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Fターム[4K029AA24]の内容

物理蒸着 (93,067) | 基体 (14,066) | 形状 (5,788) |  (3,910)

Fターム[4K029AA24]に分類される特許

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真空チャンバ中に物品を載置し、チャンバを排気し、加速イオンで物品の表面を処理し、処理表面上に後に形成する層を接着させる材料層を形成し、グラファイトカソードでパルス電子−アーク放電を開始し、カソード表面に沿って動く複数のカソードスポットから炭素プラズマのパルス流を生成し、物品表面の所定領域に炭素プラズマを収束して超硬質非晶質炭素被膜を形成し、物品温度を、電子−アーク放電パルスの繰り返し周波数を制御することによって200から450Kの範囲内に維持する工程を含む真空中での超硬質非晶質炭素被膜を形成する方法であって、炭素被膜を形成する工程において、炭素プラズマのパルス流が、23から35eVのイオン平均エネルギー、1012から1013cm-3のイオン濃度を有し、炭素プラズマ流の軸が、物品の所定表面に対して15から45°の角度傾斜させ、被膜の形成工程において、物品の温度変化Δtが、50から100Kの範囲内で維持することを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】画素内の膜厚分布のパラツキを低減し、高品位で信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供すること。また、マスク蒸着時の膜厚分布ムラを低減し、高品位で信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】各画素での構成層膜厚の画素内分布のバラツキを±10%以内に収めることで発光の均一性及び信頼性を向上させた。また各構成層を成膜する際の蒸着装置内の平均自由行程を、蒸着源と基板1との最短距離よりも短くすることでマスク蒸着時の膜厚分布ムラを低減し、発光の均一性及び信頼性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、水蒸気バリア性、ガスバリア性に優れたプラスチックレンズ基板を用いて軽量、且つ長時間にわたり発光特性を維持することのできる電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法、及び該方法により構成された電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板、又は有機EL素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 水蒸気バリア層、及びガスバリア層を有する電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方法であって、水蒸気バリア層、及びガスバリア層を少なくとも一対の無機層と有機層とからなる無機/有機積層膜で形成し、且つ有機層を熱化学蒸着法、或いはプラズマ重合法を用いて形成することである。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録媒体表面に塗布される潤滑層において、潤滑剤が保護層に結合するのを阻害する不純物を除くことにより、結合潤滑層を厚くする方法であって、蒸着速度を制御することができる量産にも適した磁気記録媒体の製造方法、並びに製造装置を提供することである。
【解決手段】 基板上に各種の下地層、磁気記録層、保護層および潤滑層が積層された磁気記録媒体を製造する方法において、前記保護層および前記潤滑層を、それぞれ保護層を形成する真空槽および潤滑層を形成する真空槽で連続して形成し、前記保護層を形成する真空槽と前記潤滑層を形成する真空槽とが相互に遮断されており、前記保護層および前記潤滑層を孤立した状態で形成することを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】 処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止することができる枚葉式の処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器32内にて載置台38上に載置された被処理体Wに対して所定の処理を施す枚葉式の処理装置において、前記載置台を浮上させる浮上用磁石機構60と、前記載置台の周縁部に設けた羽根部材44と、前記羽根部材に対して不活性ガスを噴射させて前記載置台に回転力を付与する回転用ガス噴射手段64とを備えるように構成する。これにより、処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止する。 (もっと読む)


【課題】 高い規格化保磁力を有するとともに、熱的な安定性に優れる磁気記録媒体およびその製造方法、並びに磁気記録装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性基体1と、該非磁性基体1上に金属下地層2を介して形成されたコバルト基合金からなる強磁性金属層3とを備える磁気記録媒体10において、保磁力Hcが2000(Oe)以上であり、かつ異方性磁界Hkgrainが10000(Oe)以上であることを特徴とする。また、前記金属下地層2および/または強磁性金属層3が、到達真空度10-9Torr台の成膜室において、不純物濃度1ppb以下の成膜用ガスを用いて成膜されてなるものであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 高保磁力で、熱揺らぎの影響を受けにくく、かつ大幅なS/N比の改善をもたらす磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板上に少なくとも、下地層及び磁性層を順次積層してなる磁気記録媒体において、前記下地層と前記基板との間にプリコート層を介在させ、前記プリコート層がNiとPとを含む下層と、Cr合金からなる上層とを順次積層することにより構成されることを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】 バイアスされた基板支持体上に取りつけられたクランプされた基板の温度を制御する方法を提供する。
【解決手段】 基板支持体は、基板を加熱または冷却するための裏側ガスの流れを可能にする通路を有し、それによって、裏側ガスの圧力が少なくとも15トルに維持される。高いガス圧が基板を横切って処理の厚さの均一性を改善する。スパッタされたシード層のプラズマ堆積のために、シード層の形状は、基板のエッジ近くで改善され、基板を横切る層の均一性も改善される。 (もっと読む)


【課題】平滑度のよいグラニュラ構造の磁性膜を備え、磁気ヘッドとの摩擦が小さく耐久性に優れた磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1上に下地膜2を形成し、その下地膜2上に、強磁性材料と電気抵抗が106 Ωcm以下の非磁性材料との混合物からなるターゲットを用いたスパッタリング法で、あるいは、強磁性材料からなるターゲットと電気抵抗が106 Ωcm以下の非磁性材料からなるターゲットを用いた二元スパッタリング法で、グラニュラ構造の磁性膜3を成膜し、その上に保護膜4を成膜して磁気記録媒体とする。 (もっと読む)


基体を被覆するための装置は、大気圧より低い圧力に維持された蒸着室、前記蒸着室に伴われた二つ以上の拡張性熱プラズマ源(14)を含む一つ以上の配列体、及び各配列体についてオリフィス(15)を含む少なくとも一つの注入器(13)を含む。基体を蒸着室中に配置し、各拡張性熱プラズマ源により中心軸を有するプラズマジェットを生じさせ、同時に注入器によりプラズマ中へ気化反応物を注入して基体上に蒸着された被覆を形成する。注入器オリフィスは、全体的に均一な被覆特性を有する被覆が一般に得られるように、拡張性熱プラズマ源から特定の距離以内に位置させる。
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