【課題】
優れた酸素遮断性能、水蒸気遮断性能、耐水密着性を有する蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムおよびガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】
上記課題は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリウレタン系樹脂（Ａ）を用いてなるアンカーコート層を有してなる蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムであって、
該蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムの示差走査熱量計測定で得られる結晶融解前の微小吸熱ピークが１８０℃以上２２０℃以下にあり、該ポリウレタン系樹脂（Ａ）がポリイソシアネート成分（Ａ１）と、ポリオール成分（Ａ２）を用いてなる樹脂であり、該ポリイソシアネート成分（Ａ１）が、芳香脂肪族ジイソシアネート（Ａ１Ａ）および／または脂環族ジイソシアネート（Ａ１Ｂ）を含み、該ポリオール成分（Ａ２）が、少なくともポリヒドロキシアルカン酸（Ａ２Ｃ）を含み、さらに、炭素数２〜６のアルカンポリオール（Ａ２Ａ）および／または炭素数２〜６のポリオキシアルキレングリコール（Ａ２Ｂ）含む蒸着用二軸配向ポリエステルフィルム、によって達成される。 （もっと読む）

【課題】フィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性を持ち、且つパターン形状が目立たないディスプレイあるいはタッチパネルに用いられる透明導電性積層体を提供する。
【解決手段】透明プラスチック基材１１の一方の面に、金属酸化物層１３、酸化ケイ素層１４及び酸化インジウム・スズ層１５を透明プラスチック基材１１側から順に設けてなる透明導電性積層体１０であって、金属酸化物層１３の屈折率が１．７以上２．６以下であり、光学膜厚が１２ｎｍ以上３５ｎｍ以下であり、酸化ケイ素層１４の屈折率が１．３以上１．５以下であり、光学膜厚が７０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、酸化インジウム・スズ層１５の光学膜厚が３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】ＤＬＣ膜をコストアップにならずに、導電性と耐食性の両方を備えた導電性基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材２と、基材２上に設けられた、ニッケル及びクロムを合計成分割合で３０〜７６モル％含有するダイヤモンドライクカーボン膜３とを有する導電性基材１により上記課題を解決する。ニッケルとクロムがモル比で１：１〜３：１であることが好ましい。このダイヤモンドライクカーボン膜３は、プラズマ化した昇華ガスをニッケル及びクロム原料に照射してニッケル及びクロムをイオン化し、且つ、前記昇華ガスに炭化水素ガスを接触させて該炭化水素ガスをイオン化し、イオン化したニッケル及びクロムと炭化水素ガスとを基材２上に堆積させて成膜する。 （もっと読む）

【課題】導電フィルムにおけるクラックの発生が抑制された合わせガラスを提供すること。
【解決手段】第１のガラス基板、第１の接着層、導電フィルム、第２の接着層、および第２のガラス基板がこの順に積層され、前記導電フィルムが、樹脂フィルム上に酸化物層と金属層とが交互に（２ｎ＋１）層（但し、ｎは１以上４以下の整数）積層された合わせガラスであって、前記酸化物層は、前記酸化物層を主として構成する酸化物に対する前記酸化物層に含有されるＨ原子のモル比に、前記酸化物層における全酸化物に対する前記酸化物層を主として構成する酸化物のモル比を乗じて算出されるＨ量が０．０３以下であるもの。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いた際のペン入力耐久性に優れ、特に後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製のペンを使用し、５．０Ｎの荷重で１０万回の摺動試験後でも透明導電性薄膜の劣化がない、透明導電性フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材上に、紫外線硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層、及び透明導電性薄膜をこの順に積層した透明導電性フィルムの製造方法であって、前記透明導電性フィルムに含有する揮発成分量が３０ｐｐｍ以下であり、紫外線照射による架橋反応の後に加熱処理を施す透明導電性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】所望の光学特性を有する光学部品の製造方法及び所望の光学特性を有する光学部品を提供する。
【解決手段】第１の中心軸Ｃ１回りに旋回している中心軸であって、第１の中心軸Ｃ１に対して傾斜している第２の中心軸Ｃ２回りに球状レンズ３２を旋回させながら、気相成長法により光学的機能膜３３を形成する。 （もっと読む）

【課題】外部リークをより少なくして真空状態を維持することができ、ロール交換時に巻き出し室や巻取り室を素早く大気圧状態に戻し、ロール交換後も素早く真空状態に戻すことができるフィルム製造装置を提供する。
【解決手段】フィルム製造装置１は、巻き出し手段６、巻き取り手段７、３つの反応室４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、フィルム搬送路５より構成され、フィルムが通過する少なくとも一の開口部を有する反応室内に配置され、かつ、開口部には、該フィルムを挟みながら封止することにより真空室を密封可能とする弁体を有するバルブ機構１１〜１６が具備されている。 （もっと読む）

前面、前面上の硬質コーティング、反射層、および硬質コーティングと反射層の間の中間帯を有するプラスチック基材を包含するプラスチックミラーであって、該中間帯が、金属および半金属、金属および半金属の酸化物および窒化物、ならびに炭素からなる群より選択される材料から形成される少なくとも１つの層を包含する、前記プラスチックミラー。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性を付与して耐久性を向上させることができ、また、フィルム基材の熱変形や正反射率の低下を防げ、フィルムの寸法安定性や表面平滑性を維持することのできるフィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽光集光用ミラーを提供する。
【解決手段】フィルムミラー１００は、a)フィルム基材４、b)金属からなる反射層３、c)金属からなる反射層３よりも光源側には酸化ケイ素層１、の少なくとも上記a)〜c)を構成中に含み、酸化ケイ素層１またはアルキル含有酸化ケイ素層２、酸化ケイ素を含むポリマー層は、光照射によって硬化させる。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供する。
【解決手段】透明基材１と、基材１上に順に配置された、紫外線吸収層２とハードコート層３とを有する透明体であって、紫外線吸収層２として、アモルファスなＴｉＯ_２膜を用いる。紫外線吸収層２とハードコート層３との間には、アモルファスなＴｉＯ_２と、ハードコート層を構成する材料との混合物からなる混合層４が配置されている。ＴｉＯ_２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ_２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。混合層４は、紫外線吸収層２とハードコート層３との密着性を高め、冷熱サイクルを受けた場合の膜剥がれを防止する。 （もっと読む）

【課題】異物が流出することによる不都合を防止した蒸着坩堝と、これを備えた蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料３を収容する坩堝本体８と、坩堝本体８の開口部８ａに着脱可能に被着された、蓋板部１２と筒部１３とを有する蓋９と、を備えた蒸着坩堝４である。蓋９には、蓋板部１２に蒸着材料３の昇華物又は気化物を通過させる流出口１２ａが設けられている。坩堝本体８の開口部８ａと流出口１２ａとの間には、蒸着材料３の昇華物又は気化物の流路の一部を遮断する邪魔板１４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】不純物を含まない良質な薄膜を成膜することができるスパッタリング装置、前記スパッタリング装置を用いた良質な薄膜の作製方法の提供する。
【解決手段】半導体材料に代表されるターゲット材と、前記ターゲット材と同じ材質の溶射物に被覆された部品を具備するスパッタリング装置を用いて、希ガスを含む雰囲気中で高周波電力を印加して、前記ターゲット材を用いて半導体層の成膜を行う発光装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】耐摩擦性に優れた車両用窓ガラスを提供する。
【解決手段】真空槽２０内に有機ケイ素化合物の気体を導入しながら蒸着源２１からＳｉＯ₂の蒸気を放出させ、ＰＣ基板２５表面に炭素を含有するシリコン酸化物薄膜から成る保護膜を形成する。この保護膜は、耐摩耗性が高く、ヘーズの値が小さい。ＰＣ基板２５を保持する基板ホルダ２３に交流電圧を印加しながら保護膜を形成すると、耐摩耗性と密着性が高くなる。また、真空槽２０内に導入した炭化ケイ素化合物のガスをプラズマ化して保護膜を形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】輝度を向上させることが可能なマイクロレンズアレイシートおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】光を透過する基板２と、前記基板２に配置されるとともに当該基板２と直交する光軸Ｚに沿う断面に弓形となる部位を含む第１層４および当該第１層４を覆う第２層５を備える複数のマイクロレンズ３と、を有するマイクロレンズアレイシート１であり、マイクロレンズ１の外壁面６には、マイクロレンズ３の前記光軸Ｚに沿う中心軸Ｘから幅Ｈ_ｃを有する基板側の端部である側部Ｓと、前記光軸Ｚと直交して前記側部Ｓを通る基端面Ｍから光軸方向へ高さＨ_ａを有する頂部Ｔと、前記側部Ｓと頂部Ｔの間に連続的に配置されて前記基端面Ｍと前記中心軸Ｘとの交点である基準点Ｐから長さＨ_ｎ（ｎ＝１：Ｎ）を有するＮ個の曲面部Ｋ_ｎと、が形成され、以下の２つの式：
Ｈ_ａ＞Ｈ_ｃ
Ｈ_ａ≧Ｈ_ｎ≧Ｈ_ｃ （ｎ＝１：Ｎ）
を満たす。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性及び透明性に優れるガスバリア性フィルムの製造方法、ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、基材を準備する基材準備工程と、基材の上に酸窒化珪素を含有するガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程とを有し、ガスバリア層形成工程におけるガスバリア層の形成を、キセノンガスを含む昇華ガスを用いたイオンプレーティング法を用いて行うようにすることにより、上記課題を解決する。本発明のガスバリア性フィルムは、ガスバリア層の組成を、Ｓｉを４２原子％以下、Ｎを３１原子％以上、Ｏを２７原子％以下、Ｃを２原子％以下とする（但し、Ｓｉ、Ｎ、Ｏ、Ｃそれぞれの含有率を合計すると１００原子％となる）ことにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れた耐候性及び耐摩耗性、耐擦傷性を有し、しかもシンプルで且つ低コストな工程によって量産可能な自動車用樹脂ガラスを提供する。
【解決手段】透明な樹脂基板１２の少なくとも一方の面上に積層形成されたハードコート層１４を、真空蒸着重合によって形成された有機高分子薄膜１６を含んで構成した。 （もっと読む）

【課題】機能性微粒子の純度を高めつつ、機能性微粒子を含む機能膜を基材の表面に安定して形成すること。
【解決手段】開放型で不活性ガスを用いて雰囲気制御を行うヘッド２４を用いて、液中の機能性微粒子４をミストジェット技術にて所望の分布で基板３上に吐出させる工程と、その後に大気圧プラズマ化学輸送法により薄膜８を成膜させる工程とを交互に繰り返す。 （もっと読む）

【課題】長時間経過後のガスバリア性に優れるガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】ポリエステル系樹脂基材１と、ポリエステル系樹脂基材１上に設けられた有機化合物層２と、有機化合物層２上に設けられた無機化合物層３とを有し、有機化合物層２が、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで重合した層であるように構成して上記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】絶縁特性に優れた絶縁膜を高い成膜レートで成膜することができる絶縁膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る絶縁膜の成膜方法においては、反応性ガスとして、窒素と酸素の混合ガスが用いられる。酸素に窒素を混合することで成膜レートが上昇し、窒素の流量比が８０〜８５％のときに成膜レートの最大値が得られる。このときの成膜レートは、窒素の流量比が０％のときの約２倍である。窒素の流量比が９０％を超えると、成膜レートの低下が顕著となる。得られたシリコン酸窒化膜は、スパッタリング法で成膜されたシリコン窒化膜よりも高い絶縁耐圧特性を有する。したがって、上記成膜方法によれば、スパッタリング法によって絶縁特性に優れた絶縁膜を高い成膜レートで成膜することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】金属元素を含有したダイヤモンドライクカーボン膜を安定して且つ低コストで成膜できる導電性基材の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】プラズマ化した昇華ガス２５を金属元素を含有する蒸着原料に照射して該蒸着原料をイオン化し、且つ、前記プラズマ化した昇華ガスに炭化水素ガス３６を接触させて該炭化水素ガスをイオン化する同時イオン化工程と、前記同時イオン化工程でイオン化した前記蒸着原料イオンと前記炭化水素ガスイオンとを基材上に同時に堆積させて、前記金属元素を含有するダイヤモンドライクカーボン膜を成膜する成膜工程と、を有する方法とする。同時イオン化工程において、炭化水素ガスのイオン化を、プラズマ化した昇華ガスを蒸着原料に照射する昇華ガス流路で行う。 （もっと読む）