第１酸化物膜７と第１金属膜６が順に接し、かつ、高い密着性で銀反射膜８と第２酸化物膜９と第２金属膜１０が順に接しているので、酸化物膜７、９と、酸化物膜７、９よりも緻密な金属膜６、１０の２種類の膜で変色原因のガスを確実に遮断することができる。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリング中におけるアーク放電抑制の失敗を無くすことができるスパッタリング用電源装置を提供すること。
【解決手段】 負極出力端子及び正極出力端子を有するスパッタリング用電源装置において、スパッタリング用直流電源ＰＳ１と、このスパッタリング用直流電源の負極側に設けられた第1のスイッチング手段ＳＷ１と、この第1のスイッチング手段に複数直列接続される互いに独立のチョークコイルＬ１〜Ｌ４と、この複数のチョークコイルと前記負極出力端子との間に設けられた逆方向アーク防止回路１３と、逆電圧発生用直流電源ＰＳ２と、この逆電圧発生用直流電源と前記複数直列接続された互いに独立のチョークコイルと逆方向アーク防止回路との中間位置との間に設けられた第２のスイッチング手段ＳＷ２と、前記負極出力端子と前記正極出力端子との間に発生する電圧を検出する電圧検出部Ｒ１，Ｒ２と、前記第1のスイッチング手段及び第２のスイッチング手段の開閉を制御する制御手段２１とから構成される。 （もっと読む）

【課題】酸化チタンを主体とする高屈折率膜の形成に用いる、成膜速度が高く、成膜時の基体表面の温度上昇を抑制することができるスパッタリングターゲットの提供。
【解決手段】 実質的にチタンおよびジルコニウムからなり、Ｚｒ/（Ｚｒ＋Ｔｉ）の比率が５〜５０原子％であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）