【課題】 浅い打ち込みを実現することができるイオン注入方法およびイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 本発明のイオン注入方法は、被処理体４１０に不純物を打ち込むためのイオン注入方法であって、
前記被処理体４１０から離間された緩衝板３０を介して該被処理体４１０に前記不純物を打ち込む。また、本発明において、前記緩衝板３００は、加速されたイオンが前記被処理体４１０に到達するまでの経路に配置されていることができる。 （もっと読む）

【課題】反射防止性能を有するだけでなく、吸収が少なく、耐摩耗性及び帯電防止効果に優れた良好な光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、該多層反射防止膜中の少なくとも１層が、炭化金属、窒化金属、及び炭・窒化金属から選ばれる1種以上の無機物質よりなる帯電防止層である光学部材とする。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバー内の基板以外の箇所に堆積した有機膜の剥がれを防止することができ、長時間の連続蒸着が可能な有機膜形成装置を得る。
【解決手段】 真空チャンバー内で蒸着源１から有機材料を蒸発させて真空蒸着法により基板２上に有機膜を堆積して形成する有機膜形成装置において、真空チャンバー内で有機膜が堆積する前記基板２以外の部分の少なくとも一部の上に、付着した有機材料７を保持するための多孔板６ａ〜６ｃが設けられていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層における柱状結晶の成長状態が均一で、画質ムラがない蛍光体シートを製造することができる蛍光体シート製造装置の提供。
【解決手段】真空チャンバ１２と、真空チャンバ内を、側面に設けられた排気口を介して排気する真空排気手段と、容器に収納された蓄積性蛍光体層の成膜材料を抵抗加熱によって加熱し、容器の開口部から成膜材料の蒸気を放出させる抵抗加熱手段と、抵抗加熱手段の上方において、基板を保持する基板保持手段１４と、蛍光体層の成膜中に、真空チャンバ内の真空度を調整するために、少なくとも１つのガス導入口を介して真空チャンバ内に不活性ガスを導入するガス導入手段とを有する。ガス導入口６０ａ，６２ａの縁部と排気口の縁部とを直線的に結んで形成される第１の領域と、抵抗加熱手段の容器の開口部の縁部と基板Ｓの縁部とを直線的に結んで形成される第２の領域とが交わらないようにガス導入口が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 Ａｌを主成分とする主導体層をより低抵抗に維持すると同時に、一括のウェットエッチングでパターニングでき、主導体層の耐熱性、特にヒロック耐性が確保される新規の薄膜配線層を提供する。
【解決手段】 基板上にＮｉを主成分とする面心立方格子構造を有する下地層を、該下地層上に主成分が９９原子％以上のＡｌからなる主導体層を形成した薄膜配線層である。また、前記Ｎｉを主成分とする下地層の層厚が５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である薄膜配線層である。また、前記Ｎｉを主成分とする下地層は、添加元素として（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ｇｅ）から選択される１種または２種以上の元素を７〜３０原子％含有し、残部が不可避的不純物およびＮｉからなる薄膜配線層である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高蒸着速度の電子ビーム物理的蒸着による燃料電池用の酸化物層の製造方法を提供し、またそのようにして製造された固体酸化物電解質を提供し、さらにこの固体酸化物電解質を使用した燃料電池を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、固体酸化物電解質燃料電池の製造方法であって、この方法は、酸化物電解質が付着形成されることになる基板を１１００℃以上まで加熱し、酸素等のプロセスガスが存しない約１０^−３ｍｍＨｇ以下の圧力に排気されたチャンバ内で酸化物供給源の表面に対し電子ビームを照射してチャンバ内に酸化物を蒸発させ、酸化物が予熱基板に付着するチャンバ内に、予備加熱した基板を配置することからなる。燃料電池の酸化物電解質は、柱状の酸化物微細構造を有している。 （もっと読む）

【課題】単一ウェハを処理するハイブリッド走査型イオン注入装置であって、均一注入ができて、単純な構造で、耐久性、及び信頼性に優れた装置を提供する。
【解決手段】ウェハは、第１のピボット１５０に接続され途中で曲げられたアーム１１０の一端に第２のピボット１４０によって取り付けられたウェハホルダ１２０に載置される。ウェハは第２のピボットによって任意の角度にチルトされ、かつ第１のピボットによって円弧状に機械的走査される。電流密度を第１のピボットからの距離に比例させたリボンビーム２０をコリメータによって形成し、ウェハに照射することにより均一な注入を行なう。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の向上したプラスチック製眼鏡レンズを提供すること。
【解決手段】レンズ基材と、レンズ基材の物体側の面及び眼球側の面に反射防止膜を備え、物体側の面に備えられた反射防止膜が圧縮応力を有し、かつ眼球側の面に備えられた反射防止膜が、物体側の面に備えられた反射防止膜に比べ小さい圧縮応力を有することを特徴とする。圧縮応力が高いと耐熱性は高くなるが、生産性を低下させる。そのため物体側の面は高い圧縮応力を持つ反射防止膜を形成し、眼球側の面は物体側の面に比べ小さい圧縮応力を有する反射防止膜を形成することによって、耐熱性と生産性を両立することができる。 （もっと読む）

【課題】 膜厚の制御が精度良く行えるとともに蒸着処理能力を向上し得ることができる蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸着用誘導管６に介在された第１ストップバルブ５と、蒸発用容器４から蒸着用容器３に接続されて蒸発材料の一部を調整用として取り出す調整用誘導管８と、調整用誘導管８に介在された第２ストップバルブとを具備し、ガラス基板１の交換作業を行う際、第２ストップバルブ７を開いて蒸発用容器４内の高濃度の蒸発材料を放出した後、第１ストップバルブ５を開いて蒸発用容器４から通常濃度となった蒸発材料を放出させることにより、蒸発用容器４内を短時間で定常状態とすることができるとともに通常濃度の蒸発材料をガラス基板１に付着させることができるため、蒸着処理能力を向上し得ることができるとともに膜厚の制御を精度良く行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 斜方蒸着による問題を解消する斜方蒸着治具を提供する。
【解決手段】 少なくとも、ベースと、ワークを固定するテーブルと、ベースにテーブルを回転可能に固定するベアリングと、テーブルの回転角を確認するための目盛と、テーブルを固定するための手段と、蒸着規制用マスクと、蒸着面以外を覆う防着部材を具備する斜方蒸着治具とする。さらにテーブルのワーク固定面の複数箇所に磁石を固定し、蒸着規制用マスクは磁性体で形成し、外周には補強リングを設ける。 （もっと読む）

【課題】 安定した高品質の有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】 凹凸面を有する透明基板の上にスパッタリング装置を用いて透明電極として機能する透明導電膜を形成する工程を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、スパッタリング装置は透明基板を支持する基板電極とターゲットを支持するターゲット電極とを備えるものであって、透明導電膜を形成する工程は、基板電極とターゲット電極のそれぞれに高周波電力を供給する。 （もっと読む）

【課題】 高品位の結晶性を有し、優れた光・電気特性を示すβ−FeSi₂を高効率で得ることができ、しかも広範囲な基板への集積が可能な低温での合成が簡便に行える、工業的に有利なβ−FeSi₂の製造方法を提供する。
【解決手段】 レーザーアニーリングによりβ−FeSi₂種結晶を有する薄膜からβ−FeSi₂を製造する方法において、該レーザーアニーリングを、β−FeSi₂種結晶を有する薄膜表面の少なくとも一部が液相状態となる条件下で行う。好ましくは、レーザーアニーリングに用いる照射レーザーフルエンスを０．３J/cm²〜１．５J/cm²、パルスレーザー光の照射回数が１〜１００ショットとする。 （もっと読む）

基板洗浄装置は、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種との第一比率を有する活性ガスを形成するために水素含有ガスを遠隔励起するリモートソースを有する。本装置は、基板支持体と、遠隔励起ガスをろ過して、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種の第二比率を有し、第二比率が第一比率と異なる、ろ過された励起ガスを形成するイオンフィルタと、チャンバにろ過された励起ガスを導入するガス分配器とを備えたプロセスチャンバを有する。
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【課題】膜厚を高精度で制御でき、かつ生産性に優れるスパッタ装置及びスパッタ成膜方法を提供する。
【解決手段】チャンバー１２内に基板ホルダー１４が設置されたカルーセル型スパッタ装置において、低屈折率膜形成用と高屈折率膜形成用にそれぞれ通常のマグネトロン２３、３３３とＡＣのマグネトロン２７、３７が併設され、設計膜厚（目標膜厚）の９０％までＡＣのマグネトロンで成膜し、その後、通常のマグネトロンのみで成膜する。成膜中に基板１８の透過率を測定し、その情報を電源にフィードバックすることで、膜厚コントロールを行う。 （もっと読む）

【課題】 鉛及びチタンを含む複合ペロブスカイト型化合物の膜であって、組成が精度良く制御された膜を、スパッタリングによって形成する成膜方法等を提供する。
【解決手段】 鉛及びチタンを構成元素として含む第１のターゲットに電力を供給することにより、第１のターゲットに含まれる成分をスパッタする工程（ａ）と、チタンを基準とした場合に０．５以下又は１．２以上のスパッタリング率を有する元素を構成元素として含む第２のターゲットに電力を供給することにより、第２のターゲットに含まれる成分をスパッタする工程（ｂ）と、第１及び第２のターゲットからスパッタされた成分を、所定の温度に加熱された基板に付着させる工程（ｃ）とを含む。 （もっと読む）

【課題】初期投資コストおよびランニングコストの小さな薄膜生成装置と、これを用いた電子デバイスの製造方法を提案する。
【解決手段】蒸発物質を含んだ蒸発源ＨＥが配置される蒸発空間Ｃ１１と、蒸発物質を加熱し蒸発物質の蒸気を発生する加熱源ＥＢとを有する蒸発室Ｃ１、蒸発室に固着され、圧力調整空間を有する圧力調整室Ｃ２、および圧力調整器に着脱可能に結合され、成膜空間を有する少なくとも１つの成膜室を備えた薄膜生成装置である。圧力調整空間Ｃ２１は、第１、第２ゲートバルブにより蒸発空間と成膜空間にそれぞれ制御可能に連通される。成膜室が圧力調整室Ｃ２に結合され、圧力調整空間が蒸発空間と成膜空間とに連通した状態において、蒸発物質の蒸気に基づき、成膜空間に配置された基板Ｓ５上に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ｐｉｎ接合を有する光起電力素子の製造に際し、高いテクスチャー度を有するが吸着サイトが増加している透明導電層を使用した場合においても、ドーピングガス等が実質的に真性なｉ型半導体層に混入して特性が低下するのを防止して良好な特性を有する光起電力素子を製造できるようにする。
【解決手段】 基板上に透明導電層を形成する工程と、第一の導電型を有する半導体層を形成する工程と、前記透明導電層又は半導体層に吸着した前記第一の導電型を決定する元素の少なくとも一部を基板温度１００〜４００℃で熱処理及び／又はプラズマ処理により脱離させる工程と、前記第一の導電型を有する半導体層の上に実質的に真性な第二の半導体層を形成する工程と、前記第一の導電型とは反対の導電型を有する第三の半導体層を形成する工程をこの順に少なくとも有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法等により蒸着した際に、成膜速度を低減することなくスプラッシュの発生を防止しうる酸化マグネシウム（ＭｇＯ）単結晶蒸着材を得るためのＭｇＯ単結晶、並びに、例えば超伝導特性に優れた超伝導体薄膜を形成しうるＭｇＯ単結晶基板を得るためのＭｇＯ単結晶を提供すること。
【解決手段】 カルシウム含有量が１５０×１０^-6〜１０００×１０^-6kg/kg、ケイ素含有量が、１０×１０^-6kg/kg以下のＭｇＯ単結晶であって、ＭｇＯ単結晶の研磨面をＴＯＦ−ＳＩＭＳにより分析したときのカルシウムフラグメントイオン検出量の変動がＣＶ値で３０％以下であるＭｇＯ単結晶である。また、このＭｇＯ単結晶から得られるＭｇＯ単結晶蒸着材及び薄膜形成用ＭｇＯ単結晶基板である。 （もっと読む）

【課題】 耐久性が高く、さらに、水分阻止能力の高い反射防止膜を備えたレンズを製造する方法を提供する。
【解決手段】 レンズ基材の上に直にハードコート層が形成された反射防止膜を有するプラスチックレンズであって、反射防止膜は、低屈折率の層または中屈折率の層と、高屈折率の層とを含む多層膜であり、高屈折率の層は、少なくとも１つの層は、窒化シリコンの単純化合物からなる層により形成する。反射防止膜の多層膜の１つとして、窒化シリコンの単純化合物からなる層を採用することにより、耐久性が高く、非晶質の窒化シリコンの特性を活かして、レンズ基材やその他の層に対する紫外線および水分の影響を抑制でき、耐熱性および耐光性の高いプラスチックレンズを提供できる。 （もっと読む）

【課題】 高速での乾式切削にも耐え得る、高硬度で耐酸化性等に優れた硬質被膜を基材表面に形成した、切削工具や金型、摺動部材等として好適に用いられる、高硬度材料を提供する。
【解決手段】 基材表面に、マグネシウムを含有するＣｒＮ型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有しビッカース硬さが２５００〜４０００の硬質被膜を形成することにより高硬度材料を構成する。硬質被膜中には、さらに酸素を含有させることが好ましい。また、硬質被膜中のマグネシウムの含有量が、硬質被膜を形成する全元素を基準として０．１〜３０原子％で、マグネシウム原子対酸素原子の比が１：０〜１：１となるように構成することが好ましい。 （もっと読む）