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Fターム[4K029AA25]の内容

物理蒸着 (93,067) | 基体 (14,066) | 形状 (5,788) | フィルム、帯、長尺体 (1,214)

Fターム[4K029AA25]に分類される特許

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【課題】酸素バリア性、水蒸気バリア性、遮光性、及び光沢性についてはアルミ蒸着PET等と同等の性能を有し、基材とアルミ蒸着膜との密着性も良好で、かつ、ヒートシール性も有するバリア性積層フィルムの提供。
【解決手段】未延伸ポリオレフィン樹脂フィルム11と、その上に設けられたガスバリア性塗布膜12と、その上に設けられたアルミ蒸着層13と、を備えたバリア性積層フィルム1であって、前記ガスバリア性塗布膜が、一般式:RM(OR(式中、Mは金属原子を表し、R、Rは炭素数1〜8の有機基を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、n+mはMの原子価を表す)で表される少なくとも1種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコール、および/またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得られるアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物からなる。 (もっと読む)


【課題】スプラッシュ現象の発生を抑制し、高いガスバリア性を付与できる蒸着用材料と、その蒸着用材料を用いたガスバリア性蒸着フィルムの製造方法と、その蒸着用材料を用いて蒸着したガスバリア性蒸着フィルムとを提供する。
【解決手段】蒸着用材料は、金属珪素粉末と二酸化珪素粉末と金属銅粉末もしくは酸化銅粉末とを含有した加熱方式の蒸着用材料であって、珪素と銅の合計の原子数に対する酸素の原子数の比が1.0以上1.8以下の範囲内であり、珪素の原子数に対する銅の原子数の比が0.05以上の範囲であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】より効率的な蒸着レートでのSiと金属Mとを含む膜の製造方法を提供する。
【解決手段】Siと金属M(但し、金属MはSi以外の金属である。)とを蒸着源に用いて、柱状構造の集合体を有する膜を基板に蒸着により形成するSiと金属Mとを含む膜の製造方法であって、下記(1)および(2)の条件で蒸着するSiと金属Mとを含む膜の製造方法。
(1)蒸着時の蒸着源の温度が、蒸着源の融点よりも100K以上高い温度であること
(2)蒸着時のSi原子の平均自由行程(λ)が蒸着源−基板間距離(D)よりも小さいこと (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、このような透明繊維複合樹脂シート上に、従前よりも緻密な無機質膜を形成し、ガスバリア性に優れる透明繊維複合樹脂層含有多層シートを製造することができる方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る透明繊維複合樹脂層含有多層シート製造方法では、透明繊維複合樹脂シート又は透明繊維複合樹脂層含有多層シートが加熱されながら透明繊維複合樹脂シートまたは透明繊維複合樹脂層含有多層シートの少なくとも片面上に透明無機質膜が成形される。なお、加熱は、透明繊維複合樹脂シート又は透明繊維複合樹脂層含有多層シートの温度が150度C以上「樹脂成分の劣化温度」以下の温度になるようになされるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】セラミックス充填率が低く尚且つ均質な金属−セラミックス複合材料からなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、セラミックス及びマトリックス金属からなる多孔質焼結体に金属を含浸させてなり、セラミックスがSiC、Al、Siの何れかであり、マトリックス金属及び金属が同種でSi、Al、Cuの何れかであり、セラミックスの充填率が20〜50体積%である金属−セラミックス複合材料からなる。 (もっと読む)


【課題】 キャンロールの外周面とそこに巻き付けられる長尺樹脂フィルムとの間のギャップ部の熱コンダクタンスをほぼ均一にできるキャンロールの製造方法を提供する。
【解決手段】 筒状の基部10とその外周面10a上に設けられた最外周部13とからなり、これら基部10と最外周部13との間に、最外周部13の外周面側に放出するガスを導入する複数のガス導入路14が埋設されたキャンロールの製造方法であって、複数のガス導入路14の位置に、それぞれガス導入路14と略同形状の複数の樹脂体12を配設する工程と、複数の樹脂体12を覆うように基部10の外周面10a上に電気鋳造法で最外周部13を形成する工程と、最外周部13を形成した後に複数の樹脂体12を除去する工程とからなる。 (もっと読む)


【課題】封止膜の形成工程以後に処理対象物が100℃以上に加熱されても、封止膜の表面にしわ(膜異常)が発生しない封止膜形成方法とリチウム二次電池の製造方法を提供する。
【解決手段】
1,3−ビス(イソシアナートメチル)シクロヘキサンと4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアナート)のいずれか一方又は両方からなるイソシアナート材料と、4,4−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)と1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンのいずれか一方又は両方からなるアミン材料とを別々に加熱して蒸気を発生させ、蒸気を処理対象物の表面に一緒に到達させてポリ尿素膜16a2を形成し、アルミナのターゲットをスパッタして、アルミナの粒子をポリ尿素膜16a2が表面に露出する処理対象物の表面に到達させて、ポリ尿素膜16a2の表面にアルミナ膜16c2を形成する。 (もっと読む)


【課題】透明導電層上に金属層が形成された導電性積層体において、金属層をエッチングにより除去した際の透明導電層の抵抗の上昇を抑制する。
【解決手段】本発明の導電性積層体は、透明基材1の少なくとも一方の面に、少なくとも2層の透明導電性薄膜からなる透明導電性薄膜積層体2および金属層3がこの順に形成されている。透明導電性薄膜積層体2において、金属層3に最近接である第一透明導電性薄膜21は、金属酸化物層または主金属と1種以上の不純物金属を含有する複合金属酸化物層であり、第一透明導電性薄膜以外の透明導電性薄膜22は、主金属と1種以上の不純物金属を含有する複合金属酸化物層である。第一透明導電性薄膜21における不純物金属の含有比が、前記透明導電性薄膜積層体2を構成する各透明導電性薄膜における不純物金属の含有比の中で最大ではないことにより、上記課題が解決される。 (もっと読む)


【課題】 層間剥離を生じること無く、またクラックやピンホールが生じないようにすることを可能とした、ハードコートフィルムやガスバリアフィルムを得ることの出来る樹脂層積層体、及びこれを用いた高機能性を有したハードコートフィルムやガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に樹脂層を形成してなる樹脂層積層体であって、前記樹脂層を構成する樹脂が、ポリシラザン系樹脂とシラン化合物系樹脂との混合物であること、を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】少なくとも一方の面に複数の凹凸部を有する長尺シートを用いた場合、凹凸部の一部に蒸着材料を選択的に蒸着することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面に複数の凹凸部を有する長尺シートW1に、一方の面が鉛直方向を含む縦平面に沿い、かつ、搬送方向が縦平面内における水平方向に沿う状態で斜方蒸着を行う斜方蒸着装置であって、一方の面が縦平面以外の平面に沿う、又は、搬送方向が縦平面内における水平方向以外の方向に沿う長尺シートW1を、一方の面が縦平面に沿い、かつ、搬送方向が縦平面内における水平方向に沿うようにする第1搬送方向変更部20と、第1搬送方向変更部20の後段に配置され、凹凸部の一部に蒸着材料を斜方蒸着する斜方蒸着部40とを備える斜方蒸着装置1。 (もっと読む)


【課題】ペン入力耐久性および高温高湿信頼性に優れる透明導電体層を有する透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面に少なくとも1層のアンダーコート層を介して、透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電体層は、厚さdが15〜35nmであり、平均表面粗さRaが0.37〜1nmであることを特徴とする透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】長時間にわたって樹脂膜を成膜する場合においても、加熱部材の表面に付着・堆積する残渣の発生量を抑制すること。
【解決手段】基材上に樹脂膜を成膜する際に、加熱された加熱部材10の表面に、液状の樹脂原料30を供給することにより、液状の樹脂原料30を気化させる気化工程を、少なくとも実施し、かつ、加熱部材10が、金属製の加熱部材本体12と、加熱部材本体12の表面の少なくとも一部を覆う撥油性の層14とを有する成膜方法。 (もっと読む)


【課題】生産性を高めることができるとともに均一な蒸着膜を形成することができる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】フィルムFを外周に沿わせて連続的に送る冷却ドラム21を備え、このフィルムFの外周側に、有機材料を加熱して蒸発させるとともに放出させて当該フィルムFに負圧下で蒸着させる蒸発源31を4基配置した真空蒸着装置1であって、上記蒸発源31のうち、第1蒸発源31Aおよび第2蒸発源31Bは、同一の有機材料を蒸着させるものであり、上記第1蒸発源31Aは蒸発させた有機材料の放出量を調整し得るバルブ駆動部33を有せず、第2蒸発源31Bは当該バルブ駆動部33を有するものであり、上記第1蒸発源31Aおよび第2蒸発源31B以外の他の蒸発源31C,31Dは、上記バルブ駆動部33を有するものである。 (もっと読む)


【課題】可視光域の透過性がよく、水蒸気バリア性にも優れるガスバリアフィルムの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】長尺の基材フィルム1に対向配置させた1組又は2組以上のデュアルターゲット42を備えた反応性マグネトロンスパッタリング装置20を用い、その装置20内の成膜圧力を0.05Pa以上0.12Pa以下とし、デュアルターゲット42を構成する各ターゲット43,43の法線方向の磁束密度を基材フィルム1の幅方向(TD方向)で250G以上として、基材フィルム1を移動させながら基材フィルム1上に酸化珪素膜2を成膜する、ガスバリアフィルム10の製造方法によって、上記課題を解決した。デュアルターゲット42には交流波形又はパルス波形の電圧を印加することが望ましい。 (もっと読む)


【課題】ロール・ツー・ロールで搬送される長尺の樹脂フィルムの両面に金属薄膜を成膜する場合に、第1の面の金属薄膜の表面と第2の面の金属薄膜の表面とがくっつくことによる、しわ、膜剥がれ等の不具合を防ぐことができ、両面積層基板の生産効率を低下させることのない金属薄膜積層基板の製造方法を提案する。
【解決手段】長尺のフィルム基板Fの両面に金属薄膜を真空成膜により成膜したのち、該金属薄膜の少なくとも一方の金属薄膜の表面に金属酸化物の薄膜を形成し、その後金属薄膜積層基板Fをロール状に巻き取ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】シール装置で基板や蒸着膜を傷つけることなく、高品質の蒸着膜を連続的に得られる連続真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板Kをその長さ方向に送ることで連続的に基板Kを真空容器6に通過させて、真空容器6の内部で連続的に基板Kに蒸着を行う連続真空蒸着装置であって、基板Kを真空容器6の内部から外部に導く下流側開口部に、基板Kを通過させるとともに真空容器6の内部を気密にし得るシール装置60が設けられ、シール装置60が、基板Kの表裏面との間に隙間を有して配置されたシール部63と、シール部63に保持されて隙間を密封する磁性流体69とを備える。 (もっと読む)


【課題】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートを用いた場合に、凹凸形状のうち一部に蒸着材料を選択的に蒸着することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートW1における凹凸形状の一部に、蒸着材料Mを選択的に蒸着する蒸着装置であって、長尺シートW1を搬送する搬送部20と、蒸着時において蒸着材料Mを収容し加熱する蒸着源30と、蒸着材料Mの放出方向を制限する放出方向制限部40とを備えることを特徴とする蒸着装置1。 (もっと読む)


【課題】ロールツーロール技術において、作業の効率化、或いは、改善を更に図った成膜方法を提供する。
【解決手段】長尺の基体10に連続的に真空成膜を行う方法であって、ロール状に巻かれた長尺の基体を第1ロール室W1から第2ロール室W2へ向う第1の方向に第1ロール室から繰り出す段階、第1の方向に繰り出された基体を脱ガスする段階、脱ガスされた基体の面に第2成膜室42において第2の膜材料を成膜する段階、第2の膜材料が成膜された基体を第2ロール室で巻取る段階、第2ロール室で巻き取った基体を第2ロール室から第1ロール室へ向う第2の方向に第2ロール室から繰り出す段階、第2の方向に繰り出された基体の面に第1成膜室41において第1の膜材料を成膜する段階、第2の膜材料の上に第1の膜材料が積層された基体を第1ロール室で巻取る段階、を備える。 (もっと読む)


【課題】ロールツーロール技術において、作業の効率化、或いは、改善を更に図った成膜方法を提供する。
【解決手段】第1基体を第1ロール室から第2ロール室へ向う第1の方向に第1ロール室から繰り出す段階、第1基体を脱ガスする段階、第1基体に第2成膜室で第2の膜材料を成膜する段階、第1基体を第2ロール室で巻取ることにより第1基体を生成する段階を備え、更に、第2ロール室から第1ロール室へ向う第2の方向において第2基体を生産するために同様の動作を行う。ここで、第2の膜材料が成膜された第1基体を生成するにあたり、第1成膜室の第1カソード電極が第1成膜室から取り除かれ、また、第1の膜材料が成膜された第2基体を生成するにあたり、第2成膜室の第2カソード電極が第2成膜室から取り除かれる。 (もっと読む)


【課題】 中心磁極と外周磁極の間に中間磁極を配置した磁気発生機構を備え、スパッタリングターゲットの局所的な侵食を低減させ、使用効率を大幅に向上させたマグネトロンスパッタリングカソードを提供する。
【解決手段】 ターゲット表面の磁束密度について、領域A内で中心磁極12からターゲット端部への垂直磁束密度が−50〜+50ガウスの範囲で連続する長さを短辺長さの0.07倍以上に調整する。また、領域Aの長辺方向の中央での中心磁極12からターゲット端部への水平磁束密度の絶対値の極小値を両端での水平磁束密度の絶対値の極小値の0.95〜1.4倍の範囲とし、領域Bの短辺方向の中央での中心磁極12の水平磁束密度の絶対値を垂直磁束密度の絶対値の0.4倍以下とする。 (もっと読む)


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