鋳鉄または鋼で作製されているのが好ましいスライド要素、とりわけピストンリングは、ＣｒＮ層（１４）およびａ−Ｃ：Ｈ：Ｍｅ層（１６）が交互に重なり合った多重層を有するコーティングを備える。鋳鉄または鋼で作製されているのが好ましいスライド要素、とりわけピストンリングをコーティングするための方法では、複数のＣｒＮ層とａ−Ｃ：Ｈ：Ｍｅ層が交互に設けられる。 （もっと読む）

【課題】装置構成の大型化、複雑化を回避しつつ、三次元曲面形状の成膜領域に均一な膜質で蒸着膜を形成することができるワークの位置決め装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る位置決め装置１３は、回転対称な三次元曲面形状の成膜領域を有するワークを成膜するために用いられ、ワークＷを支持する支持体３０と、支持体３０を回転及び傾動させる回転機構及び傾動機構と、これら回転機構及び傾動機構を制御する制御部１６とを有する。上記回転機構は、ワークＷの回転対称軸ａｘ１の回り（θ方向）に支持体３０を回転させ、上記傾動機構は、蒸着粒子ｐ１の入射方向（Ｚ軸方向）と直交する軸ａｘ２の軸回り（ψ方向）に支持体３０を傾動させる。制御部１６は、ワークＷに対する蒸着粒子ｐ１の入射位置を調整するために、上記回転機構及び上記傾動機構を制御する。 （もっと読む）

【課題】ブラスト処理を行っても蓋と本体との磁力による吸引力の著しい低下を防ぐことができるマスキング装置を提供すること。
【解決手段】ブラスト処理によって本体１０の磁性が劣化しても、磁力補強板３０を本体１０の下面１０ｂに追加的に配置することにより、本体１０の磁性劣化を補償して回復させることができる。そのため、マスキング装置１００を繰り返し多数回使用できるため、新しく作製する必要性を極めて低減することができる。これにより、試作設備や生産設備等におけるマスキング装置１００のセットの再段取りによる工数の増加や新しいマスキング装置１００の作製によるコストを抑えることができる。また、本体１０に磁力補強板３０を取り付ける構成のため、磁性劣化から再生までの期間を短くすることができる。 （もっと読む）

ナノ粒子とポリマー材料との組み合わせをチャンバー内にある表面にイオン化又は活性化技術、特にプラズマ処理、を使って適用することを含む、基材上に撥液性表面を形成するための方法。 （もっと読む）

金属基材用のニッケルアルミナイド系コーティングシステムは、コーティング前駆体（２２）から成り、コーティング前駆体（２２）は、第１のソースから得た金属基材（２０）に重層させたニッケル及び合金元素から成る層（２４ａ）と、第２のソースから得た金属基材（２０）に重層させたアルミニウム層（２６）とを含み、該コーティング前駆体の適切な処理の後に形成されたコーティングに重層させた、セラミック遮熱コーティングを含む。ニッケルアルミナイド系コーティングを形成する方法は、コーティング前駆体のアルミニウム含有量の大半部分を提供するソースと、ほぼ全てのニッケルを提供する個別のニッケル合金ソースと、コーティング前駆体の追加の合金元素とを設けるステップを含む。陰極アーク（イオンプラズマ）蒸着法を用いてもよい。コーティング前駆体は、個別の層の形で、又は共蒸着処理により設けることができる。
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【課題】高面圧が外周摺動面に加わった場合であっても、硬質炭素膜の剥離を著しく低減できるピストンリングを提供する。
【解決手段】ピストンリング基材１と、ピストンリング基材１の少なくとも外周摺動面に設けられた下地膜２と、下地膜２上に設けられた厚さ１μｍ以上７μｍ以下の硬質炭素膜３とを有する。第１のピストンリング１１は、その下地膜２が、ピストンリング基材１上に設けられたＣｒ膜２ａと、Ｃｒ膜２ａ上に設けられたＣｒ−Ｎ膜２ｂとからなるように構成し、第２のピストンリング１２は、その下地膜２が、ピストンリング基材１上に設けられた第１Ｃｒ膜２ａと、第１Ｃｒ膜２ａ上に設けられたＣｒ−Ｎ膜２ｂと、Ｃｒ−Ｎ膜２ｂ上に設けられて硬質炭素膜３の厚さを１００としたときの厚さが２〜５の範囲の第２Ｃｒ膜２ｃとからなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】高温環境下での耐摩耗性および耐溶着性に優れた被膜、その被膜を含む切削工具およびその被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化物層を少なくとも１層含む被膜であって、酸化物層の組成は、以下の式（１）で表わされ、
（Ａｌ_１−ｘＺｒ_ｘ）_２Ｏ_{３（１＋ｙ）} …（１）
式（１）において、ｘは０．０１≦ｘ≦０．０７を満たす実数であり、ｙは−０．１≦ｙ≦０．２を満たす実数であって、酸化物層はγ−アルミナ型の結晶構造および非晶質構造を有する被膜である。また、その被膜を含む切削工具と、その被膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高温環境下での耐摩耗性および耐溶着性に優れた被膜、その被膜を含む切削工具およびその被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化物層を少なくとも１層含む被膜であって、酸化物層の組成は、以下の式（１）で表わされ、
（Ａｌ_１−ｘＺｒ_ｘ）_２Ｏ_{３（１＋ｙ）} …（１）
式（１）において、ｘは０．００１≦ｘ≦０．０５を満たす実数であり、ｙは−０．１≦ｙ≦０．２を満たす実数であって、酸化物層はγ−アルミナ型の結晶構造を有する被膜である。また、その被膜を含む切削工具と、その被膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高温環境下での耐摩耗性および耐溶着性に優れた被膜、その被膜を含む切削工具およびその被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】切削工具の基材上に形成される被膜であって、第１酸化物層と第１酸化物層上に形成された第２酸化物層との積層体を含み、第１酸化物層は第２酸化物層よりも基材側に位置しており、第１酸化物層はα−アルミナ型の結晶構造を有し、第２酸化物層の組成は、以下の式（１）で表わされ、
（Ａｌ_１−ｘＺｒ_ｘ）_２Ｏ_{３（１＋ｙ）} …（１）
式（１）において、ｘは０．００１≦ｘ≦０．５を満たす実数であり、ｙは−０．１≦ｙ≦０．２を満たす実数であって、第２酸化物層は非晶質である被膜である。また、その被膜を含む切削工具と、その被膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供する。
【解決手段】透明基材１と、基材１上に順に配置された、紫外線吸収層２とハードコート層３とを有する透明体であって、紫外線吸収層２として、アモルファスなＴｉＯ_２膜を用いる。紫外線吸収層２とハードコート層３との間には、アモルファスなＴｉＯ_２と、ハードコート層を構成する材料との混合物からなる混合層４が配置されている。ＴｉＯ_２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ_２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。混合層４は、紫外線吸収層２とハードコート層３との密着性を高め、冷熱サイクルを受けた場合の膜剥がれを防止する。 （もっと読む）

【課題】３５０ｎｍ以上の粒径を有する大型金微粒子を多数生成できる金微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】金からなるターゲットをレーザアブレーション装置のチャンバ内に配置する。続いて、チャンバ内に０．７以上の換算密度を有する超臨界トリフルオロメタンを収納する。続いて、ターゲットにレーザ光を照射して、レーザアブレーションにより前記ターゲットから金微粒子を生成する。超臨界流体としてトリフルオロメタンを選択し、かつ、超臨界流体の換算密度を０．７以上とすることにより、大型金微粒子が多数生成される。 （もっと読む）

【課題】曲面を有する基板に対して成膜の均一性を向上させるために、マスクや遮蔽板を用いることなく基板の角度を変える方法を用いた技術において、成膜工程ごとに角度変更のための部材（ギヤ等）を交換しなければならず、成膜中に所望の角度に変更したい時に変更することが困難であった。
【解決手段】スパッタリング等の成膜装置で、基板を自転するための第１回転機構、基板の中心線と薄膜形成手段の中心線によりなす角度を変更する角度変更手段、
基板を薄膜形成手段の中心線の回りで公転するための第２回転機構を有し、薄膜形成中に、自公転する基板に対して、膜厚計測手段の計測結果に基づいて角度変更手段を駆動させ、基板の薄膜形成手段に対する角度を変更させながら成膜する構造を有する。 （もっと読む）

【課題】凹面レンズに膜厚ムラの無い反射防止膜を成膜する。
【解決手段】ターゲット１０に平行に設置された膜厚調整用のマスク２を介して、スパッタ法によって凹面レンズ１に反射防止膜を成膜する。マスク２は、凹面レンズ１のレンズ口径Ｄより小さい開口径Ａを有する円形の開口部２ａを備える。マスク２の開口部２ａを、凹面レンズ１の端縁における接平面の内側に配置して、凹面レンズ１を自転させながら成膜することで、曲率半径Ｒの小さい凹面レンズ１に対する膜厚の均一化を図る。 （もっと読む）

【課題】超硬合金からなる基材の表面を特定の凹凸面とすることで、基材と硬質膜との密着性を向上させた新規の被覆超硬合金部材を提供する。
【解決手段】被覆超硬合金部材は、炭化タングステンを含む硬質相１２および遷移金属を含む結合相１１からなる超硬合金からなる基材１０と、基材１０の表面に被覆された硬質膜２と、を備える。硬質膜２が被覆された基材１０の表面は、硬質相１２が消失してなる凹部１２⁻をもつ凹凸面１０ｆであり、ＷＣの平均粒径をＸ［μｍ］、凹部１２⁻の最大深さをＹ［μｍ］、凹凸面１０ｆにおける結合相１１の面積率をＺ［％］としたとき、Ｘ、ＹおよびＺの値を所定の範囲内とすることで、アンカー効果により基材１０の表面と硬質膜２との密着性が向上する。 （もっと読む）

本発明は、コーティング及び基材を含み、該基材上にＰＶＤ堆積法を用いてコーティングが堆積された被覆物体の製造方法に関する。コーティングは、周期律表の第ＩＶｂ族、第Ｖｂ族、第ＶＩｂ族、ならびに、Ａｌ、Ｙ及びＳｉから選ばれる１種以上の元素の窒化物、炭化物、酸化物、ホウ素化物又はそれらの混合物を含む。堆積方法は、活性ターゲットを維持しながら、基材バイアス電圧を変化させる少なくとも１つのシーケンスを含み、ここで、基材バイアス電圧を変化させるシーケンスはサブシーケンスＳ_i；−第一の基材バイアス電圧Ｂ_iにて１０秒間〜６０分間の堆積時間Ｔ_iの間堆積させ、その後、１０秒間〜４０分間の傾斜時間Ｒ_iの間堆積させながら、基材バイアス電圧を徐々に第二の基材バイアス電圧Ｂ_i+1（│Ｂ_i−Ｂ_i+1│≧１０Ｖ）に変化させることを含み、ここで、サブシーケンスＳ_iをｉ＝ｎとなるまで繰り返し、ここで、ｉ＝０，１，２，．．．ｎであり、ｎ≧２であり、各新規のサブシーケンスは前のサブシーケンスが終わるときに使用されていたのと同一の基材バイアス電圧で堆積を開始する。
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【課題】成膜装置および成膜方法において、成膜を繰り返しても、顆粒材料の形状を正確に制御することにより基板ごとの膜厚のバラツキを低減することができるようにする。
【解決手段】真空槽２内で、顆粒材料６をターゲット材料として基板４上に薄膜を成膜する成膜装置１であって、基板４に向かい合う位置に顆粒材料６を集積させて保持する保持容器５と、保持容器５に集積された顆粒材料６の集積表面を一定形状に整形する整形機構１２を備える。 （もっと読む）

【課題】高硬度材の高速切削加工で、すぐれた耐酸化性と潤滑性を備えることにより、耐チッピング性、仕上げ面精度の向上を図った表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ超硬合金、ＴｉＣＮ基サーメット、ｃＢＮ基超高圧焼結材料からなる工具基体の表面に、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の少なくとも一層からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、上記硬質被覆層の最表面に、１００〜５００ｎｍの膜厚の非晶質二酸化珪素膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の両面へ同時に膜厚分布の均一性に優れた薄膜を形成する。
【解決手段】対向する一対のターゲット間の成膜空間に、光学素子１２を保持する保持手段４が配置される。保持手段４は、光学素子１２を保持するパレット１１と、パレット１１を保持するキャリア５と、キャリア５の外周部５ａのみを保持して回転駆動力を伝達するベース６と、を有する。駆動ギア８によってキャリア５を回転させて各パレット１１を公転させると同時に、各パレット１１の外周部１１ａをベース６の内周部６ａに接触させることによって、パレット１１を自転させる。このようにしてパレット１１を自公転させながら、光学素子１２の両面に同時にスパッタリング成膜を行なう。 （もっと読む）

【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明は、基材と、該基材上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、Ａｌ_aＴｉ_bＳｉ_cＮ（ただし、０．３≦ｂ≦０．６５、０．０２≦ｃ≦０．１５、ａ＋ｂ＋ｃ＝１）からなるＡ層と、Ａｌ_dＣｒ_eＮ（ただし、０．２≦ｅ≦０．５、ｄ＋ｅ＝１）からなるＢ層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、Ａ層の厚みをλａとし、Ｂ層の厚みをλｂとすると、互いに接しているＡ層およびＢ層の厚みの比であるλａ／λｂの値は、基材に最も近い位置においては１．０≦λａ／λｂ≦１．７であり、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および／または段階的に減少し、被覆膜の最表面に最も近い位置においては０．６≦λａ／λｂ≦１．０となる表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】絶縁基板との接着性及びエッチング性の両方に優れ、ファインピッチ化に適し、製造コストが良好なプリント配線板用銅箔を提供する。
【解決手段】銅箔基材と、該銅箔基材表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備えたプリント配線板用銅箔であって、該被覆層は、銅箔基材表面から順に積層した、ＮｉとＶとを含むＮｉ−Ｖ合金層及びＣｒ層で構成され、前記Ｃｒ層にはＣｒが１５〜２１０μｇ／ｄｍ²、前記Ｎｉ−Ｖ合金層にはＮｉ及びＶの合計が２０〜４４０μｇ／ｄｍ²の被覆量でそれぞれ存在し、前記Ｎｉ−Ｖ合金層中にＶが３〜７０重量％存在するプリント配線板用銅箔。 （もっと読む）