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Fターム[4K029AA21]の内容

物理蒸着 (93,067) | 基体 (14,066) | 形状 (5,788)

Fターム[4K029AA21]の下位に属するFターム

粒、粉、球 (90)
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容器体 (33)
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Fターム[4K029AA21]に分類される特許

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【課題】三次元網目構造を有する多孔質樹脂成形体であっても、その表面へのアルミニウムのめっきを可能としてアルミニウム構造体を形成することが可能な方法、および特に大面積のアルミニウム多孔体を得ることが可能な方法を目的とする。
【解決手段】樹脂成形体の表面に金、銀、白金、ロジウム、ルテニウム及びパラジウムからなる群より選択される1種以上の貴金属からなる導電層を形成する導電化工程と、導電化された樹脂成形体にアルミニウムを溶融塩浴中でめっきするめっき工程とを備えるアルミニウム構造体の製造方法とした。金属層として1μm〜100μmの厚さのアルミニウム層を有するアルミニウム構造体であって、該金属層はアルミニウムの純度が90.0%以上、金、銀、白金、ロジウム、ルテニウム及びパラジウムの合計量が0.01%以上10%以下、残部不可避不純物からなるアルミニウム構造体を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】比較的簡単な構造で、被蒸着物の装着位置による膜厚差を低減することができる蒸着治具及びこれを備えた蒸着装置等を提供すること。
【解決手段】可動ホルダ34が、基板ホルダ31の外周側において、装着された基板20を周方向に所定の角度に傾斜させているため、平板では球面から距離が離れやすい外周側であっても基板ホルダ31内の基板20に設けられた被蒸着物DSに略均一な膜厚で蒸着することができる。また、可動ホルダ34によって基板20を傾斜させる構造であるため、簡単な構造とすることができる。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性に優れた切削工具を提供する。
【解決手段】切削工具の基材は、超硬合金、サーメット、又はセラミックで形成されており、この基材上にTi及びAlを含有するセラミック被膜が形成されている。この切削工具は、セラミック被膜の表面における結晶粒子の平均面積をSとし、セラミック被膜の膜厚をtとしたとき、S/t2≧0.03であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高硬度鋼の高速切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Ti,Al,Si)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Ti,Al,Si)Nからなる薄層Aと柱状晶(Ti,Al,Si)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、上記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、上記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】転がり軸受の内・外輪軌道面などに形成されたDLC膜の耐剥離性を向上させ、DLC膜本来の特性を発揮することで、耐焼き付き性、耐摩耗性、および耐腐食性に優れる転がり軸受を提供する。
【解決手段】転がり軸受1は、外周に内輪軌道面2aを有する内輪2と、内周に外輪軌道面3aを有する外輪3と、内輪軌道面2aと外輪軌道面3aとの間を転動する複数の転動体4とを備え、曲面である内輪軌道面2aや外輪軌道面3aの表面に硬質膜8が成膜されてなり、この硬質膜8は、該表面に直接成膜されるCrを主体とする下地層と、該層の上に成膜されるWCとDLCとを主体とする混合層と、該混合層の上に成膜されるDLCを主体とする表面層とからなる構造の膜であり、混合層は、下地層側から表面層側へ向けて連続的または段階的に、WCの含有率が小さくなり、DLCの含有率が高くなる層である。 (もっと読む)


【課題】難削材の高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Ti,Al,M)N(但し、Mは、NbまたはTa)からなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Ti,Al,M)Nからなる薄層Aと柱状晶(Ti,Al,M)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、前記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、前記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】長期間の使用にわたって、すぐれた耐摩耗性を発揮する合金鋼製エンドミル、表面被覆合金鋼製エンドミルを提供する。
【解決手段】質量%で、C:2.0〜3.0%、Si:3.5〜6.0%、Mn:1.0%以下、Cr:3.5〜4.0%、WおよびMoのうちの1種または2種の合計:10.0〜12.0%、V:3.0〜3.5%、Co:4.0〜5.0%、残部はFeおよび不可避不純物からなる高温焼戻し軟化抵抗性を有する合金鋼で工具基体を構成した合金鋼製エンドミル、表面被覆合金鋼製エンドミル。 (もっと読む)


【課題】切刃に対して高負荷が作用する乾式断続重切削加工や乾式連続高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金焼結体からなる切削工具基体表面にCrN層からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、CrN結晶粒の粒径幅が小さい領域Iと、粒径幅がこれより大きい領域IIとから硬質被覆層を構成し、かつ、領域Iの微細粒子と領域IIの粗大粒子の結晶方位のずれが15度以下となる縦区分の面積割合を60%以上とし、乾式断続重切削加工、乾式連続高送り切削加工において、すぐれた高温強度、耐欠損性、靭性を発揮させる。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速高送り切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Ti,Al,B)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Ti,Al,B)Nからなる薄層Aと柱状晶(Ti,Al,B)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、前記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、前記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】鋼、鋳鉄等の鉄系材料の切削加工において、すぐれた密着性、付着強度、靭性、耐熱衝撃性、耐摩耗性を発揮する複合硬質膜を被覆形成した表面被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】 工具基体の表面に、WCとTiNの複合硬質膜からなる中間層およびTiNとcBNの複合硬質膜からなる上部層を被覆形成した表面被覆切削工具において、中間層の工具基体側ではWC含有比率が高く(好ましくは、WC/(WC+TiN)=0.6〜0.9。但し、体積比)、上部層側ではTiN含有比率が高くなる(好ましくは、TiN/(WC+TiN)=0.7〜0.9。但し、体積比)組成傾斜構造を備え、また、上部層の中間層側ではTiN含有比率が高く、表層側ではcBN含有比率が高くなる組成傾斜構造を備える。 (もっと読む)


【課題】 皮膜密着性に優れた表面被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 母材の表面に物理蒸着によって硬質皮膜が被覆された被覆部材であって、前記硬質皮膜は、ダイヤモンドライクカーボン皮膜と、該ダイヤモンドライクカーボン皮膜と母材との間にあって、母材側から前記ダイヤモンドライクカーボン皮膜に向かってチタンの含有量が減少していくチタンと炭素の混合傾斜皮膜とからなり、該混合傾斜皮膜中のチタン量と炭素量は、膜厚方向のグロー放電発光分光分析によるそれぞれの最大ピーク強度をITi、Iとした時に、1.2<I/(ITi×10)<2.0の関係を満たす皮膜密着性に優れた被覆部材である。1.3<I/(ITi×10)<1.5であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 上層の結晶粒の脱落抑制効果によって中間層と上層との密着性を向上させた硬質皮膜被覆工具、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基体上に物理蒸着法により形成した硬質の下層、中間層及び上層を有し、上層は(AlxCry)cOdにより表される組成を有するととにもTC(012)が1.3以上のα型結晶構造を有し、中間層は酸素濃度が下層側から上層側にかけて増加するとともに窒素濃度が下層側から上層側にかけて減少する傾斜組成を有し、その平均組成が(AlsCrt)a(NvOw)bにより表される硬質皮膜被覆工具。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低温環境下で防寒用として用いられる、軽量で、柔軟性、耐摩耗性、快適性、形態保持性および長時間の保温耐久性に優れた使い捨てカイロを提供することを目的とするものである。
【解決手段】不織布を基材としたカイロ用部材シートであり、前記不織布の片面に金属膜が形成されていることを特徴とするカイロ用部材シート。 (もっと読む)


【課題】切刃に対して高負荷が作用する乾式断続重切削加工や乾式連続高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金焼結体からなる切削工具基体表面にCrAlN層からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、CrAlN結晶粒の粒径幅が小さい領域Iと、粒径幅がこれより大きい領域IIとから硬質被覆層を構成し、かつ、領域Iの微細粒子と領域IIの粗大粒子の結晶方位のずれが15度以下となる縦区分の面積割合を60%以上とし、乾式断続重切削加工、乾式連続高送り切削加工において、すぐれた高温強度、耐欠損性、靭性を発揮させる。 (もっと読む)


【課題】比較的簡便な方法により、基板面上に形成された柱状構造物の配向方位角を均一に近づける製膜装置を提供する。
【解決手段】製膜装置1は、基板200上に形成される膜を構成する膜材料を供給する膜材料源14と、膜材料源及び基板を設置するための空間11aを規定すると共に、空間を真空に維持することが可能な真空槽11と、空間において、基板の少なくとも一部が膜材料源の少なくとも一部と対面するように基板を保持する保持手段121と、基板が一の方向に沿って移動するように保持手段を移動する移動手段123と、基板及び膜材料源間に配置され、一の方向と交わる方向である他の方向に沿って延在する開口部122aを有するスリット板122とを備える。開口部の端部は、スリット板の面内においてずらし、他の方向から開口部を通過する膜材料の他の方向の角度分布の広がりを抑制する。 (もっと読む)


【課題】剥離し難く、かつ積層数に依存することなく、100N以上のスクラッチ強度を有し、積層間隔ならびに層比率を変化させることで、ヤング率、硬度などを制御でき、チッピング、部分クラックなどの欠けはほとんど生じない被膜形成方法を提供する。
【解決手段】基材1の表面にダイヤモンドライクカーボン膜3をコーティングするコーティング被膜の形成方法であり、加熱しながらプレスパッタリングを行いターゲット材料の表面及び基材1の表面の汚れを除去する前処理工程Aと、ターゲット材料を用いて基材1の表面にスパッタリングによりインターレイヤーを成膜して中間層2を形成する層形成工程Bと、中間層2の表面にダイヤモンドライクカーボン膜3を成膜するコーティング工程Cとを有する。 (もっと読む)


【課題】内燃機関用中実ピストンピンにおいて、表面処理に際して、1本ずつ治具に挟んで処理で、1バッチに処理可能な本数が少なく、能率が低かった。そこで、複数個の中実ピストンピンに、同時に表面処理を施す手段を提供する。
【解決手段】ピストンピン1の中心部を中実に形成するとともに、両端面に間隔保持用治具3が係合する凹部2を形成した。間隔保持用治具3は、上下に円錐を重ねた形状、即ちそろばん玉形状、を呈している。ピストンピン1の凹部2は円柱状の穴よりなり、端部に間隔保持用治具3と係合する円錐状の面取り部が形成されている。ピストンピン1と間隔保持用治具3とを交互に表面処理用治具4に装着して表面処理を行う。 (もっと読む)


【課題】本発明は、スパッタ装置の処理能力を損なうことなく、スパッタに異常がないときは金属薄膜の反射率を面内で均一にすることができる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本願の発明にかかる半導体装置の製造方法は、シリコン基板にスパッタ成長により金属膜を形成する第1スパッタ工程と、該第1スパッタ工程の後に該第1スパッタ工程よりも高いDCパワーでさらに金属膜をスパッタ成長させる第2スパッタ工程と、該第1スパッタ工程と該第2スパッタ工程の後に、該第1スパッタ工程および該第2スパッタ工程で形成された金属膜の反射率の均一性を測定する検査工程とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、下部層に(AlTi)N層または(AlTiM)N層を形成し、上部層に立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてX線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のNbNの(200)面からの回折ピーク強度をIc、また、六方晶構造のNbNの(103)面と(110)面からの回折ピーク強度をIhとした場合、0.05≦Ic/Ih≦1.0を満足する回折ピーク強度比を有する層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】蒸発面の内側領域において、局部的な集中をなくして全体に均等にアークスポットが移動することにより、蒸発源が均等に消耗し、利用効率がよくなるアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】蒸発源5の端面から内方に所定幅の端部領域を除く内側領域表面の磁束密度が7〜10mTであり、端部領域表面の磁束密度が内側領域表面の磁束密度よりも3mT以上大きく、蒸発面11における磁力線は、蒸発面の法線に対する角度θが0°<θ<20°であり、端部領域表面では内側領域に向けて傾いており、内側領域の磁束密度は、標準偏差が3以下である。 (もっと読む)


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